基本資料
| 攤位 | R7724 |
| 國別 | DE |
| 網站 | www.notion-systems.com |
公司簡介
Notion Systems 是一站式解決方案供應商。憑藉在微影與濕製程以及功能性材料噴墨列印方面數十年的專業，我們涵蓋從實驗室到工業量產的所有製程放大步驟。產品線包括：150 mm 以下的微影與濕製程設備（n.amr 半自動製程系統、n.amc 全自動製程系統）；200 至 300 mm 的微影與濕製程設備（n.unixx 實驗室應用半自動系統、n.varixx 自動複合叢集系統、n.chemixx 濕製程系統、n.maxx 大尺寸基板系統）；實驗室叢集設備（自動微影叢集設備、自動 PV 叢集設備）；噴墨列印系統；以及面向顯示器、電子與半導體的工業解決方案。我們為半導體產業提供噴墨解決方案：n.jet semicon 系列涵蓋半導體產業前段與後段的多種製程。系統配備適用於任何基板類型或晶圓尺寸的整合式邊緣搬運機構、與 MES 系統（例如 SECS-GEM）的整合，以及最先進的前處理與後處理模組。我們的噴嘴更換策略與完整製程控制可提升良率與製程穩定度。系統可搭配高精度點膠單元，在同一平台上進一步擴大可處理材料的範圍。主要特性：高精度噴墨列印、液滴落點精度優於 5 微米、高均勻度、單次列印最多 8 種流體，並支援所有主要製造商的噴頭。噴墨是一種非接觸式數位列印技術，可製作 30 微米以下的細微結構；全數位非接觸列印可實現濕上濕製程，無需光罩或網版，能取代既有的減法製程流程，並降低廢棄物與能源消耗。噴墨速度極快，每個噴嘴每秒可達 10 萬滴，且高度平行化，每個列印單元通常配置超過 1 萬個噴嘴，間距為 20 至 200 微米。公司另設有辛根（Singen）研發與應用中心以及施韋青根（Schwetzingen）的 Notion 先進應用中心，並提供平台工程服務。
展出產品
光微影與濕式製程設備包括 150 mm 以下的 n.amr、n.amc，以及用於 200–300 mm 與大型基板的 n.unixx、n.varixx、n.chemixx、n.maxx；另提供自動化微影／PV 實驗室 cluster tool，以及包括 n.jet semicon 系列在內的噴墨列印系統。亦提供工業解決方案與平台工程服務。
能力與產品項目
- 功能材料噴墨列印系統
- n.jet semicon 半導體噴墨系列
- 液滴落點精度優於 5 微米
- 單次列印最多 8 種流體
- 30 微米以下細微結構列印
- MES 與 SECS-GEM 系統整合
- n.amr 與 n.amc 微影濕製程設備
- n.varixx 與 n.chemixx 濕製程系統
- 每噴嘴每秒 10 萬滴高速噴印
- 自動微影與 PV 叢集設備
- 免光罩網版濕上濕製程