基本情報
| ブース | R7312 |
| 国 | KR |
| ウェブサイト | www.cn-1.co.kr |
会社概要
半導体、ディスプレイ、ナノテクノロジーなどのハイテク分野では、装置とプロセス技術の継続的な研究開発が求められています。CN1 Co., Ltdは、半導体、ディスプレイ、ナノテクノロジー分野で続く研究開発需要に応えるため、ALD装置とプロセス技術の技術開発および革新を継続しています。2008年以降、積極的な研究開発投資を通じてAtomic Layer Deposition事業を発展させてきました。CN1 Co., LtdはAtomic Layer Deposition（ALD）装置のリーディングサプライヤーであると位置付けています。装置設計とプロセス技術は10年以上にわたる集中的な開発を経て、十分に実証され完成度を高めたものと説明されています。同社のALDシステムは半導体およびディスプレイ産業のハイテク組織で利用されています。バイオテクノロジーと先端エネルギー分野の組織も、ナノテクノロジー用途や生産ニーズにCN1 Co., LtdのALDシステムを利用する対象に含まれます。韓国では、同社のALDシステムが数百の大学、国立研究機関、企業で広く使用されています。また、グローバル事業地域として挙げられた国々の数百の主要大学、研究機関、企業でもALD装置が使用されています。韓国以外の地域には米国、日本、シンガポール、台湾、ロシア、中国が含まれます。CN1 Co., Ltdは、供給したALDシステムが著名な大学や企業から認知されているとしています。CN1という名称は「Can Be the Number One」に由来します。同社は、ALD技術の革新性とグローバル企業としての継続的な成長を、世界的に信頼される企業になるという目標に結び付けています。
展示製品
CN1 Co., LtdのALD製品群にはAtomic Premium、Atomic Classic、Atomic Mega、Atomic Dekaが含まれます。さらにAtomic Basic、Atomic Shell、Atomic Cluster、Coating Solution、その他の項目も挙げられています。Atomic PremiumはThermal & Plasma Enhanced ALD Processに対応し、熱ALDとプラズマ強化ALDの両方のプロセス能力を持ちます。Atomic Premiumの標準基板サイズはウェハで4 ~ 12”です。Thermal ALD Processをサポートし、Plasma Processも利用できます。Showerheadと基板の間隔は調整可能で、プロセスモジュール内で機械的な間隔調整ができます。Gas Delivery SystemはBubbler、LDSなどの供給構成に対応します。最高温度はウェハ位置で500 ℃と記載されています。標準のPrecursor Canisterは最大4 Setsです。圧力はThrottle ValveによってAutomatic Controlされます。Process Gaugeは10 TorrのCDG Gaugeです。Process PumpはDry Pumpで、Rotary Pumpも利用できます。Pumping Lineには粒子低減用のHot Trapがあります。したがってAtomic Premiumは、4 ~ 12”ウェハ、熱式および選択可能なプラズマALD、調整可能なShowerheadと基板間隔、構成可能なガス供給、自動圧力制御を一つのプラットフォームに組み合わせています。運転仕様にはウェハ位置500 ℃、最大4組のPrecursor Canister、10 Torr CDG Gauge、Dry PumpとRotary Pumpの選択肢、粒子低減用Pumping Line Hot Trapも含まれます。
対応領域・製品
- ALD装置供給
- Thermal ALDプロセス
- Plasma Enhanced ALDプロセス
- 4~12インチウェハALDシステム
- ウェハ位置500℃対応ALDプロセス