基本情報
| ブース | P5324 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.festo.tw |
会社概要
Festo Co., Ltd. は、1925 年設立でドイツの Esslingen a.N. に本拠を置く独立系同族企業 Festo の一員です。 Festo は 1979 年に台湾市場へ参入し、新北市に Festo Co., Ltd. を設立した後、台中と高雄にも支店を設けました。 Festo Co., Ltd. は空圧および電動技術と、工場自動化およびプロセス自動化向けの包括的ソリューションを提供します。 対象産業には、自動車、電子・軽組立、食品・飲料包装、水処理、バイオテクノロジー、製薬があります。 Festo Didactic は世界の産業企業と教育機関向けにトレーニングソリューションを提供しています。 グレーターチャイナ事業地域を通じて、生産、販売、研究資源を連携し、台湾顧客へのサービスと台湾製造業のグローバル展開を支援しています。
展示製品
Festo の真空技術には、真空発生器、真空吸着カップ、真空グリッパー、および真空ハンドリング用途の関連アクセサリーが含まれます。 真空発生器はベンチュリ原理で動作する純空圧式装置で、高体積流量または高真空を生成できます。 真空発生器はコンパクトで軽量、任意の位置に設置でき、保守要求が低く、特にハンドリングと自動化技術で使用されます。 真空吸着カップと真空グリッパーは真空発生器とワークをつなぎ、簡単で経済的かつ信頼性の高いワーク搬送を行うために使用されます。 材質としてニトリルゴム、ポリウレタン、シリコーン、ゴムが挙げられ、吸着カップ形状には汎用、フラット、ベローズ、特殊型があります。 真空アクセサリーには取付・接続部品、補償部品、真空インジケーター、真空フィルター、真空吸引バルブ、真空専用アクセサリーがあります。 半導体生産向けには、プロセス安定、高精度、設置スペース最小化を目的とする標準部品とカスタム自動化ソリューションを提供し、粒子発生と outgassing の規格も考慮します。 半導体自動化製品は前工程、後工程、hybrid bonding などの先端パッケージングに対応し、汚染低減、長期歩留まり維持、エネルギーコストとカーボンフットプリント低減を目指します。 高真空用途では、成膜、エッチング、イオン注入向けにクリーンルームで使用できる自動化ソリューションを提供します。 大気圧プロセスでは、PR coating から CMP、先端パッケージングまで精密自動化を提供し、生産効率と歩留まりを支援します。 Gate valve control solution は load-lock chamber、handling system、process chamber に適用され、ドアバルブ切替時の衝撃低減、単一部品での複数バルブ制御、デジタルパラメータによる再現性、Industrial IoT 向けトレーサビリティを提供します。 EFEM ウェハ搬送装置では、motion terminal により FOUP キャリアへ不活性ガスを充填し、バルブ切替時に発生する汚染粒子を低減できます。 N2 Purge system は、AMC Free の微小汚染防止を必要とする先端ウェハ製造の搬送・保管用途向けで、STOCKER、FOUP、OHT、STB に対応します。 N2 Purge には流量と湿度検出による湿度制御、最大 200 liters per minute の圧電バルブ流量制御、ready-to-install 統合モジュール、複数 MFC の motion terminal 統合が含まれます。 Festo の空圧 N2 Purge は、センサー、流量制御器、比例圧電バルブ、通信によるデータ収集・伝送を組み合わせ、ウェハ酸化を減らし FOUP 内を乾燥状態に保つことを目的とします。 Festo motion terminal のデジタル空圧技術は吹付け時の air knife 圧力と流量を制御し、統合スマートセンサーが制御、診断、自己学習を行いパラメータ組合せを最適化できます。 Lift Pin control solution は半導体装置の Lift Pin を制御する蛇腹シリンダを対象とし、時間、速度、精度を制御して滑らかで同期した上下動作を実現し、調整の標準化で保守時間を短縮します。 Lift Pin には、VTEM で時間、加速、減速、同期動作を制御する closed-loop と、元装置のソフトウェア・ハードウェアを変更せず更新できる open-loop カスタム方式があり、圧電バルブ制御は Tack Time 短縮と生産性向上につながるとされています。 特殊ガス供給および chemical polishing gas control unit は半導体前工程で使用され、無電源でもガスシリンダを遮断し、特殊 OR valve で制御を継続し、空気供給を止めずに solenoid valve を交換する hot-swappable 機能を備えます。 