기본 정보
| 부스 | K2570 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | ecbu.ecic.com |
회사 소개
1972년에 설립되어 1988년 Taiwan Stock Exchange에 상장된 Everlight Chemical은 화학 합성 기술 개발에 주력해 왔으며, 이는 점차 핵심 역량이 되었습니다. Everlight Chemical은 인류의 복지에 기여하는 첨단 화학 기업으로 자리매김했습니다. 핵심 사업에서 고부가가치, 저에너지 소비, 저오염의 첨단 화학 제품을 지속적으로 개발해 왔습니다. Everlight는 포지티브 포토레지스트, 네거티브 포토레지스트, 차광 포토레지스트, 절연재, 오버코트, 고반사층 및 측면 보호 실링 잉크 등 폭넓은 감광 제품을 제공합니다. 또한 당사 제품은 우수한 코팅 균일성, 낮은 암부 침식, 우수한 표면 임피던스, 우수한 접착력, 우수한 박리성 등 다양한 특성을 갖추고 있습니다.
전시 제품
적용 제품에는 G-line, I-line 및 후막형 포토레지스트가 있으며, 주로 반도체 및 패키징 산업의 포토리소그래피 공정에 사용됩니다; 이 밖에도 포토레지스트용 현상액을 포함한 일련의 관련 제품을 제공합니다. 디스플레이 산업의 더 높은 색 표현 요구에 부응하기 위해 TFT Array 포토레지스트, 열경화 oc, 차광 잉크, 유리 측면 보호 접착제, 현상액 및 희석액을 지속적으로 개발하여 고객의 다양한 요구를 충족하고 있습니다. LED 상류 공정에 사용되는 각종 기판 연마용 슬러리를 제공하며, 각각 사파이어 기판, 실리콘 웨이퍼 기판 및 스테인리스강의 전단·후단 연마 공정에 적용됩니다. 또한 LED 중류 단계의 포토리소그래피 공정에 사용되는 포지티브 및 네거티브 포토레지스트도 제공합니다. 터치패널 공정에 적용되는 다양한 포토레지스트와 함께, 터치 모듈 공정의 보호층 및 절연층에 사용되는 포토레지스트, 카본블랙 포토레지스트 및 관련 제품도 공급합니다.
역량 및 제품
- G-line/I-line/후막 포토레지스트
- 포토레지스트 현상액
- TFT Array 포토레지스트
- 열경화 overcoat
- 차광 잉크
- 유리 측면 보호 접착제
- LED 기판 연마 슬러리
- LED 황색광용 포지티브·네거티브 포토레지스트
- 터치 모듈 보호/절연층 포토레지스트
- 카본블랙 포토레지스트