基本情報
| ブース | L0510 |
| 国 | TW |
| 製品カテゴリ | Lithography Systems for Wafer Level Packaging; Bumping; 3D Interconnect Aligners · Microscopes: Atomic Force Microscopes (AFM) · Microscopes: Confocal Scanning Microscope; 3-D Video Microscopes · Microscopes: Optical Microscopes · Microscopes: Scanning Electron Microscope (SEM); Focused Ion Beam (FIB), Transmission Electron Micr · X-ray; XRF; 3-D X-Ray; LEXES Systems · Failure Analysis Systems |
| ウェブサイト | www.zeiss.com |
会社概要
ZEISS は、光学および光電子工学の分野で事業を展開する、国際的に主導的な技術企業です。ZEISS は顧客のために、産業計測および品質保証向けの高度に革新的なソリューション、ライフサイエンスおよび材料研究向けの顕微鏡ソリューション、眼科および顕微手術における診断・治療向けの医療技術ソリューションを開発・製造・販売しています。ZEISS の半導体製造技術セグメントは、マイクロチップ生産における多様な主要プロセスをカバーしています。その製品には、半導体製造用光学系（とりわけリソグラフィー光学系）のほか、フォトマスクシステムや半導体製造向けのプロセス制御ソリューションが含まれます。ZEISS の技術のおかげで、マイクロチップはますます小型化し、高性能化し、省エネ化し、手頃な価格になっています。幅広い製品ポートフォリオと専門知識をもって、ZEISS の半導体製造技術（SMT）セグメントは、マイクロチップ生産における多様な主要プロセスをカバーしています。その製品には、半導体製造用光学系（とりわけリソグラフィー光学系）のほか、フォトマスクシステムや半導体製造向けのプロセス制御ソリューションが含まれます。ZEISS Semiconductor Mask Solutions（SMS）は、欠陥ゼロのフォトマスク生産を可能にする、マスク製造業界向けの専用ソリューションに注力しています。そのポートフォリオは、マスク上の欠陥評価、重要な欠陥の修復、修復結果の検証、ならびに専用の計測・調整ソリューション向けの製品で構成されています。スマートなソフトウェアアプリケーションが自動化を高め、ツールの能力を強化します。当社の緻密なグローバル販売・サービス拠点網により、半導体業界のお客様に最適なサポートを提供できます。
対応領域・製品
- ゼロ欠陥フォトマスク製造ソリューション
- フォトマスク修復結果検証システム
- フォトマスク計測およびチューニングソリューション
- マスク欠陥評価システム
- 半導体マスクツール自動化向けスマートソフトウェア
- 半導体リソグラフィ光学
- 半導体製造向けフォトマスクシステム
- 半導体製造向けプロセス制御ソリューション
- 重大フォトマスク欠陥修復システム