基本情報
| ブース | L0216 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | www.pall.com |
会社概要
Pall Singapore Taiwan Branch Holding Co., Pte. Ltd.-HsinChu Office が属するマイクロエレクトロニクス事業は、マイクロエレクトロニクスおよび太陽光発電産業向けに、ろ過、分離、精製技術を提供し、半導体、データストレージ、光ファイバー、先進ディスプレイ、材料市場を支援します。マイクロエレクトロニクスのコンタミネーション制御は、化学薬品、ガス、水、化学機械研磨（CMP）、フォトリソグラフィ工程を対象とし、7 nm プロセスおよびそれ以降に向けた技術も含みます。Pall は、より広いろ過・分離・精製の活動を 1946 年から続けており、健康や重要資産の保護、品質向上、廃棄物削減に関する課題で顧客と協働すると説明しています。High Flow Gas ソリューションは大流量ガスから粒子を除去し、小型容器と少ないエレメントによって初期 CAPEX を抑え、設置面積とメンテナンス負荷を減らしながら下流設備を保護します。より広い製品群には食品・飲料加工向けの Membralox GP-IC セラミック膜システムがあり、廃棄物とダウンタイムを減らしながら高付加価値原料や代替タンパク質の生産を支援します。Supralon replacement oil filter element は必要な清浄度を迅速に達成・維持し、潤滑・油圧システムを部品故障や予定外停止から保護する用途に位置付けられています。半導体向けには洗浄方法や製造工程用の精製・ろ過技術を提供し、メーカーが採用する理由としてプロセスを可能にする機能、品質、コスト削減、生産性向上を挙げています。ほかの市場ではビールろ過、航空宇宙ソリューション、持続可能性に向けた重要プロセス再設計にも取り組み、半導体製造だけに限定されないろ過・精製ポートフォリオを構成しています。
展示製品
半導体製造向けには、フォトリソグラフィ、ウェットエッチ、ドライエッチ、成膜、CMP、薬液供給、プロセスガスのろ過・精製、超純水システムまでのろ過・精製ソリューションを提供し、プロセス開発から量産までコンタミネーション制御を支援します。対象となる汚染物には粒子、ゲル、凝集物、金属、分子汚染物があり、微量汚染でも歩留まり、欠陥、デバイス性能・信頼性、ダウンタイムに影響するとしています。ろ過と精製の役割として、歩留まり向上と欠陥低減、プロセスチャンバー・装置の保護、プロセス化学の安定、プロセス流体中の粒径分布制御、異常や予定外メンテナンスの低減、先端ノードへのスケーリングを挙げています。Pall は半導体メーカー、OEM、化学品サプライヤーと協力し、ウェットエッチ／洗浄、プロセスガスろ過、フォトリソグラフィ、プロセスガス精製、CMP、電子グレード薬液、超純水に個別のソリューションを提供します。超純水ではウエハ洗浄・リンス向けにろ過、精製、限外ろ過を組み合わせ、安定した UPW 品質、粒子前駆体や微量汚染物の低減、安定した高歩留まりデバイス性能を支えます。半導体ポートフォリオはサブミクロン粒子、ゲル、金属イオン、分子汚染物に対応し、先端パッケージングでも超微粒子除去、薬液・ガス・UPW の純度維持、プロセス一貫性の維持に使われます。半導体用化学品では、化学薬品、ガス、水、CMP slurry、photoresist にろ過、精製、分離を提供し、半導体および関連産業での数十年の経験と厳格な品質管理を各種フィルター材料に適用しています。化学ろ過性能として、extractables の total metal が sub-ppb、低圧力損失、PTFE で 5 nm までの retention が示され、用途には集積回路、データストレージ、フラットパネルディスプレイ、太陽光発電があります。材料には PTFE、polyarylsulfone、nylon、PVDF、polyethylene、polysulfone があり、高度非対称 polyarylsulfone membrane はろ過改善と運用コスト低減を狙います。電子グレード高純度薬液フィルターは厳格な品質管理プログラムに従い、半導体製造の重要な化学工程を改善するために提供されます。化学適合性は用途ごとの確認が必要で、実際の運転条件で事前テストし、housing rating を確認することが求められます。PP Megaplast housing は水用 rating のみで、薬液には推奨されない例として挙げられています。CMP フィルターは slurry 粒子のサイズと濃度、Large Particle Counts を規定プロセスパラメータに合わせて制御し、欠陥低減、歩留まり向上、プロセス安定化を目指します。Pall は retention と品質改善を Cost of Ownership の低減につなげ、専門家が slurry サプライヤーとデバイスメーカーのろ過方式を最適化し、point-of-use や slurry distribution を含む位置で filter throughput を高めます。Pall Kleen-Change In-Line filter capsule は point-of-use CMP 用で、重要な planarisation 工程に合わせて media をカスタマイズできます。Profile Nano filter は細い meltblown fibre と段階的な filter zone を採用し、各 zone の個別仕様によってフィルター深さ方向の粒子負荷をより均一にします。CMP Starkleen Nano capsule は Profile Nano の fibre と grading を継承し、サイズと fitting のカスタマイズを追加し、4.5 inch、8.5 inch、13 inch の長さと flaretek／NPT fitting を用意します。Slurry filter は recirculation／global loop、polish tool 近傍の point-of-use、slurry supplier の tote／drum から day tank までの 3 箇所に配置でき、bulk と POU 向けの media・構成によってプロセス制御、効率、filter life または slurry throughput、欠陥低減、Slurry Delivery System PM 間隔延長を支援します。UHP プロセスガス用フィルターは outgassing と粒子脱落に対処する設計で、metal-fibre 技術によりメンテナンスやシステム変動時の迅速なガス置換と molecular transparency を実現します。O-ringless Gaskleen IV／V PTFE membrane filter は critical ammonia（NH3）と ozone（O3）用途で O-ring 変形と filter bypass を回避するために使われ、bulk distribution と point-of-use に対応し、ガス関連欠陥、outgassing、粒子不純物の低減を狙います。航空宇宙向けには世界の顧客に高性能フィルターと完全なろ過システムを提供し、ろ過、分離、精製、コンタミネーション・粒子制御によって重要な運用システム保護、部品信頼性向上、空気・飲料水の浄化を支援します。用途は油圧、燃料、潤滑、空気システムに及び、商用航空機、軍用航空機、ヘリコプター、軍用車両、客室空気ろ過、持続可能な航空、エンジン、Maintenance, Repair and Overhaul を含みます。Pall Aerospace はろ過・分離活動を 1946 年から行い、世界の商用・防衛分野向け統合ソリューションで 70 年を超える専門知識を持つとしています。航空宇宙サポート組織は 30 か国に広がり、fatigue testing、CFD、compliance の能力を備えます。航空宇宙事業は OEM と defence contractor に世界で採用され、ミッションプロファイル別のカスタムろ過システムと航空宇宙ライフサイクル全体のサービス・サポートを提供します。
対応領域・製品
- 半導体ウェットエッチ・洗浄ろ過
- 半導体プロセスガスろ過
- リソグラフィ薬液ろ過
- 半導体プロセスガス精製
- CMP スラリーろ過
- 電子グレード薬液ろ過
- 超純水 UPW ろ過・精製
- 航空宇宙向け高性能フィルター
- 大流量ガス高性能ろ過
- セラミック膜ろ過システム