基本資料
| 攤位 | P6212 |
| 國別 | KR |
| 網站 | frdbiz.com |
公司簡介
FRD CO., Ltd. 向半導體製造與其他產業供應特殊氣體，同時為客戶提供技術解決方案，並把迅速、信任與問題解決能力描述為在持續變動的產業環境中所需的條件。公司表示全體員工追求創新、客戶滿意與和客戶共同成長，並把自身角色定位為在保持自身特色、貼近客戶需求的同時對社會做出貢獻。FRD CO., Ltd. 把自身營運優勢稱為 3-beat capability，並表示將在不失去自身特色的情況下持續陪伴客戶，把迅速回應與問題解決能力連結到持續性的客戶關係，而不是把氣體供應視為單次交易。
展出產品
FRD CO., Ltd. 將自己描述為服務半導體、太陽能、顯示器與 LED 產業的特殊氣體專業製造商，業務涵蓋半導體及相關材料產業所用特殊氣體的生產與銷售，並以配合客戶需求的技術開發與以客戶為中心的方式推進產品。氯化氫列為 HCl，來源表格也以 HCL 顯示，純度 5N，用於蝕刻製程，主要用途標示為去除晶圓表面污染物，使此氣體直接對應產品資訊所描述的晶圓清潔與蝕刻相關半導體製程。氯氣 Cl₂ 列為 5N 純度，用於包含 Al、W 等金屬蝕刻，特點標示為強蝕刻能力；氟氣 F₂ 同樣列為 5N，用於高速金屬蝕刻，並在同一產品表格中明確標示為高毒性與易爆。NF₃ 列為 4N 純度，用於 CVD 腔體清洗製程，其製程特點為電漿解離後生成 F，因而對應半導體製程設備的腔體清洗需求。產品資訊另外把 Excimer Laser Mix 與甲烷 CH₄ 列為特殊氣體產品類別，而整體產品結構則以氣體名稱、化學式、純度、主要製程及特點或備註來整理共同資訊。就這些產品而言，FRD CO., Ltd. 表示將探索新的市場與技術，並依客戶需求開發技術，以服務半導體、太陽能、顯示器、LED 與材料產業製程的特殊氣體應用。特殊氣體業務也強調產品品質、主動技術開發，以及對尚未成熟之市場與技術的探索，這些活動以半導體及鄰近產業客戶為中心，而不是只停留在既有氣體清單。
能力與產品項目
- 5N HCl 半導體蝕刻特氣製造
- 5N Cl₂ 金屬蝕刻特氣製造
- 5N F₂ 高速金屬蝕刻特氣製造
- 4N NF₃ CVD 腔體清洗特氣製造
- Excimer Laser Mix 特氣製造
- CH₄ 特氣製造