基本資料
| 攤位 | S7452 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.taimax.com.tw/%E9%9B%BB%E5%AD%90%E5%8C%96%E5%AD%B8 |
公司簡介
台灣波律股份有限公司供應電子化學品、先進材料與生產相關整體解決方案，業務領域亦涵蓋航空航太與能源開發。客戶群約700家，橫跨電子業上中下游及化工業，包括半導體、面板、LED、太陽能、UV塗料、水處理、鋰電池、陶瓷材料、電磁遮蔽與X光非破壞檢測等產業。公司具20年以上經驗，合作夥伴分布於日本、韓國、新加坡、美國與歐洲，並設有實驗室、客服中心及物控中心，以Just in Time Service支援技術回應與供貨。公司以共同解決製程技術難題描述與客戶合作的方式，並將客製需求、材料供應與技術服務整合。自2007年起，公司每年均獲中華徵信所列入台灣地區大型企業排名TOP5000。2009年首度通過UKAS之ISO 9001國際品質管理系統認證，目前列出的管理系統包括ISO 9001:2015、ISO 14001:2015、ISO 45001:2018及ISO 27001:2022。電子化學、先進材料、航太工業、生產整體解決方案與能源發展共同構成公司的業務範圍；在生產相關服務中，公司另列有自動化設備規劃設計。
展出產品
在IC製程方面，台灣波律股份有限公司可供應氧化層成長、微影、蝕刻、清洗、雜質擴散、離子植入與薄膜沉積所需化學品，並可依製程需求客製化蝕刻液及去光阻液。晶圓凸塊應用涵蓋Gold bumping與Solder bumping，使用薄膜或化學鍍搭配電鍍或印刷把銲錫或金置於IC腳墊上，公司可提供相應的客製化蝕刻液與去光阻劑。觸控面板方面，產品應用於導電材料形成水平與垂直電場的電容式面板製程；電子化學應用另包含TFT-LCD、LED及MOSFET BGBM，其中可供應LED磊晶用客製化去光阻劑，以及用於矽濕蝕刻、消除研磨應力及晶背表面粗化的客製化蝕刻液。公司自研產品分為金屬蝕刻液、去光阻液與精密清洗液。金屬蝕刻液涵蓋銀、鋁、金、鉻、銅、砷化鎵、磷化鎵、氧化銦錫、鎳、鈦、銅鈦、氮化鈦、鈦鎳、鈦鎳銀、鈦鎳銅、鈦鎢、矽與氧化矽。銀與鋁產品包括Ag Etch-126、Ag Etch-192、Ag Etch-319、Al Etch 85-2-13、Al Etch 868及Al Etch-284；金蝕刻液包含EGAU-1、EGAU-10、EGAU-159、EGAU-16、EGAU-183、EGAU-19、EGAU-309、EGAU-4、EGAU-6、EGAU-615、EGAU-716與EGAU-8。銅系列包括Cu Etch-520、Cu Etch-385、Cu Etch-786、Cu Etch-816、Cu Etch-855與Cu Etch-B15；另有GaAs Etch-539、GaAs Etch-778、TFE-640，以及BOD Etch-272、BOD Etch-300、ITO Etch-A1、ITO Etch-B1、ITO Etch-C1、TFE-155、TFE-408等ITO蝕刻產品。鎳與鈦相關產品包括Ni Etch-105、Ni Etch-369、NiV Etch-326、Ti Etch-200、Ti Etch-219、Ti Etch-290、Ti Etch-378、Ti Etch-863、Ti Etch-899 A/B、Ti Etch-C15、TiCu Etch-621、TiN Etch-491、TiNi Etch-336、TiNiAg Etch-552、TiNiCu Etch-202與TiW Etch-833。