기본 정보
| 부스 | R7200 |
| 국가 | TW |
| 웹사이트 | www.litron.com.tw |
회사 소개
LiveStrong Optoelectronics Co., Ltd.는 광전자 기술과 그린에너지 기술을 주요 사업 영역으로 삼고 'serving and sharing' 개념을 기반으로 이 기술 분야와 고객 요구를 연결하는 플랫폼을 구축합니다. 기술 개발은 IP 개발, 알고리즘, 소프트웨어 R&D에 중점을 두며 광전자 부품 특성 연구, 측정 장치, 시스템 통합, 클라우드 서비스, 그린에너지 기술을 다룹니다. Industry 4.0 지능형 특성 측정·분석 플랫폼을 개발하고 맞춤형 하드웨어 및 소프트웨어 설계와 기술 자문을 제공합니다. 고객과 긴밀히 협력하여 태양광 광전자 연구, 바이오포토닉스, 패널, 전통 산업, 반도체, micro-LED 기술 연구에서 혁신, 생산성, 고객 성과를 지원합니다. 기술 방향은 반도체, 광전자, 이미지, 스펙트럼 검출 기술을 시스템 수준 구현과 결합하여 자동 검출과 분석에 적용합니다. 이 통합 방식은 검출 활동의 수평 통합을 구축하고 검출 생태계를 강화하며 더 높은 경제적 가치의 제품, 매출, 생산 가치를 지원할 경쟁력 있는 하드웨어와 소프트웨어를 개발하는 것을 목표로 합니다. 또한 새로운 검출 기술을 추진하고 항공우주 관련 분야로 확장하여 National Space Organization과 위성 관련 핵심 부품 및 기술을 공동 개발했습니다. R&D 조직은 여러 분야의 인력으로 구성되며 국내외 학술·연구 역량도 결합하여 학술 성과를 기술 산업 응용과 산업 가치 창출로 연결합니다. 고객은 연구기관, 학술기관, 기업으로 크게 나뉘며 산업 생산, 응용 연구, 대학 기반 기술 연구 등 다양한 활동을 포함합니다. 주요 고객과 기관으로 TSMC, Epistar, Delta, Hermes-Epitek, Motech, TSEC, ITRI, Academia Sinica, Chinese Academia Sinica, NCSIST, INER, TTC, TERTEC, NSPO, NTU, NTHU, NYCU, NCKU가 제시됩니다.
전시 제품
LiveStrong은 하드웨어와 소프트웨어 시스템 통합을 제공하며 내장형 분석 알고리즘을 측정·검출 기능과 결합한 실시간 검사 시스템도 지원합니다. 서비스 범위에는 Industry 4.0 다기능 자동 검사 시스템 설계와 시스템 구축이 포함되어 검사 아키텍처 설계와 실제 시스템 구현을 함께 다룹니다. 광전자 검사 기술 공동 개발, 검사 분석 알고리즘 개발 및 상품화, 산학연 기술 협력, 하드웨어·소프트웨어 정보 자원 공유도 수행합니다. 샘플 측정 및 분석 서비스에는 정밀 막두께 측정, 재료 특성 분석, 균일도 검사, 위성 태양전지 검사, 광전 특성 시뮬레이션이 포함됩니다. 별도 공급 범주로 막층 두께 및 굴절률 측정 시스템이 있으며 재료와 막 표면 특성 평가에 사용됩니다. Filmetrics 박막 측정 시스템은 반사 스펙트럼과 투과 스펙트럼을 분석해 막두께를 측정하며 측정 과정에 움직이는 부품이 필요하지 않습니다. 측정 가능한 두께는 1나노미터의 얇은 막부터 13밀리미터의 두꺼운 막까지로 제시되며 수초 내에 비파괴 방식으로 결과를 얻을 수 있습니다. 두께 외에도 굴절률과 소광계수 n, k 값, 색상, 표면 거칠기까지 측정할 수 있어 공정 모니터링과 수율 향상에 활용됩니다. 더 넓은 재료 및 표면 특성 포트폴리오에는 광학 프로파일러, 저항 측정 시스템, 나노인덴터와 함께 신뢰성 시험, 항공우주 기술, 맞춤형 시스템, 광학 부품 관련 재료가 포함됩니다. 