基本情報
| ブース | L0407 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.kanaue.com |
会社概要
KANAUE APPLIED MATERIAL CORP.は2007年4月に、創造性、技術力、豊富な産業経験を備えたチームによって設立されました。 創業初期は生産設備用の治具や固定具を中心に手掛け、顧客の装置改善プロジェクトを通じてワーク技術の基盤を築きました。 表面検査装置に対する市場需要を把握した後、人材、資金、時間を大きく投入し、卓上型、縦型、携帯型などの一連の検査システムを開発しました。 KANAUE APPLIED MATERIAL CORP.は、半導体、TFT-LCD、LED、オプトエレクトロニクスのメーカー向けに、装置、治工具・予備部品、代替材料、クリーンルーム消耗品を設計、製造、販売、サービスしています。 専門チームはハイテク産業での豊富な経験を持ち、国内外の顧客向けに代替材料や装置開発のプロジェクトを主導してきました。 台湾では新竹と台南に2つの子会社を配置し、半導体、TFT-LCD、LED、オプトエレクトロニクス産業の顧客を迅速に支援しています。 同社はIntegrity、Conscientiousness、Unity、Sharingを中核価値として掲げ、従業員の価値と社会的責任も重視しています。 差別化されたシステム、製品、サービスを通じて、歩留まり向上、生産性向上、品質改善、保有コスト低減といった長期的な顧客効果を掲げています。 また、省エネルギーと炭素削減を含む環境施策を進め、高効率・低汚染のLNDおよびLED照明を導入するとともに、照明製品を通じてより広い一般消費市場への展開も図っています。
展示製品
光学検査の製品群は、AOI光学検査、カメラ、レンズ、光源、画像処理ソフトウェア、関連部品、光ファイバー、目視光学検査、光学測定機器を含みます。 光源・ランプの製品群には、ハロゲン加熱管とハロゲンランプ、RTPランプ、EPIランプ、キセノンランプ、水銀ランプ、短アーク・長アーク水銀ランプ、重水素ランプ、低圧・高圧ナトリウムランプ、メタルハライドランプ、ストロボキセノンランプ、無電極ランプ、校正用光学標準ランプ、ソーラーシミュレータランプ、各種光学反射鏡・フィルター、172 nmエキシマランプ、レーザー管、イエロープロセスLED管、254 nm殺菌ランプ、赤外線加熱管があります。 脆性材料と精密加工の製品には、研削砥石、ガラス切断ホイール、両面研磨用鋳鉄プレートとキャリアギア、真空セラミックチャック、精密セラミックス、サファイア基板、窒化アルミニウム基板、石英材料、ダイヤモンド金属・樹脂ボンドシリーズ、精密切断ブレード、砥石、特殊同軸ケーブル・ワイヤーハーネス、ウェーハ裏面保護フィルムがあります。 化学、静電気、粉塵対策の製品には、特殊ガス、ケミカルフィルター、薬液・化学ガス漏れ検知、カスタム化学材料、研磨スラリー、静電可視化、粉塵可視化、粉塵カウンター、電気集塵器、針先放電式・X-Ray式イオナイザー、静電測定器、空気除霧装置があります。 半導体・ファシリティ関連では、再生シリコンウェーハ、石英板、るつぼ、石英リング、カスタム石英製品、石英透過率検査、スマートスクリュー、ESG省エネPump、VSP電圧降下保護装置、ESG省電力電流ゲイナー、AOIフラッシュ電源コントローラ、ウェーハ検査用白色光共焦点装置、Thermal Air Wafer ID Reader、半導体用ヒーティングジャケットも掲載されています。 SES-PEGASUS Lampは台湾製の高出力ハロゲン加熱ランプで、半導体および産業用加熱装置向けに208V、1500Wと2000Wの2仕様を用意し、真空チャンバーや精密プロセスに対応します。 