기본 정보
| 부스 | T9039 |
| 국가 | CN |
| 웹사이트 | www.swgases.com |
회사 소개
Hefei SHAREWIN Semiconductor Material Co., Ltd.는 산업용·전자용 가스의 연구개발, 생산, 저장, 운송 및 관련 서비스를 수행합니다. 본사와 사업개발센터는 허페이 신잔 첨단기술구 화학산업단지에 있으며 BOE, Visionox, Nexchip 인근에 있습니다. 허페이 페이둥과 루안 예지에 생산기지를 운영하며 안후이성 우후에도 생산 시설을 보유합니다. 제조 공정은 합성, 흡착, 정류, 정제 및 가스 충전을 포함하며 품질관리 체계와 전문 저장·운송팀을 갖추고 있습니다. 공급 품목은 고순도 전자 특수가스, 전자 혼합가스, 초고순도 가스, 산업용 가스 및 엑시머 레이저 가스를 포함합니다. 응용 산업은 집적회로, 평판 디스플레이, LED 제조, 광섬유 통신, 태양광, 자동차 및 기타 산업 분야를 포함합니다.
전시 제품
삼염화붕소(BCl3)는 5N(99.999%) 전자 특수가스로 공급됩니다. 삼염화붕소는 반도체 식각, 이온 주입, 디스플레이 패널 식각 및 태양전지 붕소 도핑에 사용됩니다. 디클로로실란(SiH2Cl2, DCS)의 순도는 4N(99.99%)입니다. 전자급 DCS는 반도체·태양광 화학 기상 증착(CVD) 및 실리콘 웨이퍼 에피택셜 성장에 사용됩니다. 헬륨(He)은 이온 주입 시 정밀 온도 제어와 CVD 운반가스로 사용되며, 낮은 밀도의 확산 특성은 균일한 박막 형성과 칩 수율에 기여합니다. 불소·질소 혼합가스(F2/N2)는 반도체 건식 식각과 챔버 세정에 사용되며 높은 선택비와 낮은 오염 특성을 갖습니다. 고순도 특수가스에는 5N 헥사플루오로에탄(C2F6), 5N 옥타플루오로사이클로부탄(C4F8), 5N 삼불화질소(NF3)가 포함됩니다. C2F6는 47 L 또는 470 L 용기에 CGA 660 또는 DISS 716 연결부로 공급하고, C4F8은 47 L 용기에 DISS 716 연결부로 공급합니다. DCS는 40 L 또는 450 L 용기에 DISS636, CGA678 또는 JIS22 연결부로 공급하며 5N BCl3는 47 L 또는 470 L 용기에 CG A660 연결부를 사용합니다. 사염화규소(SiCl4)는 고객 요구 순도 규격으로 38 L, 200 L 또는 240 L 용기와 VCR 연결부로 공급됩니다. 5N 삼불화질소(NF3)는 40 L, 47 L, 470 L 용기 또는 튜브 번들로 DISS 640 연결부를 사용해 공급됩니다. 전자 혼합가스에는 포스핀/수소(PH3/H2), 디보란/수소(B2H6/H2), 실란/질소(SiH4/N2)가 있으며 가스 순도는 고객 요구에 맞춥니다. PH3/H2는 47 L·470 L 용기 또는 튜브 번들과 DISS 632 연결부를 사용하고, B2H6/H2와 SiH4/N2 역시 47 L·470 L 용기에 DISS 632 연결부를 사용합니다. 그 밖에 F2/N2, 염화수소/수소/네온(HCl/H2/Ne), 디실란/질소(H6Si2/N2)가 있으며 혼합가스 순도는 고객 요구를 따릅니다. F2/N2는 47 L 용기 또는 튜브 번들에 DISS 728·CGA 679를 사용하며 HCl/H2/Ne는 47 L 용기에 CGA660·CGA634, H6Si2/N2는 47 L 용기에 DISS 632를 사용합니다. 산업용 가스에는 액체 산소(O2, 99.5%), 액체 질소(N2, 5N/99.999%), 액체 아르곤(Ar, 5N/99.999%)이 포함되며 40 L 용기, 듀어 용기 또는 탱크로리와 G5/8 연결부로 공급합니다. 이산화탄소(CO2)는 99.5% 또는 99.99% 순도와 40 L·G5/8 포장으로, 헬륨(He)은 99.99% 또는 99.999% 순도와 40 L 용기로 공급됩니다. 수소(H2)는 99.99%와 99.999% 순도로 10 L 또는 40 L 용기 및 W21.8*1/14-LH 연결부로 공급됩니다. 아세틸렌(C2H2)은 99.9% 및 99.999%로 40 L 용기와 QF-15/21 클램프 연결부로, 프로판(C3H8)은 99% 및 99.95%로 30 kg·50 kg 용기와 YSF-1·CGA510 연결부로 공급합니다. 메탄(CH4)은 99.9% 또는 99.99%로 10 L·40 L 용기와 W21.8*1/14-LH 연결부로 공급하며, 액체 암모니아(NH3)는 40 L·44 L 용기와 CGA660·JISS720 연결부를 사용합니다. 에틸렌옥사이드(C2H4O)는 99.9% 순도, 40 L 용기와 G5/8 연결부로 공급됩니다. 반도체 제조에서는 수소, 산소, 실란, 게르만, 포스핀 등의 반응가스가 재료 합성·개질과 고순도 다결정 실리콘 제조, 이산화규소 및 질화규소 박막 증착에 사용됩니다. 평판 디스플레이 제조에서는 세정, 식각, 박막 증착에 가스를 사용하며 태양광 분야에서는 세정, 식각, 가스 차폐 용접, 분위기 제어, 재료 생산 및 셀 패키징에 사용합니다. 식품 포장에서는 가스 치환으로 산화와 미생물 증식을 늦추고 습기 및 파손을 방지하며 질소와 이산화탄소를 충전 가스로 주로 사용합니다.
역량 및 제품
- 액체 산소 공급
- 5N 액체 질소 공급
- 5N 액체 아르곤 공급
- 이산화탄소 공급
- 고순도 헬륨 공급
- 고순도 수소 공급
- 아세틸렌 공급
- 프로판 공급
- 메탄 공급
- 액체 암모니아 공급
- 산화에틸렌 공급
- 5N 육불화에탄 공급
- 5N 팔불화사이클로부탄 공급
- 4N 디클로로실란 공급
- 5N 삼염화붕소 공급
- 맞춤 순도 사염화규소 공급
- 5N 삼불화질소 공급
- 포스핀/수소 혼합 가스 공급
- 디보란/수소 혼합 가스 공급
- 실란/질소 혼합 가스 공급
- 불소/질소 혼합 가스 공급
- 염화수소/수소/네온 혼합 가스 공급
- 디실란/질소 혼합 가스 공급
- 엑시머 레이저 가스 공급
- 가스 정제
- 가스 충전 및 소분
- 가스 저장 및 운송 서비스