基本資料
| 攤位 | P6118 |
| 國別 | SG |
| 產品分類 | Particle Monitors; Analyzers - Airborne or Liquid · Environmental; Utility Systems & Monitoring · Gas Monitoring Equipment; RGA's; TGO compliance · Clean Rooms · Contamination Control; HEPA Filtering Systems · HVAC; Temperature; Humidity Systems and Control · Clean Room; Contamination Control |
| 網站 | www.tsi.com |
公司簡介
TSI Incorporated 與 MSP — TSI 旗下事業部。TSI Incorporated 總部位於美國明尼蘇達州，是精密量測解決方案的全球領導者，支援半導體、電子、製藥與先進製造產業。自 1961 年以來，TSI 持續開發協助提升產品品質、製程控制與良率的高性能儀器。MSP 為 TSI 旗下事業部，為半導體產業提供專業技術，包括先進的污染控制、晶圓檢測與精密液體輸送系統。MSP 產品因其準確性、可靠性與超潔淨性能，廣泛應用於 CVD、ALD 及其他關鍵製程。探索半導體創新的未來：超純水中的奈米微粒監測——TSI Nano LPM™ 系統，可在半導體超純水（UPW）中真正偵測 10 奈米（nm）的奈米微粒；零件潔淨度測試——以精準的潔淨度評估（低至 2 nm）確保可靠性；高純度氣體中的微粒偵測——可靠且可重複的量測（低至 2 nm）；無塵室空氣微粒監測——監測小至 10 nm 空氣微粒的先進系統；蒸氣輸送解決方案——以我們先進的直接液體注入（DLI）工具最佳化薄膜沉積；微粒去除效率（PRE）校正標準——支援表面掃描與檢測工具校正（低至 10 nm）；CMP 漿料分析——獲得單顆微粒洞察以精確掌握漿料粒徑分布；PRE 挑戰晶圓——以信心驗證微粒去除效率。歡迎蒞臨，探索我們在半導體製造中追求精度、品質控制與可靠性、最終提升良率的先進解決方案。
能力與產品項目
- CMP slurry 單顆粒粒徑分布分析
- TSI Nano LPM™ 半導體 UPW 中 10 nm 奈米粒子檢測
- wafer 檢測技術
- 低至 10 nm 的 particle removal efficiency (PRE) 校正標準
- 低至 2 nm 的零件潔淨度測試
- 半導體製造用先進污染控制技術
- 潔淨室低至 10 nm 的空氣懸浮粒子監測
- 精密液體輸送系統
- 薄膜沉積用 Direct Liquid Injection (DLI) 蒸氣輸送工具
- 高純度氣體中低至 2 nm 的粒子檢測