強化石英管と最適化フィラメントにより均一な赤外熱場と高い赤外変換効率を狙い、寿命は2000時間超とされ、効率維持のため500時間ごとの石英管清掃が推奨されています。 1500Wは小型チャンバーまたは低温プロセス向け、2000Wは高温のEPI・CVDプロセス向けで、製品ページでは熱場均一性±1°Cも示されています。 交換用途では、電源ソケットと仕様を確認すればAMAT Centuraシリーズの寸法・インターフェースに適合するとされ、AMATまたはUSHIOランプの代替用途も示されています。 構成時には208V三相電源とSCR温度調節器の適合性を確認し、保守では輝度低下の監視、シール確認、予備品在庫、予防保全計画が案内されています。 石英ベースはSiO₂純度99.99%以上の高純度石英ガラスを精密加工した長尺平板構造で、両端の固定ねじ穴により装置フレームや支持構造へ固定できます。 長期使用温度は1100°C以下とされ、極めて低い熱膨張、強酸・強アルカリ・腐食性プロセスガスへの耐性を備え、高温下で寸法と位置決めの安定性を維持します。 用途は、半導体プロセス装置の固定ベース、光学部品支持基板、高温炉管内部支持、ウェーハ位置決め・搬送構造、精密機器位置決め基板、CVDチャンバー支持部品です。 長さ、幅、厚さに加え、装置図面に基づくねじ穴位置、穴径、間隔まで装置要件に合わせてカスタマイズできます。 選定では、900°Cを超える高温炉管条件、腐食性ガスや強酸を含む環境、一般的な高温支持用途を区別し、板厚と石英グレードを確認します。 石英多孔板はSiO₂純度99.99%以上の高純度石英ガラスを用い、基本形状はカスタム可能な円形板で、精密穴あけによる均一配列とし、穴径・穴間隔を調整できます。 ガスまたは液体を均一に分散する拡散板として流体を各穴へ均一に通し、CVDガス分散、ウェーハ洗浄薬液噴霧、拡散炉管の気流制御、ALD、精密ろ過に使用されます。 長期使用温度は1100°C以下とされ、強酸、強アルカリ、腐食性ガスへの耐性と高い清浄性により、プロセスガスやウェーハ表面への金属イオン汚染を避ける用途に適します。 プロセスやチャンバー要件に応じ、穴径、穴間隔、穴数、板寸法を変更でき、円形以外の異形形状もカスタム加工できます。 選定はガス・液体流量、板寸法・形状、使用温度、プロセスガス・液体の種類に基づき、腐食性ガスや強酸環境には高純度合成石英が示されています。 石英るつぼはSiO₂純度99.99%以上の高純度石英ガラス製で、上部が開口した円筒形厚肉構造を採用し、内外壁を均一に研磨しています。 長期耐熱は1200°C以下、短期は1400°C以下とされ、急速な昇降温サイクルに耐える耐熱衝撃性と腐食性薬品への耐性を備えます。 半導体シリコンウェーハの結晶成長、高温材料の溶融・精製、研究室での高温灼熱分析、貴金属の溶解・精製、高純度材料合成、TGA試料容器などに使用されます。 複数の標準容量を用意し、必要容量、温度、材料純度、熱サイクル条件に応じて直径、高さ、肉厚をカスタマイズできます。 半導体や高純度材料プロセスには高純度合成石英を選び、頻繁な急速昇降温では耐熱衝撃グレードと肉厚を確認するよう案内されています。 石英ベルジャーはSiO₂純度99.99%以上の高純度石英ガラス製で、半円弧ドーム形状の上部中央に配管やセンサー用開口を備え、内外壁を精密研磨したすりガラス仕上げです。 均一で厚い壁面により断熱と光散乱を行い、長期使用温度は1100°C以下、強酸・強アルカリ・腐食性プロセスガスへの耐性が示されています。 半導体エピタキシャル成長装置の保護カバー、CVDプロセス断熱カバー、高温ランプ保護チャンバー、ウェーハ加熱均熱カバー、高温プロセス隔離保護、拡散炉管断熱部品に使用されます。 