기본 정보
| 부스 | J3255 |
| 국가 | CN |
| 웹사이트 | www.naso-tech.com/About.html |
회사 소개
Shenzhen Naso Tech Co.,Ltd는 2018년 10월에 설립되어 선전시 광밍구 유학인원 창업원에 위치하며 3세대 반도체 실리콘 카바이드, 신형 태양광 소재, 나노소재 등 첨단 소재 분야용 고급 박막 증착 장비를 연구개발, 생산 및 판매합니다. 제품군에는 실리콘 카바이드 에피택시 장비, 원자층 증착 장비, 연구용 맞춤형 CVD 장비, 개방형 롤투롤 그래핀 제조 장비가 포함되며 응용 분야는 태양광 페로브스카이트, 3세대 반도체, 2차원 소재를 포함합니다. 핵심 팀은 University of Cambridge 출신 박사, 연구원 및 선임 산업 전문가를 기반으로 하며 박막 증착 장비 등 고급 장비와 첨단 소재 제조 공정 분야에 기술 축적을 갖고 있습니다. 회사는 2020년 고성장성 「National High-tech Enterprise」로 평가받았고, 2024년 국가급 전문화·정밀화·특색화·혁신형 「Little Giant」 인정을 받았으며, 2025년 고급 장비 분야 「Golden Bull Sci-Tech Innovation Enterprise Award」를 수상했습니다.20+년의 기술 축적과 100+개의 기술 특허를 제시합니다. 또한 CVD, MOCVD, ALD, ETCH를 포함한 첨단 반도체 제조 장비 분야의 경험을 보유한다고 설명합니다.
전시 제품
실리콘 카바이드(SiC) 에피택시 시스템은 SiC 칩 제조의 핵심 공정인 에피택셜층 성장 전용 장비이며 다이오드와 전력 반도체 같은 전력전자 소자 제조의 중요한 단계에 사용되고 200mm / 150mm 웨이퍼와 호환됩니다. 혁신적인 평면 챔버 설계는 흑연 소모품 비용을 낮춘다고 설명되며, 5존 가스 인렛을 통해 C/Si 비율을 독립적으로 조정해 유연한 공정 튜닝을 할 수 있습니다. ALD 시스템은 자기제한 표면 화학 원리를 이용해 고속 증착에서도 높은 막 균일도를 유지하고, 가스 showerhead는 고밀도 홀 배열과 독자적인 가스 확산 경로를 결합해 균일하고 빠른 전면 피복을 구현합니다. SKY-P42R05(8”x2)는 전자동 듀얼 챔버 SiC 에피택시 시스템으로 두 반응 챔버의 협동 운전과 공정 파라미터 독립 제어를 지원하며 AGV와 천장 이송 설비에 호환되고 NH3, N2, TMAL 모듈을 자유롭게 조합할 수 있으며 SEMI 인증과 독자 지식재산을 갖습니다. SKY-P40R02(8”x1)는 수평 핫월 방식을 사용하는 단일 챔버 SiC 에피택시 시스템으로 다존 가스 인렛 시스템을 통해 에피택셜 웨이퍼 균일도를 높이고 결함률을 낮추며, 흑연 챔버 부품 수를 줄여 구조를 단순화하고 독특한 가스 유입 및 웨이퍼 이송 방식으로 에피택시 낙하물을 줄이도록 설계되었습니다. SKY-P40R02의 유지보수는 평판 흑연 부품 연마와 이송 챔버 분리 없이 후면 플랜지를 여는 방식으로 수행할 수 있고, 5존 가스 공급으로 에틸렌과 트리클로로실란을 구역별 독립 제어하며 각 구역의 C/Si 비율과 공정 중 웨이퍼 회전 속도 및 높이도 정밀하게 조절할 수 있습니다. SKY-P20R02(6”x1)는 수평 핫월 기술로 단일 웨이퍼 성장을 수행하고 6인치와 4인치 에피택셜 웨이퍼에 호환되며 안정적인 양산 중이라고 설명되고, 가스 경로 독립 제어, 낮은 소모품 비용, 낮은 유지보수 빈도, NP형 유연 전환을 특징으로 합니다. 공간형 ALD 시스템은 반응 구역을 물리적으로 분리해 이동하는 기판이 전구체 A 구역, 불활성 가스 퍼지 구역, 전구체 B 구역을 순서대로 지나 한 번의 사이클로 원자층 증착을 완료하며 웨이퍼 내·웨이퍼 간·배치 간 불균일도＜±5%, 굴절률 불균일도＜±3%를 제시하고 A원·B원 가스 경로 독립, 공정 거리 조절, 소스 병 압력 제어, 자동 웨이퍼 이송, 챔버와 가스 경로 확장, 고객 맞춤을 지원합니다. 개방형 롤투롤 그래핀 제조 시스템은 폴리이미드 필름이나 폴리에스터 필름 같은 기판과 그래핀 전구체를 롤러 사이로 연속 이송하고 CVD 또는 CVD 파생 기술을 사용해 메탄 같은 전구체를 불활성 분위기에서 가열한 뒤 열분해와 증착으로 그래핀을 형성하며 이후 박리하거나 다양한 소자에 통합할 수 있습니다. 이 롤투롤 시스템은 연속적이고 고효율인 대규모 그래핀 박막 생산용으로 설계되며 우수한 전기적·물리적 특성을 갖는 고품질 균일 그래핀 성장을 지원하고 전자, 광학, 에너지 응용에 맞춰 그래핀 두께, 격자 구조, 형상을 조절할 수 있습니다.
역량 및 제품
- SiC 에피택시 장비
- 전자동 듀얼 챔버 SiC 에피택시 장비
- 수평 핫월 단일 챔버 SiC 에피택시 장비
- 공간형 ALD 장비
- 연구용 맞춤형 CVD 장비
- 개방형 롤투롤 그래핀 제조 장비