基本資料
| 攤位 | S7646 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.deantech.com.tw |
公司簡介
凱勃科技有限公司為德國 Bruker 正式授權台灣總代理，負責移動式、桌上型、落地式材料分析設備、開放式微區掃描光譜儀及相關分析系統在台灣的銷售、技術應用與售後服務。公司同時代理超過十家歐美日品牌的設備、半導體設備零組件與製程解決方案，讓客戶可由同一技術支援體系取得多類儀器與零組件。針對半導體材料與設備零件，凱勃科技有限公司具備微污染分析經驗，可協助建立檢測方法、分析流程、量測參數與品質管理標準。公司亦具備一線半導體大廠合格供應商及分析、檢測方法建立的實務經驗，用於協助提升製程穩定性與良率。製程改善範圍涵蓋前段與後段，包括 WET Clean、CMP、晶圓清洗、化學機械研磨、先進封裝、清潔、化學研磨、切割製程與良率提升，並涵蓋先進製程與成熟製程。針對半導體設備，公司可依客戶需求提供客製化零件設計、製造、優化與驗證，將設備零件工作與設備效能及製程品質改善相連結。流體工程服務包括流體改善、流場分析（CFD）、混合效率優化、流道設計與流體模擬，應用於半導體、化工及精密製造。透過流體力學分析與客製化設計，可改善流場均勻性、降低壓降、提升混合效率，並為特殊應用開發流體元件與解決方案。公司亦投入智慧製造與人工智慧應用，提供 AI 視覺辨識、模型訓練、資料分析、自動化檢測與 SEMIBro 仿生腦（Neuromorphic Computing）等服務。AI 技術可導入材料分析、品質管理與半導體製程優化，協助建立智慧分析流程並提升自動化程度。材料與元素分析範圍包含表面殘留污染分析、有機與無機材料分析、微污染檢測、失效分析、材料特性研究與製程改善。技術支援包含 Bruker 原廠博士級專家團隊與經原廠認證或授權的專業技術人員，服務涵蓋技術顧問、教育訓練、應用開發、材料與製程分析及售後服務。公司以「創新（Innovation）」、「品質（Quality）」、「專業（Professionalism）」為經營理念，將分析技術、半導體製程經驗、流體工程設計與人工智慧應用結合於客戶專案。 合作夥伴吉達科研有限公司 theta tech co., ltd. 專營 XRF 無損分析、FTIR、NIR、Raman 光譜儀材質鑑定、X 光影像處理、化學分析與有害物質分析，並可在研發、製程與品保階段提供儀器分析解決方案。凱勃科技有限公司亦表示其為日本 SIO Co., Ltd. 株式會社全球唯一股東。
展出產品
凱勃科技有限公司列出的具名產品與系統包括 SEMIBro 仿生腦、Bruker 次世代 Titan、SIO MIXER 奈米氣泡產生裝置、Bruker TRACER 5g、Bruker M4 Tornado PLUS 與 Bruker M6 Jetstream。更廣泛的分析儀器範圍包含 X 光繞射儀 XRD、WDXRF、Portable XRF、HHXRF、古物／藝術／考古／修復分析儀、Micro XRF、TXRF、FTIR、FTIR Microscope、Raman Microscope，以及供 Airborne Systems、Laboratory Systems、Field、UAV 與 Industrial Applications 使用的高光譜系統。其他供應範圍還包括畫作、紙張與織品修復設備、Extract-All、FLUXANA VANEOX 壓餅機與工具耗材、VITRIOX 融鎔機、實驗室耗材及標準品。SIO MIXER 是奈米氣泡產生裝置，安裝時不需通入外部氣體，目的在改變液體特性、改善製程並降低成本。SIO 方案結合流體力學 know-how 與流體優化、奈米氣泡相關專利設計，可使用多等級鋼材、PTFE、PFA 與塑鋼等材質對應不同設備需求。客製安裝時可依客戶機台 recipe 優化內部結構，在維持原始流量與壓力設定相容性的前提下調整氣泡濃度，也能開發專屬噴嘴並整合到不同機台位置及出水噴嘴端。針對大流量需求可提供 500 LPM 以上特規型號，水壓範圍為 1 至 120 bar，PTFE 與 PFA 配置可支援化學品及酸鹼液體。奈米氣泡技術可依製程需求調控粒徑，最小可控粒徑為 1 nm，並可依實際應用最佳化平均粒徑範圍。