기본 정보
| 부스 | L1326 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | optifabinc.com |
회사 소개
Optifab, Inc.는 OptiFab Taiwan을 통해 박막 리튬 나이오베이트와 실리콘 포토닉스를 연결하는 4개의 자체 광학 웨이퍼 FAB을 운영해 이들 포토닉 기술 영역을 아우르는 사내 제조 기반을 구축하고 두 기술 영역을 사내에서 연결하는 제조 체계를 형성합니다. 회사는 10,000 m²가 넘는 FAB 공간과 월 20,000장 이상의 웨이퍼 생산 능력을 갖추고 있다고 밝힙니다. Optifab, Inc.는 포토닉 소재 작업을 사내 제조 모델에 포함해 소재를 같은 공간에서 통합 운영하는 단계 중 하나로 둡니다. 공정 개발도 같은 통합 운영 안에서 수행해 소재 플랫폼과 포토닉 소자를 구현하는 데 필요한 제조 공정을 연결합니다. 소자 설계도 사내 기술 사슬에 포함되어 회로 및 소자 개발 작업을 회사의 웨이퍼 제조 역량과 통합합니다. 패키징도 같은 공간에 통합해 소재, 공정 개발, 소자 설계에서 패키징된 포토닉 제품까지 이어지는 내부 기술 사슬을 완성합니다. 관련 개발 및 제조 기능을 같은 조직 안에 두는 통합 운영 모델을 통해 포토닉 소자 개발을 훨씬 짧은 개발 주기로 진행하고 개발과 제조 기능의 연계를 같은 조직 안에서 유지하는 것을 목표로 합니다.
전시 제품
제공하는 포토닉 소재 플랫폼은 LN, ELN™, PPLN, TFLN을 포괄해 회사의 광학 웨이퍼 기술 범위에서 여러 리튬 나이오베이트 계열 소재 선택지를 제공합니다. 실리콘 포토닉스와 실리콘 나이트라이드가 이 플랫폼을 보완해 리튬 나이오베이트 계열에서 다른 집적 포토닉 소재 시스템으로 기술 범위를 확장합니다. 기술 사슬에는 고속 전기광학 변조가 포함되어 회사의 웨이퍼 및 소자 개발 범위에 능동 포토닉 기능을 제공합니다. 비선형 양자 광원도 포함되어 Optifab, Inc.의 소재 및 소자 플랫폼에 양자 포토닉 기능을 추가합니다. 초저손실 수동 라우팅은 같은 기술 사슬의 수동 포토닉 영역을 구성해 능동 변조와 양자 광원 기능을 보완합니다. Optifab, Inc.는 이러한 제조 및 소재 플랫폼을 기반으로 양산 투입 가능한 포토닉 집적회로를 제공합니다. AI 인프라에는 포토닉 집적회로를 AI 인터커넥트용으로 제공해 컴퓨팅 자원 사이의 데이터 이동에 회사의 포토닉 제조 역량을 적용합니다. 우주 응용에는 같은 양산 투입 가능 포토닉 집적회로를 우주 레이저 링크용으로 제공합니다. 양자 응용에는 포토닉 집적회로를 양자 컴퓨팅용으로 제공하고 회사가 제시한 비선형 양자 광원 역량과 함께 적용합니다.
역량 및 제품
- TFLN부터 실리콘 포토닉스까지 광학 웨이퍼 제조
- LN / ELN™ / PPLN / TFLN 소재 플랫폼
- 실리콘 포토닉스 및 실리콘 나이트라이드 플랫폼
- 고속 전기광학 변조 소자
- 비선형 양자 광원
- 광자 집적회로 공정 개발·소자 설계·패키징