ベルジャーの直径、高さ、肉厚、表面処理、上部開口の直径・位置は、装置チャンバー、配管、センサー要件に合わせてカスタマイズできます。 均熱用途では、すりガラス研磨面が加熱ランプの放射熱をチャンバー内へより均一に散乱させ、光学的な透視が必要な場合は透明研磨を選択できます。 石英ウェーハボートはSiO₂純度99.99%以上の高純度石英ガラスを精密加工し、多段の櫛歯状等間隔スロットと底部支持脚で炉管や装置チャンバー内へ安定配置します。 4インチ、6インチ、8インチ、12インチウェーハに対応し、仕様により25～200枚を搭載でき、バッチ要件やプロセスガス流に応じて搭載枚数とスロット間隔をカスタマイズできます。 長期使用温度は1200°C以下で、拡散、酸化、LPCVD、アニール炉に対応し、一定のウェーハ間隔により各ウェーハへ均一な熱とガスを供給します。 清浄度は半導体グレード、ゼロ粒子汚染とされ、高純度石英はウェーハプロセスの清浄度や膜品質に影響する金属イオンを放出しないと説明されています。 長期使用後に表面の曇りが生じる場合は、清浄度とプロセス品質維持のため定期的な酸洗浄または再研磨が推奨され、ボートの洗浄・修理サービスも提供されています。 石英ウィンドウは高純度合成石英ガラスを用い、円形・矩形の2系列、光学グレード両面研磨、高い平面度を備え、185 nmの深紫外から近赤外まで高い透過性を持ちます。 低複屈折、高レーザー損傷閾値、長期1100°C以下の耐熱性を備え、レーザー透過、分光分析、精密測定、UV硬化、半導体チャンバー光学窓に使用されます。 UVエキシマやNd:YAGなどの高出力レーザー、偏光感応光学系、干渉測定、精密光学機器のレンズ基板にも対応します。 使用波長に応じ、単層または多層の反射防止膜を表面へ形成し、表面反射損失を低減してシステム透過率を高めることができます。 標準の円形・矩形サイズに加え、直径、辺長、厚さ、面取り、光学平面度、表面精度を光学系やチャンバーのインターフェースに合わせてカスタマイズできます。 カスタム石英部品は高純度合成石英ガラスまたは天然溶融石英を用い、SiO₂純度99.99%以上で、異形部品、平板、円形ウェーハキャリア、多部品組立品に対応します。 長期使用温度は1100°C以下、短期は1300°C以下で、酸、アルカリ、腐食性ガスへの耐性を持ち、半導体プロセス、光学系、高温反応環境に使用できます。 光学透過はUVから近赤外まで対応し、表面は光学グレード研磨まで可能で、光学用途や精密検査用途に適します。 異形切断、穴あけ、溝加工、研磨を含むカスタム加工が可能で、顧客図面や2D・3D形状に従って寸法と穴配置を製作します。 材料と仕上げは使用温度、波長範囲、形状寸法、表面精度で選択し、高純度やUV透過には合成石英、一般高温や可視光用途には天然石英を使い分けます。 石英ウェーハパドルはSiO₂純度99.99%以上の高純度石英製キャリアで、U字フォーク構造と底部ねじ穴によりロボットアームや自動化装置へ接続します。 4インチ、6インチ、8インチ、12インチウェーハ向けにカスタマイズでき、長期使用温度は1100°C以下で、ウェーハ搬送、CVD、拡散炉、酸化炉搬送、半導体自動化ラインに対応します。 高純度石英は精密加工・洗浄後、通常の使用条件で金属イオンを放出せず粒子汚染を発生しないと説明され、ウェーハプロセスの清浄度と歩留まりを支えます。 パドル寸法と底部取付穴の位置、径、間隔は装置インターフェース図面に基づいてカスタマイズし、既存搬送システムへ接続できます。 900°Cを超える高温炉プロセスでは石英グレードと肉厚設計を確認し、前工程半導体用途では合成高純度石英が選定対象として示されています。 