基本情報
| ブース | L0216 |
| 国 | TW |
| 製品カテゴリ | Wafer Identification; Marking Equipment · Transfer Systems for Wafer; Reticles or FPD's · Lithography; Exposure; Aligners; Direct Write Systems; Steppers; Scanners; Nanoimprint · Plating; Electro Chemical Plating; Deposition Systems · SOI Bonders; Temporary Bonders; De-Bonders · Crystal Growing & Machining Equipment · Deposition; Chemical Vapor (CVD); MOCVD; PECVD; LPCVD; ALD; REALD; MVD · Deposition; Physical Vapor (PVD); Sputtering; Evaporation Equipment · Environmental Enclosures; Minienvironments · Epitaxy Equipment; Epi Reactors; Molecular Beam Epitaxy (MBE); Atomic Layer Epitaxy (ALE) · Etching; Stripping; Ashing - Dry and Wet Equipment · Ion; E-Beam Milling Etching Equipment · Bumping Systems · Chemical Mechanical Polishing (CMP); Electro Polishing, Mechanical Polishing Equipment · Cleaning; Washing; Drying Equipment for Substrate, Fab Processing · Coat; Develop; Resist Processing; Track Equipment · Spin on Glass (SOG); on Dielectric (SOD) Track systems · Thermal Processing - Diffusion; Oxidation; Annealing; RTA; RTP Equipment · Acids; Etchants · Buffers; Alkalis; Bases · DI; UP Water · Dopants; liquid or solid · Other Specialty Chemicals · Cleaning Chemicals; Solvents; Strippers · Gas; Liquid delivery panels as subsystems · Chemical; Pure Water; Fluid Monitoring & Control Systems · Gas Monitoring Equipment; RGA's; TGO compliance · Waste Control; Effluent Management Systems (Fluid & Gas; Exhaust Conditioning; Scrubbers) · Building Maintenance · Deposition Service · Burn-In Service · Color Filter Manufacturing · Etch; Strip; Cleaning Service · Backgrind; Slicing; Lapping; Polishing Equipment · Cleaning; Washing Equipment for Assembly & Packaging · Liquid Crystal Injection or Filling Equipment · Cutting; Drilling; Laser ablation; Beveling Equipment · Vacuum drying & out gassing Systems |
| ウェブサイト | www.pall.com |
会社概要
プロフィール：Semicon West 2018へようこそ！ぜひブースN168にお立ち寄りください！Pall Microelectronicsは、マイクロエレクトロニクスおよび太陽光発電（PV）産業向けのろ過、分離、精製技術における世界的リーダーです。当社は、化学薬品、ガス、水、化学機械研磨（CMP）、フォトリソグラフィ工程向けの包括的な汚染管理ソリューションにより、半導体、データストレージ、光ファイバー、先進ディスプレイ、材料市場を支援しています。7nmプロセスおよびそれ以降に向けた最新技術について、ぜひ当社ブースにてご覧ください！
展示製品
航空宇宙・防衛向けろ過ソリューション 過酷な運用環境に、より優れた保護を 毎日 当社は、世界中のお客様に向けて、高性能な航空宇宙用フィルターおよび航空宇宙用ろ過システム一式を提供する、ろ過・分離・精製ソリューションのプロバイダーです。業界をリードする当社の汚染および粒子制御技術は、数え切れないほどの用途で活用されており、重要なオペレーティングシステムの保護、コンポーネントの信頼性向上、そして空気および飲料水の浄化を通じた健康維持に貢献しています。 油圧システムから燃料、潤滑、空気システムに至るまで、当社の航空宇宙用フィルターは、重要なコンポーネントを保護し、システムの寿命を延ばすように設計されています。民間旅客機から次世代戦闘機まで、どのような機体であっても、Pallのろ過技術は最適なパフォーマンスと汚染制御を保証します。詳細は以下をご覧ください。 1946年以来、Pall Aerospaceはろ過・分離技術のパイオニアとして業界を牽引してきました。70年以上にわたる専門知識を活かし、世界中の民間および防衛セクターに向けて、堅牢で統合されたソリューションを提供しています。30カ国に展開する当社のグローバルチームは、疲労試験、CFD（数値流体力学）、コンプライアンスにおける高度な能力に裏打ちされた比類のないサポートを提供します。私たちはイノベーション、安全性、持続可能性に尽力し、今日の課題に応え、明日のニーズを先取りします。 実証されたパフォーマンス：世界中のOEMおよび防衛関連企業から信頼されています。 カスタムエンジニアリング：独自のミッションプロファイルに合わせた航空宇宙用ろ過システム。 グローバルサポート：航空宇宙のライフサイクル全体にわたる包括的なサービスとサポート。
対応領域・製品
- 7 nm 以降のプロセス向け汚染制御技術
- CMP プロセス向け汚染制御ソリューション
- フォトリソグラフィプロセス向け汚染制御ソリューション
- マイクロエレクトロニクス向けろ過、分離、精製技術
- 化学、ガス、水プロセス向け汚染制御ソリューション