基本情報
| ブース | L1326 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | optifabinc.com |
会社概要
Optifab, Inc. は OptiFab Taiwan を通じて、薄膜ニオブ酸リチウムとシリコンフォトニクスをつなぐ 4 つの自社光学ウエハ FAB を運営し、これらのフォトニクス技術領域にまたがる社内製造基盤を構築し、二つの技術領域を社内でつなぐ製造体制を形成しています。 同社は 10,000 m² を超える FAB スペースと、月 20,000 枚を超えるウエハ生産能力を持つとしています。 Optifab, Inc. はフォトニック材料の作業を社内製造モデルに含め、材料を同じ拠点内で統合運用する工程の一つとしています。 プロセス開発も同じ統合運用の中で行い、材料プラットフォームとフォトニックデバイスを実現するための製造プロセスを結び付けます。 デバイス設計も社内チェーンに含まれ、回路・デバイス開発をウエハ製造能力と統合しています。 パッケージングも同じ拠点内に統合し、材料、プロセス開発、デバイス設計からパッケージ済みフォトニック製品までの社内チェーンを完成させています。 関連する開発・製造機能を同じ組織内に置くこの統合運用モデルにより、フォトニックデバイス開発を大幅に短い開発サイクルで進め、開発と製造の連携を同じ組織内で維持することを目指しています。
展示製品
提供するフォトニック材料プラットフォームは LN、ELN™、PPLN、TFLN に及び、光学ウエハ技術の範囲で複数のニオブ酸リチウム系材料を扱います。 シリコンフォトニクスとシリコンナイトライドがこれらを補完し、ニオブ酸リチウム系から他の集積フォトニクス材料システムへ技術範囲を広げています。 技術チェーンには高速電気光学変調が含まれ、ウエハ・デバイス開発領域に能動フォトニック機能を提供します。 非線形量子光源も含まれ、Optifab, Inc. の材料・デバイスプラットフォームに量子フォトニクス機能を加えます。 超低損失パッシブルルーティングは同じ技術チェーンの受動フォトニクス側を構成し、能動変調と量子光源機能を補完します。 Optifab, Inc. はこれらの製造・材料プラットフォームを用いて量産投入可能なフォトニック集積回路を提供します。 AI インフラ向けにはフォトニック集積回路を AI インターコネクトに適用し、計算資源間のデータ移動にフォトニック製造能力を利用します。 宇宙用途では、同じ量産投入可能なフォトニック集積回路を宇宙レーザーリンク向けに提供します。 量子用途では、フォトニック集積回路を量子コンピューティング向けに提供し、記載された非線形量子光源能力と組み合わせます。
対応領域・製品
- TFLN からシリコンフォトニクスまでの光学ウェハ製造
- LN／ELN™／PPLN／TFLN 材料プラットフォーム
- シリコンフォトニクス・シリコンナイトライドプラットフォーム
- 高速電気光学変調デバイス
- 非線形量子光源
- フォトニック集積回路のプロセス開発・デバイス設計・パッケージング