기본 정보
| 부스 | S7452 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | www.taimax.com.tw/%E9%9B%BB%E5%AD%90%E5%8C%96%E5%AD%B8 |
회사 소개
Taiwan Maxwave Co., Ltd.는 전자화학품, 첨단 소재 및 생산 관련 종합 솔루션을 공급하며 항공우주와 에너지 개발 분야도 사업 범위에 포함한다. 고객군은 전자산업의 전후방과 화학산업 전반에 걸친 약 700개사로, 반도체, 패널, LED, 태양광, UV 코팅, 수처리, 리튬전지, 세라믹 소재, 전자파 차폐, X선 비파괴검사 분야를 포함한다. 회사는 20년 이상의 경험을 보유하고 일본, 한국, 싱가포르, 미국 및 유럽의 파트너 네트워크를 구축해 왔다. 실험실, 고객서비스센터, 자재관리센터를 운영하며 Just in Time Service 방식으로 기술 대응과 공급을 지원한다. 고객과 함께 공정 기술 문제를 해결한다는 방향 아래 맞춤 요구, 소재 공급, 기술 서비스를 결합한다. 2007년부터 대만 지역 대기업 TOP5000에 매년 이름을 올렸다고 밝히고 있다. 2009년 UKAS 기반 ISO 9001 품질경영시스템 인증을 처음 통과했으며, 현재 ISO 9001:2015, ISO 14001:2015, ISO 45001:2018, ISO 27001:2022를 제시한다. 전자화학, 첨단 소재, 항공우주, 생산 종합 솔루션, 에너지 개발이 주요 사업 영역이며 생산 관련 서비스에는 자동화 설비 기획과 설계도 포함된다.
전시 제품
IC 제조용으로는 산화막 성장, 포토리소그래피, 식각, 세정, 불순물 확산, 이온 주입, 박막 증착 공정에 필요한 화학품을 공급하고 공정 조건에 맞춘 식각액과 포토레지스트 박리액을 맞춤 제공한다. 웨이퍼 범핑은 Gold bumping과 Solder bumping을 포함하며 박막 또는 무전해 도금 공정과 전기도금 또는 인쇄를 결합해 IC 패드에 솔더나 금을 형성하는 공정용 맞춤 식각액과 박리제를 공급한다. 정전용량 방식 터치패널, TFT-LCD, LED, MOSFET BGBM 공정도 적용 범위에 포함되며, LED 에피택시용 맞춤 박리제와 실리콘 습식 식각을 통한 연마 응력 제거 및 웨이퍼 후면 조도 형성을 위한 맞춤 식각액을 제공한다. 자체 개발 제품은 금속 식각액, 포토레지스트 박리액, 정밀 세정액으로 구분된다. 금속 식각액은 은, 알루미늄, 금, 크롬, 구리, GaAs, GaP, ITO, 니켈, 티타늄, Cu-Ti, TiN, Ti-Ni, Ti-Ni-Ag, Ti-Ni-Cu, TiW, 실리콘 및 산화실리콘을 대상으로 한다. 은과 알루미늄 제품에는 Ag Etch-126, Ag Etch-192, Ag Etch-319, Al Etch 85-2-13, Al Etch 868, Al Etch-284가 있고, 금 식각액에는 EGAU-1, EGAU-10, EGAU-159, EGAU-16, EGAU-183, EGAU-19, EGAU-309, EGAU-4, EGAU-6, EGAU-615, EGAU-716, EGAU-8이 있다. 구리 계열은 Cu Etch-520, Cu Etch-385, Cu Etch-786, Cu Etch-816, Cu Etch-855, Cu Etch-B15를 포함한다. 그 밖에 GaAs Etch-539, GaAs Etch-778, TFE-640, BOD Etch-272, BOD Etch-300, ITO Etch-A1, ITO Etch-B1, ITO Etch-C1, TFE-155, TFE-408이 있다. 니켈과 티타늄 관련 제품은 Ni Etch-105, Ni Etch-369, NiV Etch-326, Ti Etch-200, Ti Etch-219, Ti Etch-290, Ti Etch-378, Ti Etch-863, Ti Etch-899 A/B, Ti Etch-C15, TiCu Etch-621, TiN Etch-491, TiNi Etch-336, TiNiAg Etch-552, TiNiCu Etch-202, TiW Etch-833을 포함한다. 