奇鼎科技股份有限公司

基本資料

公司簡介

奇鼎科技股份有限公司成立於2003年，向對技術要求嚴格的半導體與面板客戶提供微環境控制設備，以提升良率與效率。主要產品與服務包括先進製程微環境控制、化學污染檢測與去除、整體解決方案、節能及無塵室建置。奇鼎科技股份有限公司也向半導體、電子製造及零組件材料產業提供高規格精密空調設備與節能工程服務，以一站式服務提升整體生產效能與永續競爭力。

展出產品

奇鼎科技股份有限公司提供精密製程環境控制設備，服務晶圓廠、封裝測試廠與面板產業，包括為光阻塗佈／顯影設備、曝光機、蝕刻／去光阻設備及晶圓清洗機提供精密溫濕度控制。設備溫度控制精度達 ±0.001°C、濕度控制精度達 ±0.3%RH；公司表示已突破外商壟斷，並將此溫控精度描述為全球領先，並表示系統可支援曝光、顯影與塗佈製程良率。服務流程涵蓋客戶需求討論、客製化設備規格與解決方案、現場設備安裝與管線及電路配置、現場測試與驗收以確認穩定運行、售後服務，以及製程優化與調整。Thermal AMC Unit 可防止曝光設備鏡組霧化，採用獨家水洗技術去除製程揮發性有機物，並標示 Running Cost ↓35%。Direct Cooling System 以精密熱泵回收技術取代電熱，並標示 Running Cost ↓67%。TCU– Dry type 以恆溫設備結合除濕轉輪，提供低濕且恆溫的空氣，包括低於 1%RH 或露點 0~-35°C 的極低濕空氣。Thermal Humidity and Chiller unit 相較市面機種可減少 15% 電力消耗與 30% 佔地面積，並標示 Running Cost ↓15%。Wet AMC Control Unit 相較傳統機種可節能 10-20%、降低 32% 營運成本，並標示 Running Cost ↓32%。Thermal Control Unit Gen.2.0 以精密熱泵回收技術取代電熱，並標示 Running Cost ↓67%。精密製程環境設備提供精密溫濕度控制，溫控精度可達 ±0.001°C，適用於半導體、面板與封測產業；化學污染物設備可去除製程中 95% 的化學污染物，適用於半導體製造、半導體設備與面板製造。製程精進服務用於提升半導體製造的產能與良率，技術服務則為半導體與面板製造提供精密製程解決方案。其他服務類別包括工程規劃服務、工程系統設計、節能工程服務與自動化系統改善，列出的產業應用包括半導體、電子製造與光電面板。

能力與產品項目

• 先進製程微環境控制設備
• 化學污染檢測與去除設備
• 無塵室建置
• ±0.001°C/±0.3%RH精密溫濕度控制
• 曝光機鏡組霧化與VOC控制
• 熱泵回收直接冷卻系統
• <1%RH低濕恆溫設備
• 濕式製程AMC去除設備
• 化學污染物95%去除設備
• 精密空調與節能工程服務

相關產品主題

← 主題索引 · ← 展商名單 · ← 展商查找工具 · 搜尋與 AI 找到了誰，主辦方看得到 →