創造科學先進電子股份有限公司

SEMICON Taiwan 2026 參展廠商 · 攤位 I2616

攤位 I2616國別 TW16 個產品主題
展會資訊

基本資料

攤位I2616
國別TW
網站www.creativetw.com.tw
展商資料

公司簡介

創造科學先進電子股份有限公司的主要服務範圍包括半導體設備開發設計、製造與銷售,以及各種材料加工、表面處理、黏合與評估測試服務。其客戶群包含世界各大半導體廠,銷售商品包括 Electric Static Chuck(ESC、靜電盤)與 Refurbishment、半導體耗材,以及 Focus Ring、Baffle Plate、Upper Electrode 等零件。公司資料列出資本額 3000万円、2020 年銷售額 35億日圓與員工人數 134 名。經營理念重視培養員工專長、深入理解客戶需求並持續提供能滿足客戶的產品,同時將客戶的感謝與信任視為重要價值。創造科學先進電子股份有限公司將研發方式描述為集結多項技術,透過創意持續創造實用的新產品。公司沿革記載,1995 年與東京大學生產技術研究所開始共同研究 Micro Machining,並開始量產半導體設備用 ESC 與離子植入設備 parts。之後於 1996 年開發高速控溫 ESC、1998 年開發 Poly ESC、1999 年開發 12-inch ESC。2000 年公司更名為 Creative Technology 並成立九州營業所,2001 年成立宮崎工廠。後續里程碑包括 2002 年成功開發 G6-ODF Polyimide ESC、2003 年開始銷售溶射產品並導入 Plasma Etching 設備,以及 2004 年取得 ISO9001 品質管理系統認證。2006 年沿革列出成立韓國 PMT 公司、成功開發 G8-ODF Polyimide ESC、取得 ISO14001 環境管理系統認證,以及開始直接販賣日新離子植入設備原廠零件。台灣事務所於 2008 年成立,2010 年台灣分公司改制為子公司創造科學先進電子股份有限公司。2013 年沿革列出成立新加坡辦事處並開始販賣 ESC 電源控制器;2014 年成立 CREATIVE TRADING 並開始販賣插入型靜電容量 Sensor;2016 年登錄民生用品品牌 ataraina 商標。2020 年成立日本東北岩手辦公室並變更公司 LOGO,2021 年成立歐洲辦公室。營運據點包含 Kawasaki R&D Center、宮崎與滋賀工廠、中部支店、北上與熊本營業所、日本 CREATIVE TRADING、台灣子公司、Creative Technology Shanghai Co., Ltd.、Creative Technology USA, Inc.、Creative Tech Asia Pacific Pte Ltd 與韓國 CTK Corporation。Kawasaki R&D Center、宮崎工廠、滋賀工廠與中部支店均標示取得 ISO9001 與 ISO14001 認證。

