At a glance
| Booth | S7646 |
| Country | TW |
| Product categories | Lithography Systems for Wafer Level Packaging; Bumping; 3D Interconnect Aligners · Cutting; Drilling; Laser ablation; Beveling Equipment · Plate Inspection Equipment · Spectrometers; Fourier Transform Infrared (FTIR); Attenuated Total Reflectance FTIR (ATR-FTIR); Auge · X-ray; XRF; 3-D X-Ray; LEXES Systems · Modules · Wafers · Cleaning; Washing; Drying Equipment for Substrate, Fab Processing · Crystal Growing & Machining Equipment · Etching; Stripping; Ashing - Dry and Wet Equipment · Lithography; Exposure; Aligners; Direct Write Systems; Steppers; Scanners; Nanoimprint · Plating; Electro Chemical Plating; Deposition Systems · Wafer Identification; Marking Equipment · Thick Film Pastes; Materials · Thin Film; Dielectric Film Materials · Cleaning Chemicals; Solvents; Strippers · CMP; Grind; Lap; Polish; Abrasive materials · Ultrasonic Generators; Transducer and Monitoring Systems · Measurement and Control Technology |
| Website | www.deantech.com.tw |
Company profile
Dean Tech (Kai-Bo Technology) is the officially authorized sole agent in Taiwan for Germany's Bruker, mainly responsible for the sales, application, and after-sales service in Taiwan of portable / benchtop / floor-standing open micro-area scanning spectrometer series, and it is also qualified to sell branded equipment and parts from more than 10 European, American, and Japanese manufacturers. Dean Tech has rich experience in helping establish micro-contamination inspection methods and parameter adjustment for semiconductor materials and equipment parts, with hands-on experience as a qualified supplier to leading semiconductor manufacturers and in establishing inspection methods. The company also offers complete front-end and back-end process improvement solutions—from WET Clean and CMP, to back-end packaging, cleaning and chemical polishing, and yield improvement for back-end packaging dicing—all backed by practical experience with top manufacturers, covering both advanced and mature processes and providing customized parts for equipment. Dean Tech provides complete solutions for surface residual contamination analysis in the semiconductor field, as well as various organic and inorganic analyses. The company has multiple PhD-level experts from the original manufacturers and professionally authorized analysis talent, providing services that stably meet customers' needs in material and process analysis, with a business philosophy and operating policy centered on "innovation," "quality," and "professionalism."
Exhibits
