基本資料
| 攤位 | R7412 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.clean.co.jp/news/semicon-taiwan-2026-%E5%87%BA%E5%B1%95 |
公司簡介
日商澄明科技有限公司是日本 Clean Technology Co., Ltd. 的台灣分公司,專門提供半導體與顯示器產線用排氣處理系統。公司以半導體與 LCD 生產線環境保護所需的排氣處理系統為核心開發各類產品。其業務以技術支援先進製造現場與潔淨空間,並從地球環境與人類健康兩方面支撐永續社會為方向。產品範圍列有 Wet Type Aqua IV、Plasma Type Thunder、Heater + Wet Type Sirius Kaiser Oz II、Heater + Wet Type Sirius Kaiser Oz、Exhaust / Drain Line Filter Unit Bariatron 與 Dry Type Reo,並提供客戶支援。日文業務介紹也描述 MA-T® 氣流空間洗淨機 Doctor’e,這項空氣環境技術不依賴傳統濾網過濾,而是清洗空間本身;公司表示該技術曾於大阪・關西萬博展出。專業人員提供產品諮詢與技術支援,並建立支援體系協助客戶安心使用產品。
展出產品
日商澄明科技有限公司提供半導體製造中有害製程氣體與 PFC 氣體的排氣處理系統,可因應乾式蝕刻、CVD 與 MOCVD 製程需求,以兼顧成本降低與高安全性並支援產線穩定運作。粉體捕集器與自動配管清洗系統用於處理製程殘留物與管路堵塞,強化排氣處理系統周邊管理,以支援產線持續穩定運作。公司將「PM2.5對策」與「NOx低減」列為主要主題。Plasma Type Thunder 是用於處理蝕刻系統排出的製程氣體與 PFC 氣體的電漿式排氣處理系統,公司描述其採用全球首創的長弧電漿,並可透過更換單元簡化維護。Thunder 使用具 clamp connection 的小型 plasma reactor 與可獨立拆卸的單元,其 long-arc plasma 技術在 reactor 內部平均氣氛 6000℃ 下,被描述為能以最小能量達到高處理效率。Thunder 可在相同尺寸內最多安裝兩個 reactor、支援 backup line、無時間延遲點火,並可只在處理氣體流入時開啟 plasma,以降低零件磨耗與能源消耗。其 shower area 透過最佳化用水量,使大型 wet scrubber 不再必要;系統被描述為低運轉成本,並通過 SEMI Standards 認證。Dry Type Reo 是用於處理 CVD、ion implantation 與 epitaxial 製程排放氣體的乾式排氣處理系統,被描述為兼顧高安全性與成本降低,並具備維持生產設備順暢運轉及長時間處理的控制功能。Dry Type Reo 採用 abatement-column tank 交換系統與自有 tank,因此無需等待 tank 再生;公司表示 tank 劣化時會由公司負擔費用進行維修與更換。公司表示透過自行開發與生產 catalyst,將 catalyst 成本降低至傳統成本的 1/3 至 1/10;改善 tank 生產、工業廢棄物儲存設施與作業設備後,工業廢棄物成本降低 20%,補充時間降低 30%。Dry Type Reo 列出的製程氣體包括 SiF4、PH3、B2H6、TEOS 與 Si2H6。其他列出的排氣處理產品包括 Wet Type Aqua IV、Heater + Wet Type Sirius Kaiser Oz 與 Sirius Kaiser Oz II,後兩者被描述為採用 spiral mechanism 的 safety-heater type,以及 Exhaust / Drain Line Filter Unit Bariatron。Wet Type Aqua IV 被描述為具有節省空間與維護方面的優勢。
能力與產品項目
- 半導體有害製程氣體與PFC排氣處理
- 乾蝕刻/CVD/MOCVD排氣處理系統
- 粉體捕集與自動配管清洗
- 電漿式排氣處理系統
- 乾式排氣處理系統
- PM2.5對策
- NOx降低
- MA-T®氣流空間洗淨