基本情報
| ブース | R7200, S8044 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.ppmiglobal.com/website/index.php |
会社概要
PENTAPRO MATERIALS INC.は2011年3月に設立され、資本金はNT$ 589百万、生産施設は台南サイエンス工業園区にあり、第3類危険化学品を法的に製造できる能力を備えています。同社は半導体用途向けに半導体グレードの超高純度プリカーサーを開発・製造し、各種化学元素で純度最大8Nに対応し、ALDプリカーサーのグローバルサプライヤーとなることを目標としています。中核事業は、プリカーサー製品、シリンダー洗浄・再充填サービス、特殊ガス、カスタム化学品開発です。名称が示されたプリカーサーにはTSA、TMAl、TEAl、TMGa、TEGa、TMIn、TESb、DEZn、CCTBAがあり、特殊ガスにはDUV、ArF laser、KrF laser製品があります。シリンダー洗浄・検査サービスには、残留物除去、ヘリウムリーク検出、シリンダー再生が含まれます。研究開発能力にはプリカーサーの微量分析、精製、合成があり、技術ロードマップは高誘電率材料、ワイドバンドギャップ材料、耐食材料、高熱伝導絶縁材料をカバーします。品質・技術面の資格には、ISO 9001:2015、ISO 14001:2015、ISO 45001:2018のマネジメントシステム認証と、超微量分析能力に対するTAF認証があります。PentaProはインテグリティ、コミットメント、イノベーション、顧客満足を中核価値とし、従業員、顧客、株主、サプライヤー、社会への約束を掲げています。環境・安全衛生方針は、顧客第一と厳格な品質管理、継続的改善と技術革新、法令遵守とリスク予防、環境保護と省エネルギー・廃棄物削減、安全衛生と全員参加を含みます。会社のマイルストーンの一つは2012年8月に最初のTMGを完成したことで、その後も顧客と協力して新技術を開発しています。
展示製品
PENTAPRO MATERIALS INC.は、有機金属製品の独自技術を開発しています。半導体製品リストには、化学式(CH3)3Al、CAS No. 75-24-1のTMAl(Semi Grade)と、同じ化学式およびCAS No. 75-24-1のTMAl(HEMT Grade)が含まれます。同じ半導体製品リストには、化学式(SiH3)3N、CAS No. 13862-16-3のTSA、化学式(C2H5)3Al、CAS No. 97-93-8のTEAl、化学式(C2H5)3N、CAS No. 121-44-8のTEAも含まれます。追加の半導体製品には、化学式[(CH3)2N]3SiH、CAS No. 15112-89-7の3DMAS、化学式(C2H5)2AlOC2H5、CAS No. 1586-92-1のDEAlO、化学式(C2H5)2Zn、CAS No. 557-20-0のDeZnがあります。半導体製品リストには、化学式C8H24N4V、CAS No. 19824-56-7のTDMAVと、化学式[(CH3)2N]4Hf、CAS No. 19782-68-4のTDMAHfも記載されています。III-V semiconductor製品では、PENTAPRO MATERIALS INC.がTMAl(Semi Grade)、TMAl(HEMT Grade)、TSAを再掲し、化学式とCAS番号は半導体製品リストと同じです。III-V semiconductor製品には、化学式(CH3)3In、CAS No. 3385-78-2のTMIn、化学式(CH3)3Ga、CAS No. 1445-79-0のTMGa、化学式(C2H5)3 Ga、CAS No. 1115-99-7のTEGaがあります。III-Vリストには、化学式(C2H5)3Al、CAS No. 97-93-8のTEAl、化学式(C2H5)2AlOC2H5、CAS No. 1586-92-1のDEAlO、化学式(C2H5)3N、CAS No. 121-44-8のTEAも含まれます。TESbはIII-V semiconductor用途として記載され、化学式は(C2H5)3Sb、CAS No.は617-85-6です。これらの名称付き製品は、より広いプリカーサー、特殊ガス、シリンダーサービスのポートフォリオとともに、半導体およびIII-V semiconductor材料用途を支えます。
対応領域・製品
- 半導体グレード超高純度前駆体
- ALD 前駆体
- シリンダー洗浄・再充填サービス
- カスタム化学品開発
- DUV・ArF・KrF レーザーガス
- シリンダー残留物除去
- シリンダーのヘリウムリーク検査
- シリンダー再生
- 前駆体の微量分析
- 前駆体精製
- 前駆体合成
- 有機金属材料開発
- III-V 半導体前駆体