美麗的膚淺: 使用MA-XRF和其他技術對Vermeer《戴珍珠耳環的少女》畫作進行膚色研究 本篇文獻介紹Vermeer完成畫作中少女面部光滑柔軟色調特徵所用的材料和技術，這是2018年"Girl in the Spotlight"研究專案的一部分，結合了MA-XRF影像、反射成像光譜技術(RIS)和3D數位顯微鏡。Vermeer以光影打造面部，接著平滑地混合最後的塗層以形成幾乎無縫的過渡;利用先進的影像技術能夠突顯出Vermeer的繪畫習性，通常在背景和皮膚間留下縫隙來建立臉部周圍的柔和輪廓，並顯現了睫毛等觀者肉眼無法看見的細節。同時搭配其他技術對顏料橫截面進行研究，Vermeer有意在膚色顏料中使用不同等級與質量的鉛白，顯示不同的水白鉛礦(hydrocerussite, HC)/白鉛礦(cerussite, C)比例和粒徑，並透過橫截面分析確定顏料中形成新的鉛化物:鉛皂及與色澱顏料(red lake)有關的硫鉀鈉鉛礦(K2Pb(SO4)2)。 《戴珍珠耳環的少女》是光影大師Johannes Vermeer最著名的畫作，一位穿著異國服飾、戴著東方頭巾的女孩，耳朵上戴著一顆不太符合身分的大珍珠，多少人著迷於畫中少女轉頭望向觀者的姿態、她的凝視、畫面色彩，以及光線的呈現效果。《戴珍珠耳環的少女》並不是傳統意義上的肖像畫（Portait），而是一幅臉部特寫（Tronie），她在Vermeer畢生作品中佔有特殊地位，因為他的大部分作品是由室內場景組成。Vermeer在1665年左右開發了渲染柔和膚色的技術，柔和的描繪手法也是將《戴珍珠耳環的少女》畫作年代定在1665年的主要依據。 MAXRF掃描分析結果是使用Bruker M6 Jetstream在兩個區塊中所收集(共25小時)。接著選擇少女臉部左側240x24mm條帶，用較小的步階和較長的停留時間(共19小時)進行掃描，掃描條件為整個顏料塗層以50kV，600μA，步階400μm，停留時間125ms進行。另以步階100μm，停留時間200ms的條件對面部進行細節掃描，使用Bruker軟體進行所有數據的收集，再使用PyMca和Datamuncher軟體進行處理和接合以生成元素分布圖。 使用MAXRF分析表層和表層下塗料中化學元素，並推斷顏料，近紅外反射成像光譜(RIS)作為輔助工具提供有關顏料的分子信息。圖1a中從粉膚色高亮區塊採集一個樣品點，從膚色陰影處採集另一個樣品點，使用多種技術對塗料橫截面進行檢查，這對離散位置的塗層狀況及厚度提供新信息，並證實MAXRF推斷顏料的存在，以及對底層和表層中使用的鉛白顏料進行更深入分析，顏料的老化和降解形成的含鉛物質對少女臉部外觀產生影響。 通過使用底層顏料建構三維表面，Vermeer讓少女臉部右側面對光線，左側對著陰影，使少女整個臉部具有立體感，兩頰側有著極細微的過渡。柔和的中間色調定義了面部特徵，尤其是在她眼睛周圍和鼻子的側面。Vermeer在幾個不同的階段增強了少女的膚色，約在每一步描繪之間先進行乾燥。使用立體顯微鏡以40倍放大檢查顏料表面，顯示光照部分濃密地塗抹了乳白色底層，厚度足以形成立體感。 MAXRF能夠將表層和底層中存在的鉛可視化，Pb-L信號是鉛的高能發射線，其分布圖對於更深的內部顏料層結構有所貢獻。由於表層鉛白影響，較難看到下一層鉛白的分佈(圖1b)，為了提高清晰度使用photoshop對鉛Pb-L進行調整(圖1c)，少女臉部亮側顯示較高的Pb-L信號，與較低Pb-L信號的陰影側形成強烈對比。 在眼睛周圍、鼻子、臉頰和脖子陰影區顯示較高的Fe信號(圖1d)，鉛（Pb-M）信號來自鉛的低能量發射線，通常以存在於表層的鉛為主（圖1e），顯示鉛白在所有淺色/中色/陰影色調膚色顏料中普遍存在。 從Pb-M和Hg-L測繪結果表明，臉部粉膚色同時包含鉛白和硃砂(圖1e,f)，根據鐵（Fe-K）、鉛（Pb-M）和汞（Hg-L）的MA-XRF結果推斷，用於中層和陰影色調上層的薄表層含有土類顏料、鉛白和少量硃砂（圖1d、e、f），陰影區域和明亮區域與K-K圖相關，並且還含有一些Ca-K(圖1g,h)，鉀和鈣可能與有機色澱顏料的基質有關。 在可見光圖像中，少女臉上的光影過渡似乎無瑕且漸變，但MA-XRF的證據證實光影，中間影調和陰影塗上了底層，並用了不同的顏料塗飾。在MA-XRF圖中，似乎更清楚地定義了不同的顏色區域。這表明從繪畫的早期階段起，Vermeer就清楚他想如何描繪臉上的明暗變化，並使用不同顏色的塗層系統地構建了每個區域。 底層乾燥後，Vermeer將最後一層光滑顏料塗在頂部，並改變厚度和組成，在臉部亮區，上層相對較厚，相比之下中間色調和陰影區則顯示出較薄的塗料，以漸淡畫法讓底層顏料部分暴露，在最終色層中作用。少女臉頰細節顯示三種不同粉棕色調的平滑融合，從明亮(圖2a:區域1)-冷色調(圖2a:區域2)-陰影(圖2a:區域3)，這些區塊的融合是如此微妙。 Fe-K圖中一個顯著的特徵是輪廓分布較豐富的鐵，圍繞臉部光亮面、緊鄰深色背景。在黑白反轉的Fe圖中輪廓更清晰可見，這兩種形式間以暗線顯示(圖3b)，通過疊加高解析度MAXRF測繪(沿著臉部右側細節帶，以步階100μm記錄)的銅元素(圖4b:Cu-K作背景標記，圖1i)和汞元素(圖4e:Hg-L作為臉部標記)，明顯看出背景顏料層和臉部粉膚色塗層並不互相接觸(圖4f)，兩者之間有一個與Fe圖吻合的明顯間隙(圖4c)。
Capabilities and products
- Bruker portable, benchtop and floor-standing open micro-area scanning spectrometers
- WET Clean and CMP process improvement solutions
- back-end packaging dicing yield improvement
- customized semiconductor equipment parts
- organic and inorganic analysis services
- semiconductor inspection parameter adjustment
- semiconductor micro-contamination inspection method development
- surface residual contamination analysis for semiconductors