カスタムガス制御には手動・論理バルブによるコンパクトな多チャネル安全回路、無電源でも自動遮断できる手動蓄圧シリンダ切替、スペースを節約するシリンダ駆動赤色表示があります。 半導体自動化では、動作・圧力・媒体流量の高精度制御、清浄度と粒子排出に対応する clean design、省スペース、低消費電力・低発熱、AI/IoT-ready、現地製造・配送による世界供給を挙げています。 同じ製品群では CopyExactly! 要件、工程課題向け専門支援、outgassing を抑える半導体専用グリースとシール、AI による再現精度の高いリアルタイム制御も挙げられています。 カスタム用途には wafer chuck、process chamber、plasma generator の温度制御、力検出付き pin lifting と micropositioning、ALD valve control、真空チャンバーの安全 purge と regeneration、プロセスガス用 UHP valve pilot control があります。 窒素 purge の利点として歩留まり向上、製品品質向上、装置寿命延長、安全で持続可能な製造を挙げ、窒素 purge システムで炭素排出を最大 4% 削減できるとしています。 VEMD dynamic mass-flow controller は比例バルブで静かに動作し、統合電子回路とセンサーが空気、酸素、窒素、アルゴン、CO2 の流量を検出、調整、比例供給します。 半導体用途の搬送・モーション製品には ERMO 電動回転ユニット、CMMT-AS servo drive、EMMT-AS と EMMT-EC servo motor、低流量多チャネル圧力制御用 VTEP valve terminal があります。 ERMO は精密フロントユニットまたは小型回転台として使用でき、CMMT-AS は Ethernet-based bus system 上の point-to-point と interpolating motion に対応し、EMMT-AS は制御性、軌跡精度、single-cable solution による配線作業削減を重視します。 Festo は、グローバルサプライチェーン、CopyExactly! を考慮した世界共通ガイドライン、Semi F70.1 と ISO 認証のクリーンルーム自動化ソリューションを半導体支援として挙げています。 クリーンルーム製品は ISO 14644-1 または Semi F70.1 のクラスに合わせて選定でき、要望により二重包装も可能です。 Festo AX は AI とリアルタイムデータで生産工程を監視し、ダウンタイム削減、電力消費監視、廃棄削減、予測ソリューション提供を行います。 現代の半導体生産要件に従業員が対応できるよう、トレーニングソリューションも提供します。 半導体製品は、ファブ運営者、生産装置 OEM、前工程・後工程エンジニア、先端パッケージング利用者、電子・マイクロシステム装置の開発者と設計者を対象とします。 Festo のソリューションは半導体システム、WFE、ツール、sub-fab で使用でき、ガス供給、冷却回路、真空技術、クリーンルームモーションを含み、世界供給のカタログ製品と顧客仕様システムを選択できます。 同社は前工程、後工程、先端パッケージングで長年の経験を持ち、多くの製品を業界と共同開発し、顧客にはほぼすべての著名な国際ファブと OEM が含まれるとしています。 サービスにはエンジニアリング支援、アプリケーション助言、カスタムシステム、condition monitoring、predictive maintenance、AI 工程最適化、教育、世界技術支援、迅速なスペアパーツ供給があります。 サービス継続のため、最新技術による迅速な故障分析、包括的な change and phase-out management、工程信頼性と長寿命を重視したクリーンルーム対応製品も提供します。 Festo Experience Centre は技術専門家と試験、実験、展示、教育機能を統合し、open platform の考え方で半導体産業の革新的用途と前端技術に注力します。
対応領域・製品
- ファクトリー・プロセスオートメーションソリューション
- 半導体高真空オートメーション
- 半導体大気圧プロセスオートメーション
- 半導体ゲートバルブ制御
- FOUP N2パージ流量制御
- Lift Pin空圧同期制御
- 特殊ガス・化学研磨ガス制御
- ALDバルブ制御
- ウェハチャック・プロセスチャンバー・プラズマ源温度制御
- UHPプロセスガスバルブのパイロット制御
- 真空発生器・吸着パッド・グリッパ
- 半導体AIプロセス監視・予測
- 半導体生産向けトレーニングソリューション