基本情報
| ブース | J3246 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.advancedenergy.com |
会社概要
Advanced Energy Taiwan, Ltd. は、ミッションクリティカルな用途とプロセス向けに、高度に設計された精密な電力変換、計測、制御ソリューションを設計・製造し、世界の顧客向けに電力技術を磨いてきた数十年の経験を基盤としています。半導体製造では、Advanced Energy はプラズマ電力供給、温度計測、温度制御、ウエハ制御技術で市場をリードし、重要なエッチング、成膜、チャンバークリーニング、検査、イオン注入、アニールをカバーし、戦略的パートナーシップ、継続的イノベーション、迅速な設計を通じて個別プロセス要件に対応するソリューションを提供します。半導体用途には burn-in test、deposition、etch、electron beam inspection、implant、RF generator calibration、semiconductor test、strip が含まれ、世界の半導体市場に power conversion solutions を供給しています。Advanced Energy は精密な電力制御が、再現性の高い plasma behavior、安定した thermal profiles、real-time diagnostics、yield improvement、variability と downtime の低減、process development の迅速化、recipe validation、先端半導体プロセスのスケールアップを支えると説明しています。電力ソリューションは ride-through capability と low total harmonic distortion により SEMI F47 の voltage sag requirements を満たすよう設計され、多くの製品は既存の半導体プラットフォームへの統合を考慮した modularity と configurability を備えますが、一部の次世代技術では特定の platform capabilities または retrofitting が必要になる場合があります。Advanced Energy は qualified engineers による 24/5 support も提供し、global customer service と technical support を半導体向け提供内容の一部としています。 Advanced Energy は wafer fab の課題として aging equipment、unpredictable power fluctuations、変化する power-density・thermal-management requirements、continuous-uptime needs、tight process tolerances を挙げ、intelligent power systems が dynamic loads に適応し predictive insight を提供して stability の維持と downtime の低減を支えるとしています。
展示製品
Advanced Energy の半導体ポートフォリオには RF、DC、pulsed-DC products、impedance-matching networks、remote-plasma sources、data-collection・visualization・analysis platform が含まれ、etch applications 向けに synchronized source-and-bias control と multi-level pulsing を提供します。主要な plasma・RF 製品には、chamber cleaning 向け MAXstream Remote Plasma Source、eVerest RF Generator、multi-level pulsing と pulse-waveform control を備える Paramount Plus RF Generator、rapid digitally tuned または RF-synchronized matching の Navigator II と NavX RF Match Networks、Ascent AP・AMS・DMS pulsed and DC power systems、20 kW 以下のプロセス向け Pinnacle III DC Power Supply、ion-energy と wafer-surface-voltage control 向け eVoS LE と eVoS ME bias solutions があります。Electrostatic chuck と high-voltage 製品には、0 から ±2 kV 出力の Trek 645 Series、±1 kV at 20 mA の Trek 645-HT Series、0 から ±3 kV の Trek 646 Series、40 W の Trek 2200 Series piezo drivers and high-voltage amplifiers、0 から ±2 kV DC or peak AC の Trek 623B Series、0 から ±5 kV DC or peak AC の Trek 5/80-HS Series、0 から ±30 kV DC or peak AC の Trek 30/20A Series があります。Measurement と ESD 製品には Trek 158A charged-plate monitors、Trek 370 precision non-contact electrostatic voltmeters、Trek 520 hand-held electrostatic voltmeters、selectable emissivity の Sekidenko 401M single-channel non-contact temperature measurement、Luxtron M-1200 と M-1100 fiber-optic temperature converters、Sekidenko 4100T multi-channel optical-fiber pyrometers、-40 から 1600°C の測定に対応する Mikron MCL640 infrared cameras、high-power・high-accuracy RF measurement 用 5540A Series RF Power Meters が含まれます。Power supply と controller 製品には、最大 4000 W の NP08、12 から 15 kW の iHP12/15 Air Cooled、最大 1800 W fanless の CoolX1800、400 から 600 W の uMP04 Gen II、AA Series UltraVolt miniature PCB-mount regulated DC-DC converters、Thyro-XD SCR Power Controller、Thyro-PX DC Power Controller があり、etch portfolio には最大 2400 W の NP05 configurable AC-DC power supplies も含まれます。