基本情報
| ブース | L1320 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.adnano-tek.com |
会社概要
AdNaNoTek Corporation は、超高真空（UHV）技術およびソリューションの分野で世界的に台頭しているリーディングプロバイダーです。当社は、あらゆる研究用途および産業用途に適合する最先端かつ完全にカスタマイズ可能な UHV システムの設計・製造を専門としています。製品およびサービスの範囲は次のとおりです。UHV 成膜システム：パルスレーザー堆積（PLD）、パルスレーザー分子線エピタキシー（PLMBE）、分子線エピタキシー（MBE）、マグネトロンスパッタ成膜（スパッタ）、電子ビーム蒸着装置（E-Beam）、イオンビームスパッタ成膜（IBSD）、原子層堆積システム（ALD）、反応性イオンエッチング（RIE）、化学気相成長（CVD）、カスタマイズ UHV システム、および統合 UHV システム。UHV コンポーネント：UHV リニアトンネルシステム、サンプル／ターゲット交換機構、遊星式基板マニピュレーター、カスタマイズ UHV/HV チャンバー、イオン源、スパッタカソード、SiC 加熱システム、電子ビーム加熱システム、レーザー加熱システム。エッチングシステム：RIE システム、ICP RIE システム、ECR RIE システム、イオンビームエッチングシステム。当社の UHV 成膜システムは、極めて高品質な薄膜の成膜を保証します。最先端のシステム制御ソフトウェアは、容易な操作、精密なパラメーター調整、リアルタイムのプロセスモニタリング、完全なデータロギングを可能にする使いやすいインターフェースを提供します。さらに当社は、理論と実機の両面にわたる詳細なトレーニング、専門的な技術コンサルティング、技術サポートに至るまで、高品質な顧客サービスおよび技術サービスの提供にも強みを持っています。製品ページには、量子コンピューティング用デバイスおよびアプリケーション向けにジョセフソン接合を形成する専用のジョセフソン接合電子ビーム蒸着装置（JEB）クラスター、熱蒸着システム、高誘電率材料（HfO2、ZrO2、Al2O3、Sc2O3）、金属（Al、Cu、Ta、Ni、Ag、Au、Ti）、元素半導体（Si、Ge）に対応する電子ビーム蒸着装置、8 インチまでの基板ホルダーを備え基板温度が最高 800 ℃ に達する DC または RF マグネトロンスパッタ源、および反応性イオンエッチング、誘導結合プラズマ、電子サイクロトロン共鳴、イオンビームエッチング用のプラズマシステムが掲載されています。
展示製品
製品・対応技術には、EBS/JEBシリーズの電子ビーム蒸着装置、DC/RFマグネトロン源、PLD（Laser MBE）装置、RIE・ICP-RIE・ECR-RIE・IBEなどのドライエッチングシステムが含まれます。さらに、リニア真空搬送システム、自動搬送アーム、レーザー基板ヒーター、カスタマイズ可能なUHVシステム、4チャンバー構成のJEB-4ジョセフソン接合成膜システムを提供します。
対応領域・製品
- カスタマイズ可能な超高真空システムの設計・製造
- パルスレーザー堆積（PLD）システム
- 分子線エピタキシー（MBE）システム
- 原子層堆積（ALD）システム
- ICP・ECR 反応性イオンエッチングシステム
- 量子デバイス向けジョセフソン接合電子ビーム蒸着クラスター
- 高誘電率材料の電子ビーム蒸着
- 8 インチ基板対応マグネトロンスパッタ源
- UHV リニアトンネルシステムとサンプル交換機構
- リアルタイムプロセス監視とデータロギングの制御ソフト
- イオン源とスパッタカソードの供給