基本資料
| 攤位 | R7724 |
| 國別 | CH |
| 網站 | www.nanosurf.com/en |
公司簡介
Nanosurf AG 是原子力顯微鏡系統的主要供應商，並為不同類型使用者與需求提供多樣化的研究級原子力顯微鏡。公司聚焦於接近物理可達極限的挑戰，並將集體研發力量投入阻礙奈米科技進展的問題，使研究人員能在各自科學領域推進邊界。面向工業客戶，Nanosurf AG 透過打造可融入客戶製造流程的客製機器，將掃描探針技術整合進製造價值鏈，並依個別需求調整。這些客製工業解決方案不只回應每位客戶的獨特需求，也用於提升整合掃描探針技術之生產線的效率與精度。Nanosurf AG 成立於 1997 年，早期透過將掃描探針顯微鏡微型化到可放在咖啡桌上的尺寸，重新定義掃描探針顯微術的易用性，成為公司發展的一項里程碑。此後，這家瑞士公司表示已發展為原子力顯微鏡領域的領先創新者之一，使 AFM 創新成為其公司定位的核心。Nanosurf AG 為學術研究人員，以及生命科學與材料科學的產業應用，持續提供演進中的儀器平台，涵蓋研究與應用環境。公司的工業活動亦包括供高精度規格生產線使用的大型客製化解決方案，使其業務從實驗室儀器延伸到生產線整合。公司持續開發新的量測模式與技術，目標是讓原子力顯微鏡成為更容易、更快速且更可靠的量測工具。Nanosurf AG 也希望透過讓原子力顯微術對新使用者更易取得、更直覺，將此技術帶入持續增加的新應用領域，使其使用感受更接近光學顯微鏡等常見技術。
展出產品
Nanosurf AG 提供原子力顯微鏡系統，以及面向不同使用者類型與量測需求的多樣化研究級原子力顯微鏡。針對半導體研究，Drive AFM 結合 WaveMode 技術與先進電性量測功能，形成可用於研究半導體材料、結構與製程的工具組。Drive AFM 針對小型樣品設計，可在進入晶圓尺度生產前，用於新材料、新結構或新製程的早期探索，其緊湊設計亦有助於最佳化實驗室空間。Nanosurf AG 將 AFM 描述為半導體研究與產業中不可或缺的工具，因為其次奈米解析度、真實地形資訊及局部電性量測能力，可因應晶片特徵縮小後持續提高的精度與解析度需求。在晶圓粗糙度量測中，AFM 可於 sub-angstrom 層級繪製粗糙度，使半導體工程師能量化粗糙度、偵測局部差異，並將表面狀況與元件行為建立關聯，以支援製程最佳化與更平滑表面。在缺陷檢視與失效分析中，高解析 AFM 成像可觀察並表徵極微小的表面缺陷，特殊 AFM 模式則可映射個別特徵的電性並揭示會影響元件行為的摻雜濃度差異。在關鍵尺寸控制中，AFM 可對晶圓表面特徵進行高解析直接成像，並跨不同材料層進行非破壞式線寬、間距與特徵高度量測。Alphacen 300 Drive 是針對半導體產業嚴格需求打造的 AFM 系統，其 WaveMode 支援快速、低雜訊的表面粗糙度量測，以處理半導體生產中的量測挑戰。Nanosurf AG 也提供客製化表徵工具，以及超越標準系統控制與樣品格式的自動化和工程服務，對應工業量測與分析需求。這些工業方案可應用於晶圓生產、清洗與拋光技術，以及使用從 DUV 到 EUV 極短波長的光微影，在半導體供應鏈需要替代工具來確保產品品質時提供支援。整體而言，公司的半導體 AFM 方案涵蓋晶圓粗糙度、缺陷檢視與失效分析、關鍵尺寸、電性映射與客製工業量測，並貫穿研究、製程開發與生產流程。在關鍵尺寸工作中，AFM 被描述為不受材料限制的技術，其直接且非破壞式量測可協助工程師在複雜晶片的不同材料層之間維持精確 CD 控制。在失效分析中，Nanosurf AG 指出，即使非常微小的半導體表面缺陷也可能對元件功能造成災難性影響，因此高解析度的缺陷觀察與表徵是 defect review 流程的重要部分。
能力與產品項目
- 研究級原子力顯微鏡(AFM)
- 半導體AFM表面粗糙度量測
- AFM半導體缺陷檢視與失效分析
- AFM非破壞線寬間距高度量測
- AFM局部電性映射
- 客製工業AFM表徵工具