基本資料
| 攤位 | L1320 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.adnano-tek.com |
公司簡介
AdNaNoTek Corporation 是全球超高真空（UHV）技術與解決方案領域的新興領導廠商。我們專精於設計與製造最先進、可完全客製化的 UHV 系統，滿足各種研究與工業需求。產品與服務範圍包括：UHV 鍍膜系統：脈衝雷射沉積（PLD）、脈衝雷射分子束磊晶（PLMBE）、分子束磊晶（MBE）、磁控濺鍍沉積（Sputter）、電子束蒸鍍機（E-Beam）、離子束濺鍍沉積（IBSD）、原子層沉積系統（ALD）、反應離子蝕刻（RIE）、化學氣相沉積（CVD）、客製化 UHV 系統與整合式 UHV 系統。UHV 元件：UHV 線性傳輸系統、樣品／靶材交換器、行星式基板操作機構、客製化 UHV/HV 腔體、離子源、濺鍍陰極、SiC 加熱系統、電子束加熱系統與雷射加熱系統。蝕刻系統：RIE 系統、ICP RIE 系統、ECR RIE 系統、離子束蝕刻系統。我們的 UHV 鍍膜系統保證能沉積極高品質的薄膜。最先進的系統控制軟體提供友善的使用者介面，可輕鬆操作、精準調整參數、即時監控製程並完整記錄資料。此外，我們也擅長提供高品質的客戶與技術服務，涵蓋深入的理論與實機訓練、專業技術諮詢乃至技術支援。產品頁面列出專為量子運算元件與應用製作約瑟夫森接面（Josephson junction）的約瑟夫森接面電子束蒸鍍機（JEB）叢集系統、熱蒸鍍系統、可鍍製高介電常數材料（HfO2、ZrO2、Al2O3、Sc2O3）、金屬（Al、Cu、Ta、Ni、Ag、Au、Ti）與元素半導體（Si、Ge）的電子束蒸鍍機、可搭配 8 吋以內基板承載座且基板溫度可達攝氏 800 度的 DC 或 RF 磁控濺鍍源，以及用於反應離子蝕刻、感應耦合電漿、電子迴旋共振與離子束蝕刻的電漿系統。
展出產品
產品與能力包括 EBS、JEB 系列電子束蒸鍍機、DC/RF 磁控源、PLD（Laser MBE）設備，以及 RIE、ICP-RIE、ECR-RIE、IBE 等乾式蝕刻系統。另提供線性真空傳輸系統、自動傳輸臂、雷射基板加熱器、可客製化 UHV 系統，以及四腔室 JEB-4 約瑟夫森接面沉積系統。
能力與產品項目
- 客製化超高真空系統設計製造
- 脈衝雷射沉積 PLD 系統
- 分子束磊晶 MBE 系統
- 原子層沉積 ALD 系統
- ICP 與 ECR 反應離子蝕刻系統
- 量子元件用約瑟夫森接面蒸鍍叢集
- 高介電常數材料電子束蒸鍍
- 8 吋基板磁控濺鍍源
- 超高真空線性傳輸與樣品交換
- 即時製程監控與資料記錄軟體
- 離子源與濺鍍陰極供應