基本情報
| ブース | S7646 |
| 国 | TW |
| 製品カテゴリ | Lithography Systems for Wafer Level Packaging; Bumping; 3D Interconnect Aligners · Cutting; Drilling; Laser ablation; Beveling Equipment · Plate Inspection Equipment · Spectrometers; Fourier Transform Infrared (FTIR); Attenuated Total Reflectance FTIR (ATR-FTIR); Auge · X-ray; XRF; 3-D X-Ray; LEXES Systems · Modules · Wafers · Cleaning; Washing; Drying Equipment for Substrate, Fab Processing · Crystal Growing & Machining Equipment · Etching; Stripping; Ashing - Dry and Wet Equipment · Lithography; Exposure; Aligners; Direct Write Systems; Steppers; Scanners; Nanoimprint · Plating; Electro Chemical Plating; Deposition Systems · Wafer Identification; Marking Equipment · Thick Film Pastes; Materials · Thin Film; Dielectric Film Materials · Cleaning Chemicals; Solvents; Strippers · CMP; Grind; Lap; Polish; Abrasive materials · Ultrasonic Generators; Transducer and Monitoring Systems · Measurement and Control Technology |
| ウェブサイト | www.deantech.com.tw |
会社概要
凱勃科技(Dean Tech)は、ドイツ・ブルカー(Bruker)の台湾地区における正式に認定された総代理店であり、主にポータブル型/卓上型/据置型のオープン微小領域スキャン分光計シリーズの台湾での販売・アプリケーション・アフターサービスを担当し、さらに欧米・日系の10社を超えるメーカーのブランド機器・部品の販売資格も有しています。凱勃科技は、半導体材料および装置部品の微小汚染に関する検査手法の構築やパラメータ調整について豊富な経験を持ち、一線級の半導体大手の認定サプライヤーとして、また検査手法の構築における実戦経験を備えています。さらに当社は、WET Clean、CMPから、後工程パッケージング、洗浄・化学研磨、後工程パッケージングのダイシングにおける歩留まり向上に至るまで、前工程・後工程の完全なプロセス改善ソリューションを提供しており、先進プロセス・成熟プロセスの双方にわたるトップメーカーでの実務経験を有し、装置向けにカスタマイズ部品を提供します。凱勃科技は、半導体分野における表面残留汚染分析の完全なソリューションや、各種有機物・無機物の分析を提供します。当社はメーカー出身の複数の博士レベルの専門家と、メーカーから認定された専門分析人材を擁し、材料分析・プロセス分析におけるお客様のニーズに安定的に応えるサービスを提供しており、「革新」「品質」「専門性」を中心とする経営理念と運営方針を掲げています。
展示製品
MA-XRF、反射イメージング分光(RIS)、3Dデジタル顕微鏡などの先進的な分析技術を用い、《真珠の耳飾りの少女》の肌色表現に用いられた材料と技法を研究した事例を紹介します。分析では、顔の滑らかな光影移行、背景と肌の間に意図的に残された隙間、肉眼では見えにくいまつ毛などの細部が明らかになりました。顔料断面の研究により、異なる等級・品質の鉛白、hydrocerussite/cerussite比率、粒径差、鉛石鹸や赤色レーキ顔料に関連する鉛化合物の形成が確認されています。Bruker M6 JetstreamによるMAXRF走査、PyMcaおよびDatamuncherによるデータ処理、元素分布図の作成により、Pb、Fe、Hg、K、Ca、Cuなどの分布を解析しました。結果として、明部、中間調、陰影が異なる下層と顔料で体系的に構築され、最終塗層の厚みや組成を変えることで柔らかな肌色が表現されていることが示されました。この事例は、文化財分析における非破壊イメージング技術の有効性を示しています。
対応領域・製品
- Bruker のポータブル、ベンチトップ、床置き型オープン微小領域走査分光計
- WET Clean および CMP プロセス改善ソリューション
- 半導体マイクロコンタミネーション検査手法の構築
- 半導体向け表面残留汚染分析
- 半導体検査パラメータ調整
- 半導体装置向けカスタム部品
- 後工程パッケージングダイシングの歩留まり改善
- 有機および無機分析サービス