基本情報
| ブース | T9039 |
| 国 | CN |
| ウェブサイト | www.swgases.com |
会社概要
Hefei SHAREWIN Semiconductor Material Co., Ltd. / 合肥先微半导体材料有限公司は、電子・産業用途向けガスの研究開発、生産、貯蔵、輸送、供給を行います。製品体系は電子特殊ガス、電子混合ガス、エキシマレーザーガス、超高純度ガス、産業ガスを含み、半導体などの製造分野で使用されます。本社は合肥新站化工園区にあり、生産活動として肥東、六安、蕪湖が記載されています。生産技術は合成、吸着、精留・蒸留、精製、充填を含み、品質管理と輸送機能がこれを支えます。用途市場には集積回路、LCD、LED、光ファイバー、太陽エネルギー、自動車製造が含まれます。ガス研究と生産、貯蔵、輸送を組み合わせ、高純度ガスと混合ガスを統合した供給体制で提供します。
展示製品
三塩化ホウ素 BCl3 は半導体エッチング、イオン注入、ディスプレイパネルのエッチング、太陽電池のホウ素ドーピングに使用されます。高純度電子グレードのジクロロシラン DCS は半導体・太陽光発電向け原料で、CVD とシリコンウェハのエピタキシャル成長に使用されます。ヘリウムはイオン注入の精密温度制御と CVD のキャリアガスに使われます。F2/N2 混合ガスはドライエッチングとプロセスチャンバー洗浄に対応します。電子特殊ガスでは C2F6 が 5N、47 L と 470 L で、CGA660 と DISS716 のインターフェース情報が記載されています。C4F8 は 5N、47 L、DCS SiH2Cl2 は 4N、40 L と 450 L、BCl3 は 5N、47 L と 470 L、SiCl4 は顧客仕様で 38 L、200 L、240 L、NF3 は 5N で 40 L、47 L、470 L とバンドル構成があります。混合ガスは PH3/H2、B2H6/H2、SiH4/N2、F2/N2、HCl/H2/Ne、H6Si2/N2 を含み、濃度、容器、バルブ・インターフェースを顧客要件に合わせられます。産業ガスには液体酸素 99.5%、窒素 5N / 99.999%、アルゴン 5N、CO2 2.5N / 4N、ヘリウム 4N / 5N、水素 4N / 5N があり、アセチレン、プロパン、メタン、アンモニア、エチレンオキシドも含まれます。半導体では水素と酸素の反応、silane、germane、phosphine を用いた polysilicon、SiO2、SiN の成膜に対応します。ディスプレイでは洗浄、エッチング、成膜、太陽光発電ではウェハ洗浄、エッチング、成膜などを扱い、食品分野では窒素と CO2 も使用されます。電子特殊ガス、高純度産業ガス、顧客仕様混合ガスによって、エッチング、注入、成膜、エピタキシー、ドーピング、チャンバー洗浄、温度制御の工程を支えます。 高純度電子ガスは工程要件に応じてシリンダー、bundle、指定インターフェースを組み合わせることができ、研究規模から量産用途までのガス供給に対応します。各ガスは記載された純度と容器仕様で扱われ、用途に応じて特殊ガスと混合ガスを選択できます。 また、混合ガスは顧客の濃度、容器、接続仕様に合わせて調整でき、同じガス群を異なる装置条件へ適合させられます。
対応領域・製品
- 液体酸素の供給
- 5N 液体窒素の供給
- 5N 液体アルゴンの供給
- 二酸化炭素の供給
- 高純度ヘリウムの供給
- 高純度水素の供給
- アセチレンの供給
- プロパンの供給
- メタンの供給
- 液体アンモニアの供給
- 酸化エチレンの供給
- 5N ヘキサフルオロエタンの供給
- 5N オクタフルオロシクロブタンの供給
- 4N ジクロロシランの供給
- 5N 三塩化ホウ素の供給
- 純度指定に対応する四塩化ケイ素の供給
- 5N 三フッ化窒素の供給
- ホスフィン／水素混合ガスの供給
- ジボラン／水素混合ガスの供給
- シラン／窒素混合ガスの供給
- フッ素／窒素混合ガスの供給
- 塩化水素／水素／ネオン混合ガスの供給
- ジシラン／窒素混合ガスの供給
- エキシマレーザーガスの供給
- ガス精製
- ガスの充填・小分け
- ガスの保管・輸送サービス