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展出產品

創造科學先進電子股份有限公司提供半導體設備用各式靜電吸盤新品與翻修服務,包含 TEL、AMAT 與 LAM 平台產品。靜電吸盤服務涵蓋 6-inch、8-inch、12-inch 尺寸,材質包括聚醯亞胺膜(PI)、陽極處理與 Ceramic thermal spray,並提供製造與翻修。150 mm 產品目錄包含 150mm AMAT MXP+ ESC、150mm MxP Poly、150mm Centura ESC、150mm DPS ESC、150mm Lam 9600 ESC 與 150mm Lam 4720 ESC。200 mm 產品包含 AMAT MXP+ ESC / STI Nitride ESC、AMAT DPS ESC、AMAT E-Max ESC、AMAT MXP GEN 2 ESC、AMAT STI MXP Poly ESC、AMAT Super E ESC、LAM9400 ESC 與 Lam Exelan ESC。200 mm 目錄亦列出 Electrode Upper P-1 (DRM2)、TEL 85DP ESC、TEL 85DD (PI) ESC、TEL 85DD (Ce) ESC、TEL SCCM Focus Si Ring、3FB0229G-4、Shibaura CDE ESC、Novellus HDP ESC 等新品或翻修項目。300 mm 產品包含 LAM 608、LAM 611、LAM 374、LAM 577、TEL Long life ESC、TEL SCCM BSP ESC、TEL SCCM SE+ ESC、TEL DRM ESC、TEL SCCM SE ESC、TEL Vigus ATCC ESC 與 TEL Vigus NX ESC。其他 300 mm 項目包含 AMAT E-Max ESC、AMAT HDP ESC、3FB0229G05、SHIBAURA CDE ESC、2-A10839-*A/2-F03446-*A Hitachi AQTC ESC、AIBT ESC 與 TEL Heater Ring。公司也提供用於檢測設備與貼合調整的透明靜電吸盤,其基材、電極與吸附面皆使用透明材料。透明 ESC 適用於背光檢查、全方面外觀檢查,以及在貼合設備中利用透明吸盤的 Alignment Mark 支援製程良率。透明 ESC 也可依用途、形狀、尺寸、厚度與吸附物進行客製設計。IonPad 以特殊樹脂為基材,利用接觸介面的作用吸附對象物,不需要通電或真空。IonPad 可吸附或搬送薄型玻璃與 wafer 等較平面的產品,並可在機器手臂高速搬送時提供止滑效果,以減少 wafer 或產品飛出與滑片。IonPad 使用穩定性高的特殊樹脂塗層而非硬化型接著劑,附著粉塵時可清洗後再使用,若產生傷痕或表面磨損則需更換。IonPad 有表面平滑的黏著 Type 與表面細微凹凸的非黏著 Type,前者主要用於玻璃與薄膜,後者建議用於止滑,並依吸附對象、用途及環境選擇。公司也提供多孔性吸盤,利用遍布表面的微米級孔隙形成均勻吸附,相較傳統有溝槽或孔洞的真空吸盤可降低局部變形與吸附痕跡。當目標物略小於多孔性吸盤時,密集微米級孔隙可減少吸附力下降,公司亦可依目標物特性提供使用建議。客製吸附工具可依形狀、尺寸、厚度、吸附產品種類與材料設計,一站式吸附方案涵蓋靜電吸盤、多孔性吸盤與 IonPad。公司另提供鋁材加工、chamber parts 與 Ion Implanter Parts;Particle collector 則用於在潔淨真空設備從真空到大氣的壓力變化期間,防止產品再次吸附微塵。靜電吸盤的吸附原理包含庫倫力型,使用高壓通電吸附,介電層厚薄會影響吸附力,例子包括 TEL DRM、TEL SCCM、TEL Vigas、AMAT Centura Ultima HDP 與 LAM Versys Kiyo374。Johnson-Rahbek 型則透過調整介電層絕緣性,使少量電流讓電荷移向表面形成虛擬電極,在較低電壓下產生高吸附力,例子包含 AMAT Centura DT-HART、AMAT Producer、LAM Exelan385、Novellus 與 Hitachi(U)。針對難加工的高熔點金屬,公司提供從材料、加工、檢測、清洗到包裝的一站式半導體製造設備零件服務。加工範圍包括純度 99.95% 的鎢、鉬、鉭,以及標示為 MoL、WL 的高熔點金屬合金,可進行切削、鑽孔與研磨加工。公司也設計製造 unit 產品,組合高熔點金屬、陶瓷、碳、鋼、不銹鋼與鋁等不同特性材料,並運用半導體與離子植入零件加工經驗。公司表示,已向國內外半導體設備商與零件製造商穩定供貨超過 20 年,從材料提供到加工出貨維持品質。品質流程包括利用三次元檢測機台與圖像處理系統進行尺寸與外觀檢查、以超音波清洗並對脆弱或細部零件人工清洗、在 class 1000 無塵室存放,以及使用脫氧劑、雙層包裝與緩衝材進行包裝。

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