基本情報
| ブース | N0583 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.chd-tech.com.tw |
会社概要
CHYI DING Technologies Co., Ltd.は2003年に設立され、技術要求の厳しい半導体およびパネル顧客にミニ環境制御装置を提供し、歩留まりと効率の向上を支援しています。主な製品・サービスは、先進工程向けミニ環境制御、化学汚染の検出・除去、トータルソリューション、省エネルギー、クリーンルーム建設です。また、半導体、電子製造、部品材料産業向けに高仕様の精密空調装置と省エネルギーエンジニアリングサービスをワンストップで提供し、生産効率と持続可能な競争力の向上を支援します。
展示製品
CHYI DING Technologies Co., Ltd.は、ウェハファブ、パッケージ・テスト工場、パネル産業向けに精密工程環境制御装置を提供し、フォトレジスト塗布・現像装置、露光機、エッチング・レジスト剥離装置、ウェハ洗浄装置の精密温湿度制御に対応します。装置の温度制御精度は±0.001°C、湿度制御精度は±0.3%RHに達し、同社は外資系企業による独占を打破したとし、この温度制御精度を世界をリードするものと説明し、露光、現像、塗布工程の歩留まりを支えるとしています。サービス工程は、顧客要件の打ち合わせ、装置仕様とソリューションのカスタム設計、配管・電気配線を含む現地設置、安定稼働を確認する現地試験・検収、アフターサービス、工程最適化・調整を含みます。Thermal AMC Unitは露光装置のレンズユニットの曇りを防ぎ、独自の水洗技術で工程中の揮発性有機物を除去し、Running Cost ↓35%と記載されています。Direct Cooling Systemは精密ヒートポンプ回収技術で電熱を置き換え、Running Cost ↓67%と記載されています。TCU– Dry typeは恒温装置と除湿ローターを組み合わせ、低湿度・恒温空気を供給し、1%RH未満または露点0~-35°Cの極低湿度空気に対応します。Thermal Humidity and Chiller unitは市販機種と比べて電力消費を15%、設置面積を30%削減するとされ、Running Cost ↓15%と記載されています。Wet AMC Control Unitは従来機種と比べて10-20%の省エネルギーと32%の運用コスト削減を実現するとされ、Running Cost ↓32%と記載されています。Thermal Control Unit Gen.2.0は精密ヒートポンプ回収技術で電熱を置き換え、Running Cost ↓67%と記載されています。精密工程環境装置は温度精度最大±0.001°Cの精密温湿度制御を半導体、パネル、パッケージ・テスト産業向けに提供し、化学汚染物質装置は工程中の化学汚染物質の95%を除去し、半導体製造、半導体装置、パネル製造に対応します。工程改善サービスは半導体製造の生産能力と歩留まり向上を目的とし、技術サービスは半導体・パネル製造向けに精密工程ソリューションを提供します。その他のサービス区分にはエンジニアリング計画、エンジニアリングシステム設計、省エネルギーエンジニアリング、自動化システム改善があり、産業用途として半導体、電子製造、光電パネルが挙げられています。
対応領域・製品
- 先端プロセス用ミニ環境制御装置
- 化学汚染検出・除去設備
- クリーンルーム建設
- ±0.001°C/±0.3%RH精密温湿度制御
- 露光機レンズ曇り・VOC制御
- ヒートポンプ熱回収式直接冷却システム
- <1%RH低湿度恒温装置
- 湿式工程AMC除去装置
- 化学汚染物質95%除去装置
- 精密空調・省エネエンジニアリング