기본 정보
| 부스 | L0310 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | www.EVGroup.com |
회사 소개
EV Group (EVG)는 반도체, 미세전자기계시스템(MSMS), 화합물 반도체, 전력 디바이스 및 나노기술 디바이스 제조를 위한 장비와 공정 솔루션의 선도 공급업체입니다. 주요 제품에는 웨이퍼 본딩, 박형 웨이퍼 공정, 리소그래피/나노임프린트 리소그래피(NIL) 및 계측 장비뿐만 아니라 포토레지스트 코터, 세정기 및 검사 시스템이 포함됩니다. 1980년에 설립된 EV Group은 전 세계에 걸친 정교한 글로벌 고객 및 파트너 네트워크에 서비스를 제공하고 지원합니다. EVG에 대한 자세한 정보는 www.EVGroup.com에서 확인할 수 있습니다.
전시 제품
MLE™ - 기존 마스크 기반 리소그래피를 넘어 디지털 마스크리스 리소그래피 기술로 전환 EV Group Technologies MLE™ - 마스크리스 노광 기술 기존 마스크 기반 리소그래피를 넘어 디지털 리소그래피 기술로 전환 MLE (마스크리스 노광) 기술은 첨단 패키징, MEMS, 바이오메디컬 및 IC 기판 애플리케이션의 미래 백엔드 리소그래피 요구에 대응하기 위해 EV Group이 개발한 혁신적인 차세대 리소그래피 기술입니다. 대량 생산을 위한 세계 최초의 고확장성 마스크리스 리소그래피 기술로, 탁월한 유연성을 제공해 신규 디바이스의 개발 주기를 극도로 단축할 수 있습니다. 이종 집적은 지속적인 미세화 없이도 더 높은 컴퓨팅 성능과 확장된 디바이스 기능을 달성하는 차세대 방식으로 주목받고 있습니다. 칩렛 설계의 지속적인 혁신과 이를 실리콘 또는 패키지에 통합해야 하는 수요는 적응형 패터닝을 통해 대응할 수 있습니다. 이러한 새로운 산업 비전에는 새로운 설계 방식을 빠르게 통합할 수 있는 대량 생산 장비가 필요하지만, 기존 백엔드 리소그래피는 적용 범위를 제한하는 여러 한계를 갖고 있습니다. 또한 다양한 레이아웃 설계를 위한 마스크 비용의 지속적인 증가와 마스크 재고 관리는 전체 개발 및 생산 비용의 상당한 부분을 차지합니다. EV Group이 발명한 MLE 기술은 개발 및 생산 단계 모두에서 마스크 관련 어려움을 극복해 설계 유연성에 대한 이러한 핵심 요구에 대응하고 개발 주기를 단축합니다. 또한 특정 설계와 레이아웃을 외부로 전송할 필요가 없으므로 기밀성을 유지할 수 있습니다. 이 혁신적인 ‘디지털 리소그래피’ 기술은 R&D와 생산 사이의 격차를 해소하는 동시에, 다이 및 웨이퍼 레벨 설계를 동시에 동적으로 처리할 수 있는 확장형 솔루션을 제공하고 첨단 패키징, MEMS, 바이오메디컬 및 HDI PCB 시장 등 다양한 시장의 핵심 요구사항을 충족합니다. EVG의 MLE 기술은 높은 처리량과 낮은 총소유비용으로 전체 기판 표면에 고해상도(<2 microns L/S)의 스티치 없는 마스크리스 노광을 구현합니다. 이 시스템은 사용자의 요구에 따라 확장되며, R&D에서 HVM 모드로의 신속한 전환 촉진, 처리량 최적화 또는 서로 다른 기판 크기와 재료에 대한 적용이 가능하고, 소형 실리콘 또는 화합물 반도체 웨이퍼부터 패널 크기까지 다양한 기판 처리에 적합합니다. MLE는 여러 파장의 노광 옵션을 제공하는 유연하고 확장 가능한 고출력 UV 레이저 소스 덕분에 포토레지스트와 관계없이 동일한 패터닝 성능을 구현합니다.
역량 및 제품
- 웨이퍼 본딩 장비
- 박형 웨이퍼 가공 장비
- 리소그래피/나노임프린트 리소그래피 장비
- 포토레지스트 코터
- 마스크리스 노광 기술
- <2 µm L/S 무스티치 무마스크 노광
- 웨이퍼부터 패널 크기까지 기판 처리