기본 정보
| 부스 | P6212 |
| 국가 | KR |
| 웹사이트 | frdbiz.com |
회사 소개
FRD CO., Ltd.는 반도체 제조를 포함한 여러 산업에 특수가스를 공급하면서 고객에게 기술 솔루션을 제공하며, 변화하는 산업 환경에서 요구되는 요소로 신속성, 신뢰, 문제 해결 역량을 제시합니다. 회사는 임직원이 혁신, 고객 만족, 고객과의 동반 성장을 추구한다고 밝히고, 고유한 방식을 유지하면서 고객 요구에 가까이 대응하고 사회에 기여하는 것을 역할로 설명합니다. FRD CO., Ltd.는 운영 강점을 3-beat capability라고 표현하고 고유성을 잃지 않으면서 고객 곁에 계속 있겠다고 밝히며, 신속한 대응과 문제 해결을 일회성 가스 판매가 아니라 지속적인 고객 관계와 연결합니다.
전시 제품
FRD CO., Ltd.는 반도체, 태양광, 디스플레이, LED 산업에 특수가스를 공급하는 전문 제조사로 설명되며, 반도체 및 관련 소재 산업에서 사용되는 특수가스의 생산과 판매를 다루고 고객 요구에 맞춘 기술 개발과 고객 중심 접근을 강조합니다. 염화수소는 HCl로 제시되며 표에는 HCL 표기도 있고, 순도 5N으로 에칭 공정에 사용되며 핵심 용도로 웨이퍼 표면 오염물 제거가 제시되어 제품 정보가 설명하는 웨이퍼 세정 및 에칭 관련 반도체 공정에 직접 연결됩니다. 염소 Cl₂는 순도 5N으로 Al, W 등을 포함한 금속 에칭에 사용되고 강한 에칭 능력이 특징으로 제시되며, 불소 F₂는 순도 5N으로 고속 금속 에칭에 사용되고 같은 제품 표에서 고독성 및 폭발성으로 명시됩니다. NF₃는 순도 4N으로 CVD 챔버 세정 공정에 사용되며 플라즈마 해리 후 F가 생성되는 점이 공정 관련 특징으로 제시되어 반도체 공정 장비의 챔버 세정 요구와 연결됩니다. 제품 정보는 Excimer Laser Mix와 메탄 CH₄도 특수가스 제품 범주로 제시하며, 공통 제품 정보를 가스명, 화학식, 순도, 핵심 공정, 특징 또는 비고로 정리합니다. 이러한 제품 전반에서 FRD CO., Ltd.는 새로운 시장과 기술을 탐색하고 고객 요구에 맞춰 기술을 개발해 반도체, 태양광, 디스플레이, LED, 소재 산업 공정의 특수가스 응용을 지원한다고 밝힙니다. 특수가스 사업은 제품 품질, 선제적 기술 개발, 아직 확립되지 않은 시장과 기술의 개척도 강조하며, 기존 가스 목록에만 머무르지 않고 반도체 및 인접 산업 고객을 중심으로 활동을 구성합니다하며, 각 가스의 순도와 용도를 공정 정보와 연결해 고객 제조 현장에서 확인할 수 있는 형태로 제시합니다하고 용도 확인에도 활용합니다.
역량 및 제품
- 5N HCl 반도체 식각용 특수가스 제조
- 5N Cl₂ 금속 식각용 특수가스 제조
- 5N F₂ 고속 금속 식각용 특수가스 제조
- 4N NF₃ CVD 챔버 세정용 특수가스 제조
- Excimer Laser Mix 특수가스 제조
- CH₄ 특수가스 제조