基本情報
| ブース | K2570 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | ecbu.ecic.com |
会社概要
Everlight Chemical Industrial Corporation は1972年に設立され、1988年に台湾証券取引所へ上場し、化学合成技術を中核能力として発展させてきました。同社はハイテク化学企業と位置づけ、高付加価値、低エネルギー消費、低汚染のハイテク化学製品を継続的に開発しています。感光性製品には、ポジ型フォトレジスト、ネガ型フォトレジスト、遮光フォトレジスト、絶縁材、overcoat、高反射層、側面保護シールインクが含まれます。感光性製品の特性として、塗布均一性、小さいダークエロージョン、表面インピーダンス、密着性、剥離性が挙げられています。
展示製品
G-line、I-line、厚膜フォトレジストを半導体・パッケージング産業のフォトリソグラフィープロセス向けに提供し、フォトレジスト現像液などの関連製品も供給します。製造は厳密に管理されたクリーンルーム環境で行われ、高度な分析機器により一貫した製品品質を支えます。EPG 510 Series ポジ型フォトレジストはIC用途向けで、高感度、密着性、耐熱性、広いプロセスマージンが挙げられています。EPG 530 Series ポジ型フォトレジストはIC用途向けで、高感度、高解像度、密着性、耐熱性、広いプロセスマージンが挙げられています。EPG 550 は G-line 金属層製造向けのポジ型フォトレジストで、高解像度と金属層の反射防止能力を備えます。EPG 590 Series は bumping 製造向け厚膜ポジ型フォトレジストで、耐薬品性、高粘度、密着性、めっき工程適用が示されています。ディスプレイ用途向けに、Everlight Chemical Industrial Corporation は TFT Array フォトレジスト、熱硬化 overcoat、遮光インク、ガラス側面保護接着剤、現像液、希釈液を開発しています。LED上流工程向けには、サファイア基板、シリコンウェハ基板、ステンレス材の前工程・後工程研磨に用いる基板研磨スラリーを供給します。LED中流のフォトリソグラフィー向けにはポジ型・ネガ型フォトレジストを供給します。タッチパネル工程向けにも複数のフォトレジストを供給します。タッチモジュール工程向けには別途、保護層・絶縁層用フォトレジスト、カーボンブラックフォトレジスト、関連製品を供給します。LED製造では、lift-off と PSS（Pattern Sapphire Substrate）工程向けフォトレジスト、関連するウェハ研磨スラリー、現像液を提供します。LED材料の品質技術には ultra-clean manufacturing、pp-level analysis、microlithography が含まれます。ESA 300 は特殊配合の分散アルミナ砥粒を使用し、高除去率のSiC基板研磨に用いられます。ESA 300 は良好な懸濁性、高希釈性、作業時の再分散性、Ra < 0.1 nm の表面粗さ、優れた除去率も示されています。ディスプレイ材料開発は、TFT Array フォトレジスト、overcoat、遮光インク、側面保護接着剤、現像液、希釈液を組み合わせ、より高い色表現要求に対応する方向で進められています。LED関連では、フォトレジスト、現像液、研磨スラリーの供給を、製品品質を支える ultra-clean manufacturing、pp-level analysis、microlithography 技術と組み合わせています。
対応領域・製品
- G-line／I-line／厚膜フォトレジスト
- フォトレジスト現像液
- TFT Array フォトレジスト
- 熱硬化型 OC
- 遮光インク・ガラス側面保護シール
- LED 基板研磨スラリー
- SiC 基板高除去率研磨スラリー
- LED Lift-off／PSS 用正・負型フォトレジスト
- タッチパネル工程用フォトレジスト
- タッチモジュール保護層・絶縁層用フォトレジスト
- カーボンブラックフォトレジスト