基本情報
| ブース | P6212 |
| 国 | KR |
| ウェブサイト | frdbiz.com |
会社概要
FRD CO., Ltd. は半導体製造を含む各種産業に特殊ガスを供給し、顧客に技術ソリューションも提供しており、変化する産業環境で求められる要素として迅速さ、信頼、問題解決力を挙げています。同社は、従業員が革新、顧客満足、顧客との共同成長を追求するとし、独自性を保ちながら顧客ニーズの近くに立ち、社会にも貢献することを自らの役割として示しています。FRD CO., Ltd. は自社の運営上の強みを 3-beat capability と呼び、独自性を失わずに顧客のそばにあり続けるとし、迅速な対応と問題解決を単発のガス販売ではなく継続的な顧客関係に結び付けています。
展示製品
FRD CO., Ltd. は、半導体、太陽光、ディスプレイ、LED 産業向けの特殊ガス専門メーカーと説明され、半導体および関連材料産業で使われる特殊ガスの製造・販売を行い、顧客ニーズに沿った技術開発と顧客重視の姿勢を掲げています。塩化水素は HCl として、表では HCL とも記載され、純度 5N、エッチング工程向けで、主要用途としてウェーハ表面汚染物の除去が示されており、製品情報で説明されるウェーハ洗浄およびエッチング関連の半導体工程に直接対応します。塩素 Cl₂ は純度 5N で Al、W などの金属エッチング向けとされ、強いエッチング能力が特徴として示され、フッ素 F₂ は純度 5N で高速金属エッチング向けとされる一方、同じ製品表で高毒性かつ爆発性があると明記されています。NF₃ は純度 4N で CVD チャンバー洗浄工程向けとされ、プラズマ解離後に F が生成されることが工程上の特徴として示され、半導体プロセス装置のチャンバー洗浄要件に対応します。製品情報ではさらに Excimer Laser Mix とメタン CH₄ を特殊ガス製品カテゴリーとして挙げ、共通の製品情報をガス名、化学式、純度、主要工程、特徴または備考で整理しています。これらの製品を通じて、FRD CO., Ltd. は新しい市場と技術を探索し、顧客要求に沿って技術を開発し、半導体、太陽光、ディスプレイ、LED、材料産業の工程における特殊ガス用途に対応するとしています。特殊ガス事業では、製品品質、先行的な技術開発、まだ確立されていない市場や技術の開拓も重視しており、既存ガスの固定的な一覧だけではなく、半導体および周辺産業の顧客を中心に活動を組み立てています、ガスごとの純度と用途を工程情報と結び付けて顧客の製造現場で確認できる形にしています、用途確認にもつなげます。
対応領域・製品
- 5N HCl 半導体エッチング用特殊ガス製造
- 5N Cl₂ 金属エッチング用特殊ガス製造
- 5N F₂ 高速金属エッチング用特殊ガス製造
- 4N NF₃ CVD チャンバー洗浄用特殊ガス製造
- Excimer Laser Mix 特殊ガス製造
- CH₄ 特殊ガス製造