관련 측정 응용은 반도체 재료와 웨이퍼, 코팅, 태양전지와 모듈, LED와 OLED, micro-LED와 mini-LED, 분광, 광발광과 전기발광, 양자 효율, 태양광 시뮬레이션 등 광전 특성 평가로 확장됩니다. 도전성 박막 특성 평가용 R50 저항 측정 시스템은 금속막 두께 및 균일도 분포, 이온 도핑과 주입 농도 특성화, 박막 두께와 비저항 분포, 비접촉 막두께 측정을 지원합니다. R50은 접촉식 4점 프로브 4PP와 비접촉 와전류 EC의 두 가지 저항 측정 방식을 제공하며, 얇은 금속층과 이온 주입층에는 4PP, 두꺼운 금속층과 연성·유연 표면에는 EC가 권장됩니다. 플랫폼에는 100mm Z축 이동거리와 자동 제어, 도체 및 반도체 박막 저항의 10개 자릿수 범위 측정, 사용자 정의 측정 좌표, 200mm 전동 XY 스테이지 옵션, RSMapper 소프트웨어가 포함됩니다. 적용 시장으로 반도체, 화합물 반도체, 첨단 패키징, 태양광, 평판 및 VR 관련 디스플레이, PCB, 웨어러블 장치, 도전성 재료가 제시됩니다. 4PP 방식에서는 네 개의 도전성 프로브가 제어된 힘으로 도전층에 접촉하며 바깥쪽 두 프로브에 전류를 인가하고 안쪽 두 프로브 사이의 전압을 측정합니다. R50의 KLA 듀얼 모드 기술은 간격 프로브 전압 측정, 가장자리 효과 동적 보정, 프로브 간격 오차 보정을 포함하며 표면 재료 특성에 맞춰 여러 프로브 유형을 사용할 수 있습니다. EC 방식은 코일에 시간 변화 전류를 가해 도전 표면에 와전류를 만들고 프로브 코일과의 자기 결합으로 저항에 비례하는 신호를 검출하며 각 측정점에서 프로브 높이를 동적으로 조정할 수 있습니다. EC 방식은 프로브 크기나 표면 산화의 영향을 받지 않는다고 설명되며 부드러운 시료나 4PP 접촉 측정에 적합하지 않은 표면에 사용할 수 있습니다. R50의 두 측정 방식은 99%가 넘는 상관성을 보인다고 제시되며 금속막 균일도, 이온 주입 평가, 시트 저항, 막두께 및 비저항 매핑, 관련 공정 품질 분석에 활용됩니다. RSMapper는 측정 결과를 2D 또는 3D로 표시하고 오프라인 분석, 매핑 결과와 개별 측정 결과 전환, 3D 결과 회전을 통한 맞춤형 파라미터 분석을 지원합니다. R50-4PP와 R50-EC의 측정점 반복성은 모두 0.2% 미만, 정확도는 ±1%로 제시되며 측정 범위는 각각 1mΩ/sp~200MΩ/sp와 1mΩ/sp~10Ω/sp입니다. 100 mm 및 200 mm R50 구성은 자동 XY 스테이지를 사용하고 범위는 100 mm * 100 mm 또는 200 mm * 200 mm이며 최대 시료 폭은 265mm 또는 365mm, 시료대 최대 하중은 2.5kg입니다.
역량 및 제품
- Industry 4.0 다기능 자동검사 시스템 설계·구축
- 실시간 검사·임베디드 분석 알고리즘 시스템 통합
- 광전자 검사 기술 공동개발
- 검사 분석 알고리즘 개발·상품화
- 맞춤형 하드웨어·소프트웨어 설계 및 기술 컨설팅
- 막두께 정밀 측정 서비스
- 재료 특성 분석 서비스
- 균일도 검사 서비스
- 위성 태양전지 검사
- 광전자 특성 시뮬레이션
- 막두께·굴절률 측정 시스템
- 1 nm~13 mm 비파괴 막두께 측정
- 굴절률 n&k·색상·표면 거칠기 측정
- 광학 프로파일러 공급
- 저항 측정 시스템 공급
- 나노인덴터 공급
- 금속막 두께·균일도 분포 측정
- 이온 도핑·주입 농도 특성화
- 접촉식 4점 프로브 4PP 저항 측정
- 비접촉 와전류 EC 저항 측정
- 면저항·막두께·비저항 분포 맵 측정
- 2D/3D 측정 결과 시각화·분석
- Industry 4.0 지능형 특성 측정·분석 플랫폼
- 신뢰성 시험 서비스