赤外加熱製品は750 nm～1 mmをカバーし、短波0.75～1.4 μm、中波1.4～3 μm、長波3～1000 μmの各シリーズに加え、単管、双管、3D輪郭加熱、モジュール、システム、セラミック反射板を用意します。 石英双管ラジエーターは約3秒でピークへ到達し、1～3秒の昇温・降温応答、50～200 W/cm²の高出力密度を持ち、中間熱媒体を不要とする直接放射加熱により約50%の省エネルギーを示します。 波長は材料の吸収特性に合わせ、短波はガラス・金属、中波はプラスチック・木材、長波は食品・コーティング向けで、例としてプラスチック1.8 μm、インク2.5 μm、ガラス1.2 μmが示されています。 セラミック反射板はAl2O3基材で、0.8～5 μmにおける反射率98%超、1400°Cで変色しない耐熱性を示し、90%超のエネルギー利用率と集光・均一加熱を支えます。 選定では50～2000 mmの管長、出力密度、反射板の組合せ、周囲温度を50°C未満に保つ換気、波長に応じた3000～10000時間の想定寿命も確認します。 代表用途はインク乾燥、UVコーティング予熱、熱成形・溶着、フィルム乾燥、ガラス硬化で、印刷やプラスチックでは高速な直接加熱と深部への熱浸透の両方が必要な場合にIRと熱風の併用が示されています。 ARTCAM-487UVはSony Semiconductor SolutionsのIMX487 CMOSイメージセンサーを搭載する高感度産業用UVカメラで、200～400 nmの紫外域をカバーし、可視光では不足する対象を低ノイズ・高画質で撮像します。 IMX487は2.74 μmの画素サイズと、2/3インチセンサーフォーマットのクラスで最高の有効画素数を備えると説明されています。 用途は半導体検査、材料選別、微小傷・表面不規則の検出、インフラ検査、ライフサイエンス研究です。 既存のマシンビジョンシステム、画像ソフトウェア、生産ラインへ統合でき、レンズ、光源、フィルターと組み合わせてUV光学検査システムを構成できます。 選定では200～400 nm内の必要波長、欠陥サイズと解像度、材料・照明特性、作動距離、視野、設置スペース、既存ソフトウェアや装置環境との互換性を確認します。
対応領域・製品
- 生産設備用治具・固定具の製作
- 卓上型・直立型・携帯型の表面検査装置
- AOI自動光学検査
- 目視光学検査
- 光学測定機器
- 画像処理ソフトウェア
- ハロゲン加熱ランプ
- RTPランプ
- EPIランプ
- キセノンランプ
- 水銀ランプ
- 重水素ランプ
- 校正用光学標準ランプ
- ソーラーシミュレータランプ
- 172nmエキシマランプ
- 254nm殺菌ランプ
- 赤外線加熱ランプ管
- ガラス切断ホイール
- 真空セラミックチャック
- サファイア基板
- 窒化アルミニウム基板
- 精密切断ブレード
- 薬液漏れ検知
- 化学ガス漏れ検知
- カスタム化学材料
- 研削・研磨スラリー
- 粉じん粒子カウンター
- 電気集じん機（EPF）
- 静電除去装置
- 再生シリコンウェーハ
- 石英透過率検査
- ウェーハ白色光共焦点検査装置
- Thermal Air Wafer ID Reader
- 半導体ヒーティングジャケット
- 石英ベースのカスタム加工
- 石英多孔板のカスタム加工
- 石英るつぼのカスタム加工
- 石英ベルジャーのカスタム加工
- 石英ウェーハボートのカスタム加工
- 石英ウェーハボートの洗浄・修理
- 石英ウィンドウのカスタム加工
- 石英ウィンドウの反射防止（AR）コーティング
- 石英部品の切断・穴あけ・溝加工・研磨のカスタム加工
- 石英ウェーハ搬送パドルのカスタム加工
- 750nm～1mm赤外線加熱システム
- 200～400 nm産業用UVカメラ