기본 정보
| 부스 | J2353 |
| 국가 | US |
| 웹사이트 | www.icpms.com/products/scoutdx.php |
회사 소개
Elemental Scientific, Inc.는 ICPMS, ICPOES 및 FAA를 사용해 광범위한 시료의 미량 원소 농도를 측정하기 위한 자동 시료 도입 시스템 전체 제품군을 개발하고 생산합니다. 제품군은 네뷸라이저부터 자동 보정, 시료 희석 및 QC 희석을 위한 인라인 자동 희석 기능을 갖춘 지능형 오토샘플러까지 포함합니다. 고급 시스템은 사전 농축, 매트릭스 제거 및 화학종 분석을 포함한 인라인 화학 처리를 수행할 수 있어 수동 시료 전처리를 없애고 생산성과 효율을 높입니다.
전시 제품
소변, 전혈, 혈장, 혈청 및 기타 복잡한 생물학적 매트릭스의 미량 원소를 ICPMS로 정확하게 측정할 때 높은 총용존고형물과 기타 생물학적 성분에 의한 매트릭스 효과가 방해가 될 수 있습니다. 전통적으로 혼합 소변이나 전혈 같은 실제 임상 시료를 이용한 매트릭스 매칭 보정이 가장 높은 정확도에 사용되어 왔지만, 잠재적으로 위험한 생물학적 물질을 대량으로 수집·취급·특성화해야 하고 임상 시료 유형마다 별도의 보정 매트릭스가 필요합니다. 관심 원소가 보정 매트릭스 자체에 존재할 가능성이 높기 때문에 정확한 결과를 위해 블랭크 보정이 필요합니다. Clinical Matrix는 소변, 전혈, 혈장, 혈청, 소화 처리된 모발과 손톱의 매트릭스 매칭을 위해 생물학적 매트릭스를 모사하도록 설계된 초고순도 독자 합성 혼합물이며, 금속 오염을 제거하도록 특별히 정제되어 주기율표의 대부분 원소에서 미량 금속 농도가 낮은 ppt 또는 sub-ppt 수준입니다. prep FAST IC Clinical 시스템은 SampleSense UHT Clinical 구성을 추가해 인라인 희석을 이용한 총금속 분석, 인라인 희석을 이용한 화학종 분석, UHT 추가 기능을 사용하는 수동 전처리 시료의 고처리량 분석이라는 세 가지 모드로 운전하며 생물학적 시료의 고처리량 분석과 원소 화학종 분석을 함께 필요로 하는 고객을 지원합니다. scoutDX는 반도체 공정 화학물질과 초순수를 실시간 24/7 모니터링하며 탱커 또는 드럼 반입, 중앙 화학 공급, 분배 지점, 최종 사용 지점에서 금속 불순물을 감시해 낮은 ppt 또는 sub-ppt 오염 수준을 확인합니다. scoutDX는 금속 자동 보정, 모든 반도체 등급 화학물질 분석, 최대 40개 샘플링 지점, 모든 방향으로 최대 및 300 m 초과 거리, 완전 자동 ppt 및 sub-ppt 금속 검출, 시료 비오염, 화학물질에 대한 사람 접촉 최소화, SECS-GEM을 포함한 유연한 데이터 보고를 지원합니다. 더 넓은 Scout Semiconductor Online Monitoring Systems는 팹 전체에서 반도체 공정 화학물질과 초순수의 ppt 수준 금속, 나노입자 및 유기 오염물질을 실시간으로 모니터링합니다. Scout 온라인 금속 모니터링은 초고순도 반도체 화학 분석을 위한 자동 24/7 도구를 사용해 모든 화학물질에서 초저농도 금속 및 입자 오염물질을 검출합니다. VPD-ICPMS는 초저 검출한계로 반도체 웨이퍼의 금속 오염을 온라인 감시하는 고처리량 완전 자동 생산 도구이며, Radian은 단일 공정 스테이션, 초고속 스캐너와 통합 ICPMS를 결합하며 이러한 특징으로 세계에서 가장 빠르고 자동화된 VPD-ICPMS가 되며 Radian 3는 하나의 all-in-one 공정 모듈, Radian 7은 듀얼 all-in-one 공정 모듈을 사용하며 radial fast-scanning nozzle은 60초 이내에 웨이퍼 표면을 스캔합니다. 