基本情報
| ブース | P5720 |
| 国 | US |
| ウェブサイト | gausslabs.ai |
会社概要
Gauss Labsは2020年8月に設立された産業AIスタートアップで、人工知能と機械学習を製造分野へ適用する事業に注力しています。同社はチームを製造分野に深い知識を持つ機械学習の専門家と説明し、AIの専門性と製造プロセスへの理解を組み合わせています。Gauss LabsはPanoptesという産業AIソリューションを提供し、Panoptesを製造環境向けのソフトウェア定義型メトロロジーソリューションと説明しています。中核製品のPanoptes Virtual Metrology（VM）は既存のファブデータとAI技術でプロセス結果を予測し、複数のユースケースを通じて、より良い製品をより低コストで、より多く、より速く製造することを支援します。同社のより広い製造データインテリジェンスでは、大量の機械生成データから分析と洞察を導き、その規模を通常の人間の処理・理解能力を超えるものと説明しています。Gauss Labsは米国Palo Altoと韓国Seoulにオフィスを掲げ、産業AI企業として両国に活動拠点を持っています。
展示製品
Gauss LabsのAI製造データインテリジェンス製品は大量の機械生成データを分析し、手作業では処理しきれない製造判断を支える分析結果と洞察を導きます。モデルはデータ駆動型で、データの動的な変化へ適応するよう設計されているため、製造データの分布や運転条件の変化に合わせて調整できます。ソフトウェアはモデルの学習と管理を自動化し、利用者が機械学習アルゴリズムを深く理解する必要性を減らし、モデル作成と管理を自動ワークフローへ組み込みます。ソリューションは高量産製造まで拡張でき、ドメイン知識をモデルへ組み込み、小規模な実験だけでなくファブ規模でのモデル運用を支援します。Gauss Labsはソリューションを顧客自身の環境へ導入し、セキュリティコンプライアンスを満たしながら、製造データを外部へ移動することに伴う知的財産上の問題を回避します。Panoptes Virtual Metrology（VM）はプロセス状態データとウェハ状態データからプロセス結果を予測し、少ない作業でモデルの学習・更新、ファブ規模のモデル運用、ドメイン知識の導入を支援します。Panoptes VMは全ウェハデータを顧客システムへ送り、プロセス制御、装置保守、歩留まり管理などのユースケースを支援します。また、ファブデータを活用して全ウェハのプロセス結果をリアルタイムで予測し、歩留まり改善、コスト削減、サイクルタイム短縮につながると説明されています。Gauss Labsは仮想計測の必要性について、従来の物理計測が装置・センサー費用、限られたファブ空間、時間、低いサンプリング率に制約され、製造者が遅延のある少数のサンプルデータしか得られず、プロセス可視性が制限される場合があると説明します。Panoptes VMは全ウェハに予測計測データを提供し、既存のファブデータで各種プロセス結果を予測します。例として成膜プロセス後の膜厚が挙げられています。Gauss LabsはPanoptes VMをPurpose-Specific Automatic Learning Machine（PSALM）と説明し、独自アルゴリズムで製造の仮想計測専用に開発され、自動モデル作成・管理機能を備え、高量産環境で数十万モデルをリアルタイム運用できます。VMプラットフォームは精度、使いやすさ、スケーラビリティを重視し、革新的なモデルアーキテクチャ、実際の高量産ファブで検証されたファブ規模運用、コーディングや機械学習知識を必要としないプロセスエンジニア向け設計を掲げています。プロセス制御では、Panoptes VMが単一ウェハレベルでプロセスレシピをリアルタイム調整するよう制御システムを支援します。プロセス監視では、エンジニアが異常をより早く検出し根本原因を特定できるよう支援し、プロセス逸脱の防止を目指します。計測最適化では、Panoptes VMがプロセス安定性を分析し、その状態に応じてサンプリングを減らしたり増やしたりできます。装置保守では、装置異常と装置不一致の検出・予測を支援し、仮想計測の出力を保守関連の判断へ広げます。世界首位のメモリチップメーカーの顧客事例では、韓国と中国の5拠点、2022年12月の導入、APCシステムへの公開、プロセスばらつき29%改善が記載されています。同じ製品ページにはSK hynixの導入発表へのリンクもあり、Gauss LabsのAIベースの仮想計測ソリューションをウェハ製造プロセス結果の予測に導入したと説明されています。Panoptes Image Metrology（IM）は、柔軟な計測パイプラインとカスタマイズ可能な指標を備え、画像処理、計測、分析までをカバーするエンドツーエンドの画像計測ソリューションです。AI駆動アルゴリズムを使うPanoptes IMは、学習と反復的な手作業を減らしながら、精密で一貫性と再現性のある結果を生成し、より少ない作業で計測画像から多くの情報を取り出せると説明されています。Panoptes IMはプロセス結果をより効率的に測定し、計測画像から現在の理解を超える深い洞察を得ることも目的としています。Panoptes VMの技術リソースには2025年のホワイトペーパーと、2023年から2026年にSEMI Advanced Semiconductor Manufacturing ConferenceやSPIE Advanced Lithography & Patterningなどで発表された論文が含まれます。
対応領域・製品
- Panoptes Virtual Metrology AI システム
- Fab 全ウェーハのリアルタイム工程結果予測
- AI モデル自動学習・管理
- 量産 Fab 向けモデル大規模運用
- 単一ウェーハ単位のリアルタイム工程レシピ調整
- 工程異常検知・根本原因特定
- 計測サンプリング最適化
- 設備異常・ミスマッチ予測
- Panoptes AI 画像計測