At a glance
| Booth | N1166 |
| Country | TW |
| Product categories | Heating; Annealing; Curing Equipment - Furnaces; Conveyors; Ovens; Test Chambers; Heat Treating · Thermal Processing - Diffusion; Oxidation; Annealing; RTA; RTP Equipment |
| Website | www.jtektthermos.com/tw |
Company profile
Introducing heat treatment equipment for following material - φ8 inch SiC wafer (Activation, oxynitriding and contact annealing) - GaN wafer - IGBT wafer - MEMS Showing very excellent performance of temperature uniformity for following process - Heat treatment for latest packaging technology, "FO-PLP" - Wet-oxidation at low temperature process for "VCSEL" Demonstration test is available. So please come to our booth P5922 and ask us it. JTEKT THERMO SYSTEM English website: https://www.jtektthermos.com/
Exhibits
在電子研發設備領域，我們推出符合從大型生產系統到小型電動爐和烤箱的各種需求的眾多產品，這些產品採用我們自成立以來累積的大量技術和專有技術。我們提供出色的熱回應、準確的溫度曲線、節能和詳細的客製化，並將日常生產車間的維護、安全等方面濃縮到我們的產品中。隨著設備繼續向更高密度和更高複雜性發展，我們將持續推出能為未來做出貢獻的熱技術。 具有過熱水蒸氣氣氛的製造設備，可滿足各種需求。過熱水蒸氣是無色透明的高溫蒸汽氣體 (H2O)，透過獲得在100°C 蒸發的飽和蒸汽並將其加熱到更高溫度而產生。因為其比熱高於熱空氣並產生輻射效應，所以能快速、均勻地加熱。也可以在低氧氣氛中進行處理 (殘留氧濃度為20 ppm或以下)。 應用:飽和蒸汽可用於MLCC、LTCC、靜電吸盤等電子、陶瓷元件的脫脂、燒製，金屬元件的乾燥、脫脂。 應用:這些產品可用於MLCC、LTCC和電感器的燒製、厚基板的燒製、電極乾燥、釬焊、玻璃密封和鐵氧體燒結等應用。 熱風循環系統使烤箱具有卓越的均熱效能。能對殘留氧氣濃度為20 ppm或以下的氮氣氣氛進行處理。產品系列包含惰性氣體烤箱和100級清潔度的潔淨烤箱。 這些連續式烤箱利用潔淨烤箱技術進行FPD生產和實驗。這些產品用於電子元件、磁盤、玻璃環氧樹脂基板 (環氧樹脂/玻璃層壓基板)，以及薄膜乾燥、固化和退火。
Capabilities and products
- FO-PLP packaging heat treatment
- SiC wafer activation, oxynitriding and contact annealing equipment
- diffusion, oxidation, annealing, RTA and RTP thermal processing equipment
- heat treatment equipment for GaN wafer
- heat treatment equipment for IGBT wafer
- heat treatment equipment for MEMS
- heat treatment equipment for φ8 inch SiC wafer
- low-temperature wet-oxidation for VCSEL