基本資料
| 攤位 | J3255 |
| 國別 | CN |
| 產品分類 | Deposition; Chemical Vapor (CVD); MOCVD; PECVD; LPCVD; ALD; REALD; MVD · Epitaxy Equipment; Epi Reactors; Molecular Beam Epitaxy (MBE); Atomic Layer Epitaxy (ALE) |
| 網站 | www.naso-tech.com/about.html |
公司簡介
Shenzhen Naso Tech Co., Ltd. 是中國先進半導體製造設備公司，成立於 2018 年。核心團隊成員來自 University of Cambridge 與知名產業公司，公司在 CVD、MOCVD、ALD 與 ETCH 等先進半導體製造設備領域具有經驗。主要從事第三代半導體碳化矽、新型光伏材料與奈米材料等先進材料領域所需的高端薄膜沉積設備研發、生產與銷售。產品包括 silicon carbide epitaxial reactor，用於寬能隙半導體碳化矽晶片生產的核心外延成長製程，採用水平熱壁技術路線實現單晶圓外延成長。
能力與產品項目
- ALD 半導體製造設備
- CVD 半導體製造設備
- ETCH 半導體製造設備
- MOCVD 半導體製造設備
- 水平熱壁單片晶圓磊晶成長
- 用於 SiC、光伏材料與奈米材料的薄膜沉積設備
- 碳化矽磊晶反應器
- 磊晶反應器與磊晶設備