기본 정보
| 부스 | R7724 |
| 국가 | DE |
| 웹사이트 | heidelberg-instruments.com |
회사 소개
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH는 1984년에 설립되어 고정밀 레이저 리소그래피 시스템, 마스크리스 얼라이너 및 나노패브리케이션 도구를 설계, 개발 및 생산합니다. 산업계와 학계에 서비스를 제공하며 전 세계에 1,500대가 넘는 시스템이 설치되어 있고 마이크로·나노 제조용 첨단 리소그래피 및 직접 쓰기 기술에서 40년 이상의 경험을 보유하고 있습니다. 제품 포트폴리오는 연구개발 및 소량 생산용 소형 탁상형 시스템부터 대량 생산용 첨단 포토마스크 제조 장비까지 이어집니다. 고해상도 2D 구조화와 그레이스케일 리소그래피를 이용한 복잡한 2.5D 토포그래피 형성을 지원하며 정밀도, 유연성, 자동화를 결합해 개발 비용과 출시 기간을 줄입니다. 응용 분야에는 포토닉스, 전자 및 센서, 반도체 및 첨단 패키징, 디스플레이, 양자 소자, MEMS, 미세유체, 2D 소재 및 포토마스크 생산이 포함됩니다. 반도체 제조와 연구에서는 개발부터 생산까지의 리소그래피 공정을 지원하며 산업용 마스크리스 얼라이너는 GEM300을 지원하는 SECS/GEM 및 OPC/UA를 통해 장비 실행 시스템과 통합되어 레티클 제작, 마스크리스 노광, 적응형 패터닝, 다층 소자 및 첨단 패키징 정렬에 대응할 수 있습니다. Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH는 전 세계 약 400명을 고용하고 독일에 본사를 두며 일본, 한국 및 미국에 자회사를 두고 있습니다. 독일, 스위스 및 중국에서 Process and Application Labs를 운영하고 LAB14 Group에 속하며 중국과 대만 시장에서는 Stella Technology Co., Ltd.가 독점적으로 대표합니다.
전시 제품
제품 범위에는 고정밀 레이저 리소그래피 시스템, 마스크리스 얼라이너 및 나노패브리케이션 도구가 포함되며 MLA 300은 대량 생산용 마스크리스 얼라이너이고 ULTRA는 반도체 마스크 라이터입니다. ULTRA는 성숙 반도체 노드용 고처리량·고정밀 포토마스크 기록 장비로 마이크로컨트롤러, 전력 관리 IC, LED, IoT 기기, 포토닉스 및 MEMS용 포토마스크를 생산합니다. 첨단 노광 엔진과 최적화된 기록 모드는 마스크 기록 시간을 줄여 표준 6인치 포토마스크를 45분 미만에 기록할 수 있으며 SLM 기반 노광 엔진은 최대 580 mm²/minute의 기록 속도를 제공합니다. 완전 자동 마스크 핸들링은 연속 운전을 위해 일관되고 반복 가능한 로딩과 언로딩을 제공하며 최적화 기록 모드는 작업 요구에 따라 속도 또는 해상도를 우선할 수 있습니다. 완전 에어베어링 스테이지, 열팽창이 없는 ZERODUR® 척, 고해상도 차동 간섭계, 스테이지 보정 및 장비 매칭 기능이 오버레이, 정합, Critical Dimension 균일도, 안정성 및 반복 가능한 형상 배치를 지원합니다. 맞춤형 고 NA 기록 광학계와 저왜곡 UV 광학계는 500 nm까지의 구조를 지원하며 컴팩트한 설치 면적은 기존 마스크숍 클린룸에 쉽게 통합할 수 있도록 설계되었습니다. ULTRA는 높은 노광 속도를 유지하면서 복잡한 형상과 고밀도 패턴 및 원형 형상을 처리할 수 있으며 크롬의 직경 5 µm 원과 600 nm 선폭, 700 nm 크롬 구조, 1 µm 크롬 선, 500 nm 기울어진 선과 공간, Si 웨이퍼의 IP3250 레지스트 내 500 nm 고밀도 홀, 550 nm 양성 레지스트의 도파관 패턴 등의 예가 있습니다. 500 nm 기울어진 선과 공간 예시는 SAW 필터, 인쇄 회로 및 광학 격자와 같은 포토닉 구조 응용과 관련됩니다. QX와 FX 모드의 기술 데이터는 각각 주소 그리드 4/10 nm, 선단 거칠기 20/40 nm, 위치 정확도 40/80 nm, 오버레이 30/60 nm, 스티칭 20/60 nm, 2차층 정렬 최대 오차 100/100 nm, CD 균일도 30/60 nm, 최소 형상 크기 500/700 nm, 기록 속도 325/580 mm²/min, 6인치 x 6인치 기록 시간 75/45분을 제시합니다. 운영 기능에는 SEMI 준수 GUI, 최대 228 x 228 mm² 기록 영역과 요청 시 다른 크기, 4·5·6·7·9인치 마스크 및 요청 시 더 큰 마스크와 기타 기판 지원이 포함됩니다. 광학 및 레이저 시스템에는 0.9 NA 대물렌즈, 저왜곡 UV 광학계, 자동 보정 루틴, 파장 355 nm의 고출력 다이오드 펌프 고체 레이저가 포함됩니다. 초점 및 정렬 기능에는 실시간 광학 자동초점, 카메라 시스템, 왜곡 보정, 전역 및 필드별 정렬, 에지 검출기가 포함됩니다. 데이터 경로는 실시간 압축, 확장 가능한 하드웨어 개념, GDSII와 Jobdeck을 포함한 표준 입력 형식, 350 kHz로 동작하며 2.4 GB/s 데이터 속도를 제공하는 Spatial Light Modulator를 지원합니다. 자동화 기능에는 최대 9인치 마스크를 처리하는 두 개의 캐리어 스테이션을 갖춘 완전 자동 마스크 핸들링과 선택형 SECS/GEM 프로토콜이 포함됩니다. 시스템과 전자 랙의 폭은 각각 2995/800 mm, 깊이는 1652/650 mm, 높이는 2102/1800 mm, 무게는 3400/180 kg이며 설치 조건은 400 VAC ± 5%, 50/60 Hz, 16A, 3상 전원과 오일이나 기타 잔류물이 없는 7~10 bar 압축 공기입니다.
역량 및 제품
- 고정밀 레이저 리소그래피 시스템
- 마스크리스 얼라이너
- 나노패브리케이션 도구
- 그레이스케일 리소그래피 기반 복잡한 2.5D 형상 제작
- 성숙 반도체 노드용 고처리량 포토마스크 기록
- 6인치 포토마스크 45분 미만 기록
- 포토마스크 기록 속도 최대 580 mm²/min
- 500 nm 구조까지 포토마스크 기록
- SECS/GEM·GEM300 장비 통합
- GDSII/Jobdeck 포토마스크 데이터 입력