基本情報
| ブース | K2164 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.ics-tech.com.tw |
会社概要
ICS Technology Co., Ltd.は1997年3月に設立され、資本金は2.7億元で、工場とオフィスビルは新竹県竹北市にあります。台湾、東南アジア、中国本土の半導体、photonics、display、関連electronics industries向けに、設備製造、設備代理、market development、facility engineering、after-sales technical supportを提供しています。ICS Technology Co., Ltd.は半導体産業向けのmanufacturing tools、equipment、measuring instruments、PM servicesも提供し、台湾と中国のphotonicsおよびTFT-LCD industriesへ製品、材料、after-sales servicesを供給しています。製品・材料ラインには、GASSMITH GS-080、GS-200、GS-400、EZM-110などのiCS Catalytic Waste Gas Abatement Equipment、BASF Catalyst、Solvaysolexis FomblinとGalden PFPE、AmProfilm SLR Film、Hirota SSD Evaluation Tool、UNICのdisplay-related equipmentおよびsemiconductor-related equipmentが含まれます。また、absorbent refill services、facility piping engineering、dispersion head cleaning services、Class 10およびClass 1000 clean-room facilitiesでのtesting servicesも提供しています。ICS Technology Co., Ltd.はgas-abatement systems用の自社製造工場と生産ラインを持ち、dry-scrubber、wet、thermal-wet、burn各タイプを扱い、設備展示と試験用のClass 10およびClass 1000 clean roomsも備えています。自社開発のadsorption-type waste-gas treatment equipmentは半導体、photonics、panel、LED、solar industriesで使用され、arsineやphosphineなどのtoxic gasesとその他のwaste gasesを処理し、処理効率は99%以上とされています。さらに顧客要件に応じたcustomized waste-gas treatment equipmentも提供します。同社はSolvayのvacuum oilsとrefrigerantsを独占代理し、台北、新竹、台南、上海にオフィスを設けて顧客サービスを行い、Micron、UMC、VISなどからの認知も記載しています。2004年には「ISO09001品質システム認証」と「ISO14001環境管理システム検証」の合格証書を取得しました。
展示製品
乾式吸着装置はAsH3、PH3、BF3などのtoxic gasesを処理し、処理効率99%以上、室温運転、廃水を発生しないことが記載されています。利用可能な構成には、2本の200L薬剤ドラムで停止せず運転できる構成、1本の200Lドラム構成、施設側向けの簡易型で1本の100Lドラムを使用する構成、1本の80Lまたは40Lドラムを使用する施設側向け構成が示されています。GS080とGS040はtoxic-gas treatment向けのdry adsorption systemsで、GS080は80L adsorption drum、GS-040は40L adsorption drumを使用し、製品ページには99.95%のadsorption rate、MTBF>2000hr、MTTR<2.5hrが記載されています。GS080/GS040の特徴は、PLCによるgas detectorsとその他control componentsの統合、PLCとtouch-panelの一体設計、小流量の多様なガスへの対応、小さな設置空間に適したcompact footprintです。オプションにはblower、color-change viewing window、remote monitoring、motor monitoring systemがあります。GS080/GS040ページに記載された処理対象には、AsH₃、PH₃、BF₃、SiH₄、GeH₄、DCS、TCS、Cl、HCl、HF、F₂、NH₃、TDMAT、BCl₃、WF₆、TEO5、SiF₆、NO、CO、H₂S、TMGa、TMIn、TMAI、IPA、酢酸、アルコール類、有機酸が含まれます。ハードウェア要件として、DN40 KF gas inletおよびoutlet flanges、208V/60Hz 3Φr15ampsのMain Power、Swagolok 1/4"で85-115psiのN2が記載されています。GS-040とGS-080はいずれも幅420 mm、奥行700 mm、高さ650 mmで、GS-040は40(L)のS040LA adsorption drumと直径360 mm、GS-080は80(L)のS080LA adsorption drumと直径420 mmが記載されています。これらのdry adsorption systemsに加え、ICS Technology Co., Ltd.はcatalytic waste-gas abatement equipment、facility piping engineering、absorbent refills、dispersion head cleaning、PM services、さらにsemiconductorおよび関連製造環境向けClass 10/Class 1000 clean-room testing supportを提供します。
対応領域・製品
- 半導体製造ツール・計測機器供給
- 半導体PMサービス
- 触媒式排ガス処理装置
- 乾式吸着有毒ガス処理装置
- ファシリティ配管エンジニアリング
- 吸着剤リフィルサービス
- dispersion head洗浄サービス
- Class 10/1000クリーンルーム試験サービス
- 真空油代理(Solvay)
- 冷媒代理(Solvay)
- BASF Catalyst供給
- Fomblin/Galden PFPE供給