실리콘 및 산화실리콘용 제품에는 Si Iso-Etch 1-20-5, Nodule Etch-792, Poly Etch 5-3-3, Poly Etch-199, Poly Etch-227, Poly Etch-741, Poly Etch-820, Poly Etch-904, BOE & SBOE series, PAD Etch-26M이 있다. 포토레지스트 박리액은 폴리이미드, 포지티브 및 네거티브 레지스트, 드라이필름, 드라이 식각 후 잔사를 대상으로 하며 PIS-509, PIS-523, PRS-124, PRS-278, PRS-530, PRS-615, PRS-627, PRS-628, PRS-809, PRS-816, PRS-938, PRS-148B, PRS-568, PRS-219, PRS-581, PRS-903, PRS-606, PRS-240, PRS-262, PIS-723I, PIS-790V, PIS-890V, PRS-018, PRS-270, PRS-389, PRS-777 등이 포함된다. 단일 산 제품에는 DHF, H2O2, H2SO4, H3PO4, HAC, HCI, HF, HNO3, NH4F가 있고, 단일 염기에는 KOH, NaClO, NAOH, NH4OH, TMAH 2.38%, TMAH 25%, 계면활성제를 포함한 TMAH 2.38%가 있다. 용제는 2-Pyrrolidinone, Acetone, Cyclopentanone, Cyclohexanone, DMSO, EEP, EG, EL, GBL, HMDS, IPA, MEK, Methanol, NBA, NMP, PGME, PGMEA, Xylene 및 DT-995, DT-998 Cleaner를 포함한다. 첨단 소재는 천연 및 합성 흑연과 도전성 카본블랙을 리튬이온전지, 각종 전지, 도전 첨가제, 도전성 고분자, 방열 용도로 공급한다. 특수 아크릴 모노머는 UV 방사선 가교의 반응성 희석제 및 코팅, 접착제, 잉크, 포토레지스트, 광학필름의 반응 모노머로 사용되며 CHA, BZA, PEA, EOEOEA, 1-ADMA, MEDOL-10, CHDOL-10, OXE-10, GBLA, V3F, V4F, V8F, IBXA, THFA, NVP, NVC가 포함된다. V3F, V4F, V8F는 발수·발유, 이형제, 방무제, PU 불소 첨가제, 지문방지 필름 재료에도 적용된다. 저에너지 경화와 빠른 반응 특성을 갖는 기능성 올리고머 수지, 수용성 PVP, 코팅 및 이차전지와 스크린 인쇄용 카본블랙, 흑연, NMP, 용제도 공급 범위에 포함된다. 항공우주와 산업 검사 분야에서는 Carestream 디지털 및 기존 NDT, COMET 산업용 X선 장비, VisiConsult X-ray Systems & Solutions, KOWOTEST NDT 관련 장비, 고에너지 X선 선형가속기를 다룬다.
역량 및 제품
- IC 공정 화학품 공급
- IC 공정용 맞춤형 식각액
- IC 공정용 맞춤형 포토레지스트 박리액
- 웨이퍼 범핑 공정용 맞춤형 식각액
- 웨이퍼 범핑 공정용 포토레지스트 박리제
- 정전식 터치패널 공정 화학품
- LED 에피택시 공정용 맞춤형 포토레지스트 박리제
- MOSFET BGBM용 실리콘 습식 식각액
- 은 식각액
- 알루미늄 식각액
- 금 식각액
- 크롬 식각액
- 구리 식각액
- GaAs 식각액
- GaP 식각액
- 인듐주석산화물(ITO) 식각액
- 니켈 식각액
- 티타늄 식각액
- 구리-티타늄 식각액
- TiN 식각액
- Ti-Ni 식각액
- Ti-Ni-Ag 식각액
- Ti-Ni-Cu 식각액
- TiW 식각액
- 실리콘 식각액
- SiO2 식각액
- 폴리이미드 제거액
- 포지티브·네거티브 포토레지스트 박리액
- 드라이필름 제거액
- 건식 식각 후 포토레지스트 잔사 제거액
- 정밀 세정액
- DHF/H2O2/H2SO4 등 단산 공급
- KOH/NaClO/NAOH/NH4OH/TMAH 단염기 공급
- 공정 용제 공급
- 천연 및 합성 흑연 공급
- 도전성 카본블랙 공급
- 특수 아크릴 모노머 대리
- 기능성 올리고머 수지 대리
- 수용성 PVP 수지 공급
- 디지털 비파괴검사 장비 공급(Carestream)
- 산업용 X선 장비 공급(COMET)
- 자동 X선 검사 시스템 공급(VisiConsult)
- 비파괴검사 관련 장비 공급(KOWOTEST)
- 고에너지 X선 선형가속기 공급
- 자동화 장비 기획 및 설계