基本資料
| 攤位 | L0216 |
| 國別 | TW |
| 產品分類 | Wafer Identification; Marking Equipment · Transfer Systems for Wafer; Reticles or FPD's · Lithography; Exposure; Aligners; Direct Write Systems; Steppers; Scanners; Nanoimprint · Plating; Electro Chemical Plating; Deposition Systems · SOI Bonders; Temporary Bonders; De-Bonders · Crystal Growing & Machining Equipment · Deposition; Chemical Vapor (CVD); MOCVD; PECVD; LPCVD; ALD; REALD; MVD · Deposition; Physical Vapor (PVD); Sputtering; Evaporation Equipment · Environmental Enclosures; Minienvironments · Epitaxy Equipment; Epi Reactors; Molecular Beam Epitaxy (MBE); Atomic Layer Epitaxy (ALE) · Etching; Stripping; Ashing - Dry and Wet Equipment · Ion; E-Beam Milling Etching Equipment · Bumping Systems · Chemical Mechanical Polishing (CMP); Electro Polishing, Mechanical Polishing Equipment · Cleaning; Washing; Drying Equipment for Substrate, Fab Processing · Coat; Develop; Resist Processing; Track Equipment · Spin on Glass (SOG); on Dielectric (SOD) Track systems · Thermal Processing - Diffusion; Oxidation; Annealing; RTA; RTP Equipment · Acids; Etchants · Buffers; Alkalis; Bases · DI; UP Water · Dopants; liquid or solid · Other Specialty Chemicals · Cleaning Chemicals; Solvents; Strippers · Gas; Liquid delivery panels as subsystems · Chemical; Pure Water; Fluid Monitoring & Control Systems · Gas Monitoring Equipment; RGA's; TGO compliance · Waste Control; Effluent Management Systems (Fluid & Gas; Exhaust Conditioning; Scrubbers) · Building Maintenance · Deposition Service · Burn-In Service · Color Filter Manufacturing · Etch; Strip; Cleaning Service · Backgrind; Slicing; Lapping; Polishing Equipment · Cleaning; Washing Equipment for Assembly & Packaging · Liquid Crystal Injection or Filling Equipment · Cutting; Drilling; Laser ablation; Beveling Equipment · Vacuum drying & out gassing Systems |
| 網站 | www.pall.com |
公司簡介
簡介：歡迎蒞臨 Semicon West 2018！請至 N168 號攤位參觀！Pall Microelectronics 是微電子與光伏（太陽能）產業在過濾、分離與純化技術領域的全球領導者。我們透過一套完整的污染控制解決方案，支援半導體、資料儲存、光纖、先進顯示器與材料市場，涵蓋化學品、氣體、水、化學機械研磨（CMP）與微影製程。歡迎蒞臨我們的攤位，了解我們針對 7 奈米及更先進製程的最新技術！
展出產品
航太與國防過濾解決方案 為嚴苛的作業環境提供更佳的保護， 每一天 我們提供過濾、分離與淨化解決方案，為全球客戶提供高效能航太濾心及完整的航太過濾系統。我們業界領先的污染與微粒控制技術應用於無數領域，保護關鍵作業系統、提升組件可靠性，並透過空氣與飲用水淨化來維護健康。 從液壓系統到燃油、潤滑與空氣系統，我們的航太濾心旨在保護重要組件並延長系統壽命。無論您是為商用客機還是下一代戰鬥機進行裝備，Pall 的過濾技術都能確保最佳效能與污染控制。請在下方了解更多資訊。 自 1946 年以來，Pall Aerospace 一直引領過濾與分離技術的發展。憑藉超過 70 年的專業經驗，我們為全球商業與國防領域提供強大且整合的解決方案。我們遍布 30 個國家的全球團隊提供無與倫比的支援，並擁有疲勞測試、CFD 與合規性方面的先進能力。我們致力於創新、安全與永續發展，以應對當前的挑戰並預見未來的需求。 經過驗證的效能：深受全球 OEM 與國防承包商信賴。 客製化工程：針對獨特任務需求量身打造的航太過濾系統。 全球支援：涵蓋整個航太生命週期的全面服務與支援。
能力與產品項目
- 7 nm 及更先進製程的污染控制技術
- CMP 製程污染控制解決方案
- photolithography 製程污染控制解決方案
- 化學、氣體與水製程污染控制解決方案
- 微電子過濾、分離與純化技術