HDP/CVD tools を使用する 200 mm semiconductor fabs 向けに、Opti RF Power Rack は power delivery を最適化し、Omni RF Diagnostic Cart は power delivery と精密 RF-generator calibration を最適化する総合システムです。Advanced Energy の configurable power supplies は electrostatic chucks、wafer handling、IC testing and burn-in 向けに複数 DC outputs を提供でき、最大 8 の独立出力、0.6 から 1000V、2000 から 30kW 以上の power ratings、configuration と dashboards 用 software GUI、オプションの Digital Ethernet UDP、RS485、CANBus、Ethernet TC/IP communications を備えます。Artesyn configurable power supplies は single- and 3-phase inputs を nominal 600 VAC までサポートし、IEC/EN/UL 62368-1 safety approvals と SEMI F47 compliance を備え、最大 94% efficiency、最大 18 W/in3 power density、low THD、ripple、leakage performance を提供します。iHP liquid-cooled platform は 4U rack あたり最大 20 kW を提供し、NeoPower は SEMI F47 compliance を含む industrial・medical safety approvals を備え、control、monitoring、configuration 向け MODBUS RTU をサポートし、configurable bus-bar system による module の series・parallel connection で thousands of output combinations を構成できます。Deposition、etch、electron-beam inspection、implant などの用途全体で、このポートフォリオは半導体装置における精密な plasma・thermal control、stable power delivery、accurate defect identification、ion-energy control、repeatability、throughput を支えます。 追加の sensing and control には、semiconductor etch・deposition 向けで -200 から 450C を測定する Luxtron M-1100 fiber-optic temperature sensing、configurable wavelength range の Sekidenko 4100T、air-ionization performance 評価用 Trek 158A、highly accurate・reliable SCR power controller の Thyro-XD、DC-rectifier applications 向け Thyro-PX が含まれます。process performance について、Advanced Energy は electron-beam inspection products が memory・logic devices の accurate defect identification に stable power を提供し、implant products が ion-energy control のため efficiency・power density を最適化し、precision plasma power が high-repeatability etch と defect-free wafer stripping を支えると説明しています。NeoPower は synchronized high-voltage outputs で multi-zone wafer-chuck heating を簡素化し、multiple supplies を置き換えて precise・flexible ESC performance を提供するとされ、configurable architecture は fast prototypes を支援し custom または multiple standard power units の必要性を減らせます。advanced RF control では NavX が multi-level pulse states に対して ultra-fast RF-synchronized impedance matching を行い、eVerest と組み合わせて shorter RF-on times の reflected power を低減するよう設計され、Advanced Energy の pyrometer materials は thermal-process repeatability 向上のため active ambient・emissivity compensation、contamination immunity、robust designs を説明しています。 pulsed and DC portfolio では、Ascent AP は single- and dual-magnetron sputtering control、Ascent AMS は highly repeatable films への stable power delivery、Ascent DMS は dual-magnetron sputtering accessories に位置付けられ、Luxtron M-1200 は accurate・compact な fiber-optic temperature sensor とされ、burn-in portfolio は semiconductors、power supplies、other critical electronics をカバーします。
対応領域・製品
- 半導体プラズマ電力供給
- RF・DC・パルスDC電源製品
- RFインピーダンス整合ネットワーク
- リモートプラズマ源
- 半導体プロセス向け非接触温度測定
- 半導体温度制御
- ウェハ制御技術
- 半導体バーンイン試験用電源
- エッチング用高精度プラズマ電源
- 堆積プロセス用電源・熱制御
- 静電チャック用高電圧電源・制御
- 非接触静電電圧測定
- 半導体プロセス用光ファイバー温度センシング
- 多チャンネル光ファイバー放射温度計
- -40～1600°C赤外線温度測定
- 高出力RF電力測定
- SCR・DC電力コントローラ
- 多出力構成可能電源
- RFジェネレータ校正・電力診断