基本資料
| 攤位 | T9039 |
| 國別 | CN |
| 網站 | www.swgases.com |
公司簡介
Hefei SHAREWIN Semiconductor Material Co., Ltd. / 合肥先微半导体材料有限公司從事電子與工業氣體的研發、生產、儲存、運輸與供應。產品架構包括電子特氣、電子混合氣、準分子雷射氣體、超純氣體與工業氣體，可用於半導體及其他製造產業。公司總部列於合肥新站化工園區，並描述在肥東、六安與蕪湖具有生產營運。生產技術涵蓋合成、吸附、精餾或蒸餾、純化與充裝，並由品質控制與運輸功能支援。產品應用市場包括積體電路、LCD、LED、光纖、太陽能與汽車製造。公司把氣體研發與生產、儲存及運輸整合，使高純度氣體與混合氣體可由同一供應體系提供。
展出產品
三氯化硼 BCl3 可用於半導體蝕刻、離子植入、顯示面板蝕刻與光伏電池硼摻雜。高純電子級二氯矽烷 DCS 是半導體與光伏製造原料，可用於 CVD 與矽晶圓磊晶成長。氦氣用於離子植入的精密溫控，也可作為 CVD 載氣。F2/N2 混合氣適用於乾式蝕刻與製程腔體清洗。電子特氣中，C2F6 為 5N，可提供 47 L、470 L，並列有 CGA660、DISS716 介面；C4F8 為 5N、47 L；DCS SiH2Cl2 為 4N、40 L 與 450 L；BCl3 為 5N、47 L 與 470 L；SiCl4 依客戶規格提供 38 L、200 L、240 L；NF3 為 5N，可提供 40 L、47 L、470 L 與 bundle。混合氣體包括 PH3/H2、B2H6/H2、SiH4/N2、F2/N2、HCl/H2/Ne、H6Si2/N2，濃度、包裝與閥件或介面可依客戶需求供應。工業氣體包括液氧 99.5%、氮氣 5N / 99.999%、氬氣 5N、CO2 2.5N / 4N、氦氣 4N / 5N、氫氣 4N / 5N，以及乙炔、丙烷、甲烷、氨與環氧乙烷等。半導體製程應用涵蓋氫氧反應，以及 silane、germane、phosphine 用於 polysilicon、SiO2、SiN 薄膜沉積；顯示面板包括清洗、蝕刻與沉積，光伏亦涵蓋晶片清洗、蝕刻、沉積等步驟。食品產業另可使用氮氣與 CO2。整體電子氣體供應對應蝕刻、植入、沉積、磊晶、摻雜、腔體清洗與溫控等半導體製程。 高純電子氣體同時可依製程需求配置鋼瓶、bundle 與指定介面，使單一供應範圍涵蓋實驗與量產用氣。各產品以原列純度與包裝規格供應，不把不同氣體的濃度條件互相替代。
能力與產品項目
- 液氧供應
- 5N 液氮供應
- 5N 液氬供應
- 二氧化碳供應
- 高純度氦氣供應
- 高純度氫氣供應
- 乙炔供應
- 丙烷供應
- 甲烷供應
- 液氨供應
- 環氧乙烷供應
- 5N 六氟乙烷供應
- 5N 八氟環丁烷供應
- 4N 二氯二氫矽供應
- 5N 三氯化硼供應
- 客製純度四氯化矽供應
- 5N 三氟化氮供應
- 磷烷／氫氣混合氣供應
- 乙硼烷／氫氣混合氣供應
- 矽烷／氮氣混合氣供應
- 氟／氮混合氣供應
- 氯化氫／氫氣／氖氣混合氣供應
- 乙矽烷／氮氣混合氣供應
- 準分子雷射氣體供應
- 氣體提純
- 氣體分裝
- 氣體儲存與運輸服務