基本資料
| 攤位 | I2808 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.els-tech.com.tw |
公司簡介
億力鑫系統科技股份有限公司於 2005 年 4 月成立，當時從事光阻製程設備與材料代理 15 年的 Tekstarter Co., LTD. 投資億力鑫系統科技股份有限公司，以順應台灣半導體與光電產業設備在地化趨勢，引進日本技術，並整合機械設計、軟體、影像處理、電控與化學管路等本地專業人才。公司專注於前段全自動黃光製程量產設備，並依半導體製程不可逆的特性開發設備。億力鑫系統科技股份有限公司表示，國內設備製造商當時既沒有能力也沒有意願開發這類設備，公司則在適應半導體製程不可逆特性的過程中，把設備從可運作推進到可應用且實用。在客戶持續提供指導與技術支援下，150 名專業同仁依客戶需求開發黃光微影 track 系統。億力鑫系統科技股份有限公司將自身定位為黃光製程整體解決方案供應商，並已開發 Spin Coater、Mask Aligner、Spin Developer、Spin Etcher 與 Spin Stripper 設備。公司表示在 LED 產業具有高市占率，也服務被動元件、二極體元件、先進封裝、MEMS、3DIC 與其他半導體相關產業，依不同製程需求開發客製化黃光製程設備。公司的目標是成為系統化設備整合商，而不是精密機械製造商，並成為服務導向公司，而不是製造導向公司。億力鑫系統科技股份有限公司結合整合能力、持續演進的工作流程與 KM、Knowledge Management、IT 系統，把客製設備轉為標準化與模組化設備。公司強調可靠設備、降低製造成本的努力，以及與客戶建立長期夥伴關係。
展出產品
億力鑫系統科技股份有限公司起家於新竹竹北台元科技園區，自建 20 年軟硬體技術團隊，整合機械設計、電控系統、PC/PLC 控制、影像處理、自動化搬送與化學管路能力。除標準機台外，公司專精於依客戶黃光微影與濕式製程需求客製半導體製程設備，憑藉超過 20 年服務相關產線的經驗，持續精進流場設計、流體與溫度控制，以及製程彈性的規劃。公司運用對光阻、酸鹼藥液與完整製程的實務理解，把客戶需求轉化為可落地的設備方案；製程模組以 PLC 控制求穩定，C++ 軟體支援全機彈性自動化與高產能輸出，並由 PLC 與 PC 協作實現動作控制與安全邏輯。公司累積設計履歷、製造履歷、製程參數履歷、設計變更履歷與設計異常履歷，並使用自行設計的 ERP 與專案管理系統。設備產品線涵蓋晶圓塗佈、曝光、顯影、蝕刻、光阻剝離、清洗與光罩清洗，支援 ⌀ 50 mm 至 ⌀ 300 mm 晶圓及多元特殊製程應用，並可依客戶晶圓尺寸、製程條件、自動化需求與廠務連線要求配置。L01 旋轉塗佈機 Spin Coater 可將光阻均勻塗佈於晶圓表面，支援高黏度光阻與多層塗佈，提供 50–300 mm 晶圓的全自動與半自動型號。L02 曝光機 Mask Aligner 是紫外線曝光系統，可精準對準光罩與晶圓，適用於化合物半導體、LED 與特殊晶圓應用，提供 50–300 mm 晶圓的全自動與半自動配置。L03 旋轉顯影機 Spin Developer 用於光阻曝光後顯影，精確控制顯影時間與藥液流量以支援圖案品質與均勻性，提供 50–300 mm 晶圓的全自動與半自動配置。L04 全自動熱板 Hot Plate 是全自動晶圓烘烤設備，具 Contact 與 Proximity 雙模式加熱，支援 ⌀ 50 mm 至 ⌀ 150 mm 晶圓，選配最高烘烤溫度為 200°C。L05 洗邊機 Spin Edge Scrubber 可去除晶圓邊緣厚膜光阻與乾膜材料，作為先進封裝電鍍前的重要工序，採全自動搬送並支援 200 mm 與 300 mm 晶圓。
能力與產品項目
- 前段全自動黃光製程量產設備製造
- 客製黃光微影與濕式製程設備
- 黃光微影 Track 系統
- 高黏度與多層光阻旋轉塗佈機
- 光罩對準紫外線曝光機
- 旋轉顯影機
- 旋轉蝕刻機
- 旋轉光阻剝離機
- 全自動晶圓熱板
- 晶圓洗邊機
- 晶圓與光罩清洗設備