基本情報
| ブース | L1030 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.corning.com/worldwide/en/products/advanced-optics.html |
会社概要
Corning Incorporated は、製品開発と技術実現に 175 年の歴史を持つ材料科学のイノベーターです。ガラス、セラミック、光学物理の専門性と高度な製造・エンジニアリング能力を組み合わせ、半導体製造を含む幅広い産業を支援します。半導体向けでは、精密ガラスウェーハ・パネルからメトロロジー、コーティング、光学設計までの能力を用いて複雑な技術課題の解決と開発加速を支援します。先進光学の活動は、光の特性、光と物質の相互作用、光を検出する機器への理解に基づきます。数十年にわたり、航空宇宙・防衛、半導体材料・光学、通信、ガラスセラミックスなどの市場で光学協業を行ってきました。顧客との協働を業務の特徴とし、個別の光学技術から完全な複雑システムまで提供します。Corning Incorporated は半導体分野の歴史が 1930 年代に遡るとし、Hale Telescope 向け PYREX® 200-inch Disk の作業から flame hydrolysis 工程が考案され、後の Corning® HPFS® Fused Silica となる超高純度ガラスにつながったと説明しています。この超高純度ガラスは第二次世界大戦中のレーダー技術で最初に使われ、その後スペースシャトルの窓や望遠鏡ミラーに用いられ、関連する材料と工程技術が光通信、さらに半導体製造へ発展しました。歴史ギャラリーは 1934 年を PYREX® 200-inch disk の作業中に fused silica を開発した年として示し、1943 年を Corning® ULE® Glass の節目として示しています。2001 年には HPFS 製のタイムカプセルで創立 150 周年を記念し、2051 年に開封予定です。2024 年には National Geographic が Corning® HPFS® Fused Silica の製造と、極小マイクロチップ製造で光パルスを高精度に導く用途を紹介しました。現在の Semiconductor Technologies & Solutions 事業は、半導体技術ロードマップと Moore's Law の継続的追求に沿うガラスソリューションを供給しています。
展示製品
Corning Incorporated は、測定、検査、パッケージング、リソグラフィおよび関連光学機能を含む、半導体チップ製造のほぼすべての工程に使われる材料、部品、システムを供給します。50 年以上にわたり半導体製品がチップ製造を支え、専任の半導体材料部門がガラス科学の専門性と顧客関係を先端チップ製造に適用しています。Inspection Optics には完全カスタムの高精度精密・検査ツールがあり、deep-ultraviolet 波長までの厳しい仕様に対応する catadioptric、long-working-distance micro-objectives を含みます。Corning® Tropel® metrology instruments は半導体製造におけるウェーハと photomasks の平坦度や重要寸法特性を精密に測定します。非接触・全面測定を数秒で行い、sub-micron から nanometer の精度を提供します。Advanced Packaging and Optical Glass には wafer thinning、fan-out packaging、advanced 2.5/3D packaging、光学・イメージング用途向けガラスウェーハとパネルがあります。Glass and crystalline materials には fused silica、ultra-low-expansion glass、fluoride crystals があり、bulk と part form で半導体部品光学、産業、イメージング用途に供給されます。Lithography manufacturing materials は DUV と EUV lithography を支え、calcium-fluoride crystalline material、Corning® HPFS® Fused Silica、Corning® ULE® Ultra-Low Expansion glass により回路形成用レーザーの導光を助けます。リソグラフィ原料は耐久性、高透過率、低熱膨張係数を備え、リソグラフィ装置の光源から半導体ウェーハへ光を伝え、nanometer-sized features の精度を可能にします。Corning® Calcium Fluoride (CaF2) は、フォトリソグラフィの短波長レーザー光に耐え、導くよう設計された超透明で耐久性のある結晶材料です。Corning® HPFS® Fused Silica は照明・イメージング光学向けの超高純度材料で、ArF、KrF lithography と stepper optics の重要材料です。Corning® ULE® Glass は EUV lithography の mask と optical substrates 向けに調整された titania-silicate 低膨張ガラスで、EUV stepper の厳しい熱環境でも形状とイメージング性能を維持します。CaF2、HPFS®、ULE® glass の異なる特性を使い分け、高エネルギー deep-UV 光、厳しいイメージング要件、熱安定性に対応します。Custom Size Optical Glass は半導体、高出力レーザー加工、OLED display manufacturing、laser debris shields 向けです。Corning Incorporated は、堅牢、正確、高速、長寿命のレンズが必要な厳しい産業用途向けに液体レンズも供給します。先進光学ポートフォリオは測定・検査からパッケージングまでを支え、航空宇宙・防衛、通信、ガラスセラミックス市場にも対応します。半導体材料は、先端・インテリジェント技術への需要拡大に伴い、先端チップでより小さな特徴を形成することを支援します。Corning® ULE® Glass は半導体チップ製造の extreme-ultraviolet lithography に適した材料としても示されています。Corning® HPFS® Fused Silica は、非常に小さなマイクロチップ製造で光パルスを高精度に導く用途に使える純度を持つと説明されています。全体として、材料、検査、メトロロジー、光学設計、コーティング能力、システムレベル光学を組み合わせて半導体製造要件を支援します。
対応領域・製品
- 精密ガラスウェーハ・パネル
- 半導体検査光学システム
- ウェーハ・フォトマスク平坦度計測
- 先端パッケージ向けガラスウェーハ・パネル
- 溶融シリカ・超低膨張ガラス
- DUV/EUVリソグラフィ光学材料
- Corning® Calcium Fluoride (CaF2) リソグラフィ結晶材料
- Corning® HPFS® Fused Silica リソグラフィ材料
- Corning® ULE® Glass EUVマスク・光学基板
- 半導体向けカスタムサイズ光学ガラス
- 産業用液体レンズ