基本資料
| 攤位 | L0216 |
| 國別 | TW |
| 網站 | www.pall.com |
公司簡介
Pall Singapore Taiwan Branch Holding Co., Pte. Ltd.-HsinChu Office 所代表的微電子業務，為微電子與光伏產業提供過濾、分離與純化技術，並服務半導體、資料儲存、光纖、先進顯示與材料市場。其微電子污染控制範圍涵蓋化學品、氣體、水、化學機械研磨（CMP）與微影製程，並包含用於 7 nm 製程及更先進節點的技術。Pall 將更廣泛的過濾、分離與純化工作追溯至 1946 年，並描述其與客戶合作處理健康與關鍵資產保護、品質提升及減少浪費等挑戰。High Flow Gas 解決方案針對大流量氣體的粒子移除，同時以較小容器與較少濾芯降低前期 CAPEX，並減少占地與維護需求、保護下游設備。更廣的產品組合包括 Membralox GP-IC 陶瓷膜系統，面向食品與飲料加工，設計目標包含減少浪費與停機並支援高價值原料與替代蛋白生產。Supralon replacement oil filter element 用於快速達成並維持所需潔淨度，以保護潤滑與液壓系統免於組件故障及非計畫停機。半導體方面，Pall 提供用於清洗方法與製造流程的純化和過濾技術，並表示半導體製造商採用其產品的考量包括製程支援能力、品質、成本降低與生產力改善。其他市場還包括啤酒過濾、航太解決方案，以及針對永續目標重新設計關鍵製程的工作，顯示其過濾與純化產品組合不僅限於半導體製造。
展出產品
半導體製造方面，Pall 提供從微影、濕式蝕刻、乾式蝕刻、沉積、CMP、化學品輸送，到製程氣體過濾與純化及超純水系統的過濾與純化方案，從製程開發到大量製造皆支援污染控制。目標污染物包括粒子、膠體、團聚物、金屬與分子污染物，因為即使是微量污染也可能影響良率、造成缺陷、降低元件效能與可靠性並增加停機。過濾與純化的作用包括提升良率與降低缺陷、保護製程腔體與設備、維持穩定製程化學、控制製程液體中的粒徑分布、減少異常與非計畫維護，以及支援先進節點縮放。Pall 與半導體製造商、OEM 與化學品供應商合作處理整個製作流程的污染問題，並針對濕式蝕刻與清洗、製程氣體過濾、微影、製程氣體純化、CMP、電子級化學品與超純水提供對應方案。超純水方案結合過濾、純化與超濾，用於晶圓清洗與沖洗，目標是維持 UPW 品質、降低粒子前驅物與其他微量污染物，並支援穩定的高良率元件效能。半導體產品組合亦處理次微米粒子、膠體、金屬離子與分子污染物，並延伸至先進封裝，用於移除超細粒子、維持化學品、氣體與 UPW 純度，以及維持製程一致性。半導體化學品方面，Pall 對化學品、氣體、水、CMP slurry 與 photoresist 提供過濾、純化與分離，累積數十年服務半導體及相關產業的經驗，並對多種濾材執行嚴格品質控制。其化學品過濾效能包括 extractables 的 total metal 低於 ppb、低壓降，以及 PTFE 可達 5 nm retention；應用包括積體電路、資料儲存、平面顯示與光伏。具名濾材包括 PTFE、polyarylsulfone、nylon、PVDF、polyethylene 與 polysulfone；高度不對稱的 polyarylsulfone membrane 被描述為可改善過濾並降低營運成本。Pall 電子級高純度化學品濾芯依嚴格品質控制計畫製造，產品組合用於改善半導體製造中的關鍵化學製程。化學相容性須依實際應用判定，使用者應在自身操作條件下預先測試並查核 housing rating；PP Megaplast housing 的例子只具有水用 rating，並不建議用於化學品。CMP 方面，Pall 濾芯控制 slurry 粒子尺寸與濃度，包括 Large Particle Counts，使其符合指定製程參數，目標為降低缺陷、改善良率與維持製程穩定。Pall 將 retention 與品質改善與降低 Cost of Ownership 連結，並由專家優化 slurry 供應商與元件製造商的過濾配置，包括 point-of-use 與 slurry distribution 位置，以提高濾芯 throughput。Pall Kleen-Change In-Line filter capsule 用於 point-of-use CMP，並以可客製媒材支援關鍵 planarisation 製程。Profile Nano filters 採用細緻 meltblown fibres 與分區 grading，每一區都有個別規格，以讓粒子負載在濾芯深度方向更一致。CMP Starkleen Nano capsule 延續 Profile Nano 的纖維與 grading 技術並加入尺寸和 fitting 客製，可提供 4.5 inch、8.5 inch 與 13 inch 長度，搭配 flaretek 與 NPT fittings。Slurry filter 可設於 recirculation／global loop、靠近 polish tool 的 point-of-use，或從 slurry supplier tote／drum 到 day tank 的路徑；Pall 針對 bulk 與 POU 提供不同媒材與配置，效益包括製程控制與穩定、效率提升、延長 filter life 或 slurry throughput、降低缺陷及延長 Slurry Delivery System PM 間隔。UHP 製程氣體方面，Pall 濾芯針對 outgassing 與粒子脫落問題設計，metal-fibre 技術可在例行維護或系統異常時支援快速氣體置換與 molecular transparency。無 O-ring 的 Gaskleen IV 與 V PTFE membrane filter 用於避免 critical ammonia（NH3）與 ozone（O3）應用中的 O-ring 變形與 filter bypass，可用於 bulk distribution 與 point-of-use，效益包括降低氣體相關缺陷、outgassing 與粒子雜質。航太產品範圍包括供全球客戶使用的高效能濾芯與完整過濾系統，整合過濾、分離、純化以及污染與粒子控制，以保護關鍵運作系統、提升組件可靠性，並支援空氣與飲用水純化。航太應用包含液壓、燃油、潤滑與空氣系統，產品類別涵蓋商用飛機、軍用飛機、直升機、軍用車輛、客艙空氣過濾、永續航空、引擎，以及維修、修理與大修。Pall Aerospace 將過濾與分離業務追溯至 1946 年，並表示在全球商用與國防領域的整合方案累積超過 70 年專業經驗。其航太支援團隊遍及 30 個國家，並具備疲勞測試、CFD 與合規能力。航太業務表示其產品獲全球 OEM 與國防承包商採用，並可依特定任務條件客製過濾系統，以及提供涵蓋航太全生命週期的服務與支援。
能力與產品項目
- 半導體濕蝕刻與清洗過濾
- 半導體製程氣體過濾
- 微影化學品過濾
- 半導體製程氣體純化
- CMP 漿料過濾
- 電子級化學品過濾
- 超純水 UPW 過濾與純化
- 航太高效能過濾器
- 大流量氣體高效過濾
- 陶瓷膜過濾系統