奈米氣泡驗證方面，公司使用 Malvern NanoSight Pro 與 Zetasizer，並累積數千筆分析數據，用於比對與安裝位置濃度驗證。公司指出不同世代 NTA 的濃度數據可能出現 3 至 4 倍差異，因此建議以最新型 NanoSight Pro 作為濃度檢測基準，而不要以舊款 NTA 換算。其所述次世代奈米氣泡型號氣泡濃度可突破 25 億，若使用舊款 NTA 測試，受基差影響換算值可能達 70 至 100 億。半導體清洗方面，公司將奈米氣泡生成條件調校與分析設備的微區污染改善評估結合，也可提供奈米氣泡與微米氣泡的組合型產生方案，結合奈米氣泡的高滲透性與微米氣泡的高剝離、高溶解效能。另一項分析應用為 2018 年「Girl in the Spotlight」專案對 Johannes Vermeer《戴珍珠耳環的少女》膚色的研究，結合 MA-XRF 影像、反射成像光譜技術、3D 數位顯微鏡與顏料橫截面分析。研究描述 Vermeer 以光影塑造臉部、將最後塗層平滑融合成近乎無縫的過渡，並在背景與皮膚之間留下間隙形成柔和輪廓，也呈現睫毛等肉眼不易看見的細節。橫截面研究指出膚色顏料使用不同等級與品質的鉛白，具有不同 hydrocerussite 與 cerussite 比例及粒徑，並辨識出鉛皂與和 red lake 有關的 K2Pb(SO4)2。Vermeer 約在 1665 年發展柔和膚色的描繪技術，而此柔和手法也是將作品年代定在約 1665 年的主要依據之一。MA-XRF 資料以 Bruker M6 Jetstream 在兩個區塊收集共 25 小時，之後對臉部左側 240x24mm 條帶掃描 19 小時，條件為 50kV、600μA、400μm 步階與 125ms 停留時間；臉部細節掃描使用 100μm 步階與 200ms 停留時間。資料由 Bruker 軟體收集，再以 PyMca 與 Datamuncher 處理、接合以生成元素分布圖；MA-XRF 用於表層及表層下化學元素分析，RIS 則提供顏料分子資訊。研究自粉膚色高亮區與陰影區取樣，運用多種橫截面技術取得塗層狀況與厚度資訊，確認 MA-XRF 推定的顏料，並深入分析底層與表層鉛白及老化、降解形成的含鉛物質。底層顏料構成三維表面，臉部右側受光、左側處於陰影，兩頰形成細微過渡；眼睛周圍與鼻側的柔和中間色調界定臉部特徵，且多個描繪階段之間會先乾燥，40 倍立體顯微鏡可見受光部位有較厚的乳白色底層。Pb-L 測繪用於觀察表層與深層鉛訊號，影像調整後可見亮面 Pb-L 訊號高於陰影面；眼睛、鼻子、臉頰與頸部陰影區有較高 Fe 訊號，Pb-M 則顯示鉛白普遍存在於淺、中、陰影膚色色調。Pb-M 與 Hg-L 測繪顯示粉膚色同時含鉛白與硃砂，Fe-K、Pb-M、Hg-L 結果支持中間色調與陰影上層含土類顏料、鉛白及少量硃砂，K 與 Ca 訊號可能與有機色澱顏料基質相關。可見光看似平滑漸變，但 MA-XRF 證據區分了光亮、中間影調與陰影的底層及不同顏料塗飾，顯示不同顏色區域自繪畫早期即被系統化建構。底層乾燥後，最後的平滑色層在厚度與組成上有所變化，亮區上層較厚，中間色調與陰影較薄，使底層顏料參與最終色彩；臉頰由明亮、冷色調到陰影的三種粉棕色調呈現細緻融合。Fe-K 圖顯示臉部亮側靠近深色背景處有明顯富鐵輪廓，高解析度 MA-XRF 以 Cu-K 作背景標記、Hg-L 作臉部標記的疊圖顯示背景顏料層與臉部粉膚色塗層並未接觸，兩者間存在與 Fe 圖一致的明顯間隙。 具名產業應用主題還包括不同代 NTA 的量測誤差、半導體零件氟殘留、半導體污染分析、以 HHXRF 量測零件塗層厚度，以及高光譜成像與礦物鑑定。
能力與產品項目
- Bruker 材料分析設備台灣總代理
- 半導體微污染檢測方法建立
- WET Clean/CMP/晶圓清洗製程改善
- 客製半導體設備零件設計製造驗證
- CFD 流場分析與流體模擬
- AI 視覺辨識與自動化檢測
- 材料表面殘留與失效分析
- SIO MIXER 奈米氣泡產生裝置
- SIO MIXER 1–120 bar 化學酸鹼液應用
- 奈米氣泡粒徑控制至最小 1 nm
- NanoSight Pro & Zetasizer 奈米氣泡濃度驗證
- 奈米氣泡與微米氣泡組合產生