基本資料
| 攤位 | R7200, S8044 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.ppmiglobal.com/website/index.php |
公司簡介
PENTAPRO MATERIALS INC. 成立於 2011 年 3 月，資本額為新台幣 589 百萬元，生產設施位於台南科學工業園區，依法具備製造第 3 類危險化學品的能力。公司為半導體應用開發與製造半導體級超高純度前驅物，各種化學元素的純度最高可達 8N，並以成為全球 ALD 前驅物供應商為目標。其核心業務涵蓋前驅物產品、鋼瓶清洗與再充填服務、特殊氣體及客製化化學品開發。具名的前驅物產品包括 TSA、TMAl、TEAl、TMGa、TEGa、TMIn、TESb、DEZn 與 CCTBA，特殊氣體則包括 DUV、ArF laser 與 KrF laser 產品。鋼瓶清洗與檢驗服務包括殘留物去除、氦氣洩漏檢測與鋼瓶再生。其研發能力包括前驅物的微量分析、純化與合成，技術藍圖涵蓋高介電常數材料、寬能隙材料、耐腐蝕材料與高導熱絕緣材料。品質與技術資格包括 ISO 9001:2015、ISO 14001:2015 與 ISO 45001:2018 管理系統認證，以及超微量分析能力的 TAF 認證。PentaPro 將誠信、承諾、創新與客戶滿意列為核心價值，承諾對象涵蓋員工、客戶、股東、供應商與社會。其環境、健康與安全政策包括客戶優先與嚴格品質管制、持續改善與技術創新、法規遵循與風險預防、環境保護與節能減廢，以及健康安全與全員參與。公司里程碑之一是於 2012 年 8 月完成第一項 TMG，之後持續與客戶合作開發新技術。
展出產品
PENTAPRO MATERIALS INC. 致力於發展金屬有機物產品的自有技術。其半導體產品清單包括 TMAl(Semi Grade)，化學式為 (CH3)3Al、CAS No. 75-24-1，以及 TMAl(HEMT Grade)，其化學式相同且 CAS No. 同為 75-24-1。同一份半導體清單亦包括 TSA，化學式 (SiH3)3N、CAS No. 13862-16-3；TEAl，化學式 (C2H5)3Al、CAS No. 97-93-8；以及 TEA，化學式 (C2H5)3N、CAS No. 121-44-8。其他半導體產品包括 3DMAS，化學式 [(CH3)2N]3SiH、CAS No. 15112-89-7；DEAlO，化學式 (C2H5)2AlOC2H5、CAS No. 1586-92-1；以及 DeZn，化學式 (C2H5)2Zn、CAS No. 557-20-0。半導體清單亦列出 TDMAV，化學式 C8H24N4V、CAS No. 19824-56-7，以及 TDMAHf，化學式 [(CH3)2N]4Hf、CAS No. 19782-68-4。在 III-V semiconductor 產品方面，PENTAPRO MATERIALS INC. 再度列出 TMAl(Semi Grade)、TMAl(HEMT Grade) 與 TSA，其化學式與 CAS 號碼和半導體產品清單相同。III-V semiconductor 產品範圍包括 TMIn，化學式 (CH3)3In、CAS No. 3385-78-2；TMGa，化學式 (CH3)3Ga、CAS No. 1445-79-0；以及 TEGa，化學式 (C2H5)3 Ga、CAS No. 1115-99-7。III-V 清單亦包括 TEAl，化學式 (C2H5)3Al、CAS No. 97-93-8；DEAlO，化學式 (C2H5)2AlOC2H5、CAS No. 1586-92-1；以及 TEA，化學式 (C2H5)3N、CAS No. 121-44-8。TESb 列於 III-V semiconductor 應用，化學式為 (C2H5)3Sb，CAS No. 為 617-85-6。這些具名產品與公司更廣泛的前驅物、特殊氣體及鋼瓶服務組合，共同支援半導體與 III-V semiconductor 材料應用。
能力與產品項目
- 半導體級超高純度前驅物
- ALD 前驅物
- 氣瓶清洗與補充服務
- 客製化學品開發
- DUV、ArF、KrF 雷射氣體
- 氣瓶殘留物去除
- 氣瓶氦氣洩漏檢測
- 氣瓶再生
- 前驅物痕量分析
- 前驅物純化
- 前驅物合成
- 金屬有機材料開發
- III-V 半導體前驅物