基本資料
| 攤位 | T9419 |
| 國別 | KR |
| 產品分類 | Cleaning; Washing; Drying Equipment for Substrate, Fab Processing · Acids; Etchants · Cleaning Chemicals; Solvents; Strippers · Other Specialty Chemicals · Mask and Reticle Handling Products · Pellicles; Mounting Fixtures |
| 網站 | www.globalzeus.com |
公司簡介
ZEUS 成立於 1970 年，與半導體產業共同成長已超過 35 年，提供濕式蝕刻與清洗設備及技術。自 1980 年代起，ZEUS 即投入提供半導體製程所用的化學品、零件與設備。2009 年，ZEUS 收購了 JET（前身為 SES），該公司具備設計與製造濕式蝕刻、清洗與去膜設備所需的技術與豐富經驗。ZEUS 市場領先的濕式機台（wet station）與單片旋轉處理機（single spin processor），廣泛應用於光阻去除、氮化矽蝕刻、金屬蝕刻與晶圓清洗，並具備更高的產能與可靠度。ZEUS 年營業額超過 2 億美元，於日本與南韓皆設有半導體設備製造與研發據點，以開發並向全球交付高品質產品。此外，公司在中國設有分公司，並於美國設有銷售代表，以即時支援客戶。我們 ZEUS 始終重視創新技術的開發、高品質的保證以及客戶的價值。
能力與產品項目
- 光阻去除用濕式工作站
- 半導體晶圓清洗設備與技術
- 晶圓清洗用濕式工作站與單片旋轉處理器
- 氮化矽蝕刻用單片旋轉處理器
- 濕式蝕刻、清洗與去膠設備設計製造
- 濕式蝕刻設備與技術
- 金屬蝕刻用濕式工作站與單片旋轉處理器