완전 자동 유기 오염 모니터링 시스템은 반도체 화학물질의 유기 불순물을 실시간 감시하고 오염물질을 자동 검출·식별하며 각 오염물질을 정량화하고 차트화하고 거의 실시간 모니터링을 위한 SECS-GEM 경보를 전송합니다. 온라인 나노입자 및 총금속 모니터링은 나노입자 크기와 수량의 다원소 측정, 나노입자와 총금속 자동 보정, 모든 반도체 등급 화학물질 분석, 최대 40개 샘플링 지점과 모든 방향 최대 300 m를 지원합니다. 완전 자동 PPQ 총금속 플랫폼은 UPW, IPA, TMAH, 30% H2O2 및 기타 매트릭스에서 sub-PPQ 검출한계를 제공하고 다원소 총금속 측정, 까다로운 매트릭스 제거와 ICPMS 간섭 영향 감소를 수행합니다. 유기 오염 모니터링은 최대 40개 샘플 지점을 지원하고 개별 시료를 최대 300 m 떨어진 중앙 장치로 빠르게 전송하며 시설 화학물질, 환경 방류수, 화학조 및 기타 액체 시료의 유기 오염과 불순물을 검출하고 전체 반도체 화학물질 범위를 동시에 모니터링합니다. scoutLAB은 화학 공급에 직접 연결되고 최대 20개의 직접 화학 샘플러 용량과 실험실 분석용 온보드 오토샘플러 옵션을 갖춘 24/7 금속 모니터링용 실험실 기반 온라인 시스템입니다. 실시간 초미량 금속 모니터링은 금속 오염을 즉시 검출·통지하고 제품 수율 개선을 지원하며 위험 화학 시료에 대한 사람 접촉을 줄여 안전성을 높이고 오류를 줄이고 각 샘플링 스테이션에서 사용자 정의 오염 제어 파라미터를 설정할 수 있는 맞춤형 소프트웨어를 제공합니다. 실리콘 나이트라이드 식각에서는 ppm 수준의 자유 실리콘을 완전 자동 무인 측정하면서 결합 실리콘을 동시에 감시하고 고온 인산욕에서 자유 및 결합 실리콘을 모니터링하며 실리콘 자동 보정과 검증을 수행합니다. 완전 자동 온라인 공정 가스 모니터링은 자동 감시, 즉각적인 오염 검출과 통지, 나노입자와 총금속 데이터의 동시 측정, 최대 16개 공정 가스 연결, CO2, N2, O2, Ar, He, Ne 및 기타 가스 모니터링을 제공합니다. 총유기탄소 온라인 모니터링은 UPW와 폐수의 TOC를 정량 분석하며 범위는 0.2 미만에서 1000 ppm C이고, 하나의 중앙 분석기가 최대 40개 샘플링 지점과 모든 방향 최대 300 m를 모니터링합니다.
역량 및 제품
- ICPMS/ICPOES/FAA 자동 시료 도입 시스템
- 인라인 자동 희석 오토샘플러
- 인라인 전농축·매트릭스 제거·화학종 분석
- 임상 생물 시료 ICPMS 매트릭스 매칭 소재
- 반도체 화학품 24/7 온라인 금속 모니터링
- 웨이퍼 금속 오염 온라인 VPD-ICPMS 모니터링
- 반도체 화학품 유기 오염물 실시간 모니터링
- 나노입자 및 총금속 온라인 모니터링
- UPW/IPA/TMAH/H2O2 sub-PPQ 총금속 분석
- 고온 인산조 유리·결합 실리콘 자동 모니터링
- 공정 가스 나노입자 및 총금속 모니터링
- UPW 및 폐수 TOC 온라인 모니터링