矽與氧化矽產品包含Si Iso-Etch 1-20-5、Nodule Etch-792、Poly Etch 5-3-3、Poly Etch-199、Poly Etch-227、Poly Etch-741、Poly Etch-820、Poly Etch-904、BOE & SBOE series及PAD Etch-26M。去光阻液面向聚醯亞胺、正負光阻、乾膜及乾蝕刻後殘留，包含PIS-509、PIS-523、PRS-124、PRS-278、PRS-530、PRS-615、PRS-627、PRS-628、PRS-809、PRS-816、PRS-938、PRS-148B、PRS-568、PRS-219、PRS-581、PRS-903、PRS-606、PRS-240、PRS-262、PIS-723I、PIS-790V、PIS-890V、PRS-018、PRS-270、PRS-389及PRS-777等。標準單酸包括DHF、H2O2、H2SO4、H3PO4、HAC、HCI、HF、HNO3與NH4F；單鹼包括KOH、NaClO、NAOH、NH4OH、TMAH 2.38%、TMAH 25%及含界面活性劑的TMAH 2.38%。溶劑範圍包含2-Pyrrolidinone、Acetone、Cyclopentanone、Cyclohexanone、DMSO、EEP、EG、EL、GBL、HMDS、IPA、MEK、Methanol、NBA、NMP、PGME、PGMEA與Xylene，以及DT-995與DT-998 Cleaner。先進材料包含天然與合成石墨、導電碳黑，可用於鋰離子及其他電池、導電添加劑、導電高分子與散熱。特殊壓克力單體作為UV輻射交聯活性稀釋劑及塗料、黏著劑、油墨、光阻與光學膜反應單體，產品包括CHA、BZA、PEA、EOEOEA、1-ADMA、MEDOL-10、CHDOL-10、OXE-10、GBLA、V3F、V4F、V8F、IBXA、THFA、NVP及NVC，對應不同固化速度、稀釋性、耐熱性、黃變與基材附著需求。V3F、V4F與V8F另用於撥水撥油、離型、防霧、PU含氟添加劑及抗指紋膜材料。先進材料還包括低能量固化、快速反應的功能性寡聚物樹脂、水溶性PVP，以及塗料、二次電池與網版印刷所需的碳黑、石墨、NMP及溶劑。航空航太與工業檢測供應範圍另包含Carestream數位與傳統NDT、COMET工業X光機、VisiConsult X-ray Systems & Solutions、KOWOTEST NDT相關設備及高能量X光直線加速器。
能力與產品項目
- IC製程化學品供應
- IC製程客製化蝕刻液
- IC製程客製化去光阻液
- 晶圓凸塊製程客製化蝕刻液
- 晶圓凸塊製程去光阻劑
- 電容式觸控面板製程化學品
- LED磊晶製程客製化去光阻劑
- MOSFET BGBM矽濕蝕刻液
- 銀蝕刻液
- 鋁蝕刻液
- 金蝕刻液
- 鉻蝕刻液
- 銅蝕刻液
- 砷化鎵蝕刻液
- 磷化鎵蝕刻液
- 氧化銦錫(ITO)蝕刻液
- 鎳蝕刻液
- 鈦蝕刻液
- 銅鈦蝕刻液
- 氮化鈦蝕刻液
- 鈦鎳蝕刻液
- 鈦鎳銀蝕刻液
- 鈦鎳銅蝕刻液
- 鈦鎢蝕刻液
- 矽蝕刻液
- 二氧化矽蝕刻液
- 聚醯亞胺去除液
- 正負光阻去光阻液
- 乾膜去除液
- 乾蝕刻後光阻殘留去除液
- 精密清洗液
- DHF/H2O2/H2SO4等單酸供應
- KOH/NaClO/NAOH/NH4OH/TMAH單鹼供應
- 製程溶劑供應
- 天然與合成石墨供應
- 導電碳黑供應
- 特殊壓克力單體代理
- 功能性寡聚物樹脂代理
- 水溶性PVP樹脂供應
- 數位化非破壞檢測設備供應(Carestream)
- 工業X光機供應(COMET)
- 自動化X光檢測系統供應(VisiConsult)
- 非破壞檢測相關設備供應(KOWOTEST)
- 高能量X光直線加速器供應
- 自動化設備規劃設計