基本資料
| 攤位 | K2570 |
| 國別 | TW |
| 網站 | ecbu.ecic.com |
公司簡介
臺灣永光化學工業股份有限公司成立於1972年，並於1988年在台灣證券交易所掛牌上市，持續發展化學合成技術並將其建立為核心能力。公司將自身定位為高科技化學企業，並持續開發高附加價值、低能耗與低污染的高科技化學產品。感光性產品系列包括正型光阻、負型光阻、遮光光阻、絕緣層、overcoat、高反射層與側邊保護封膠油墨。感光性產品列出的特性包括塗佈均勻性、小暗蝕、表面阻抗、附著性與剝離性。
展出產品
公司提供 G-line、I-line 與厚膜光阻，應用於半導體及封裝產業的黃光製程，並供應光阻顯影液與其他相關產品。產品在嚴格控制的無塵室環境中製造，並以先進分析儀器支援穩定的產品品質。EPG 510 Series 正型光阻適用 IC 應用，列有高感度、附著性、耐熱性與寬製程窗口。EPG 530 Series 正型光阻適用 IC 應用，列有高感度、高解析度、附著性、耐熱性與寬製程窗口。EPG 550 是用於 G-line 金屬層製程的正型光阻，具高解析度與金屬層抗反射能力。EPG 590 Series 為 bumping 製造用厚膜正型光阻，列有耐化性、高黏度、附著性及電鍍製程應用。針對顯示器應用，臺灣永光化學工業股份有限公司開發 TFT Array 光阻劑、熱固 overcoat、遮光油墨、玻璃側邊保護膠、顯影液與稀釋液。針對 LED 上游製程，公司提供基板拋光用研磨漿料，應用於藍寶石基板、矽晶圓基板與不鏽鋼材的前段及後段拋光製程。針對 LED 中游黃光製程，公司供應正型與負型光阻劑。公司亦提供多種用於觸控面板製程的光阻劑。針對觸控模組製程，公司另行供應保護層與絕緣層用光阻劑、碳黑光阻劑及相關產品。在 LED 製造中，公司提供適用 lift-off 與 PSS（Pattern Sapphire Substrate）製程的光阻，以及相關晶圓拋光漿料與顯影液。LED 材料的品質技術包括 ultra-clean manufacturing、pp-level analysis 與 microlithography。ESA 300 使用特殊配方的分散氧化鋁磨料，用於 SiC 基板拋光並具有高移除率。ESA 300 另列有良好懸浮性、高稀釋性、可再分散性、Ra < 0.1 nm 的表面粗糙度及高移除率。顯示材料開發以滿足更高色彩表現要求為方向，透過 TFT Array 光阻、overcoat、遮光油墨、側邊保護膠、顯影液與稀釋液的組合產品線來對應。在 LED 相關產品中，公司把光阻、顯影液與研磨漿料供應，和 ultra-clean manufacturing、pp-level analysis、microlithography 等支援產品品質的技術結合。
能力與產品項目
- G-line／I-line／厚膜光阻
- 光阻顯影液
- TFT Array 光阻劑
- 熱固型 OC
- 遮光油墨與玻璃側邊保護膠
- LED 基板拋光研磨漿料
- SiC 基板高移除率研磨漿料
- LED Lift-off／PSS 正負型光阻
- 觸控面板製程光阻
- 觸控模組保護層與絕緣層光阻
- 碳黑光阻劑