기본 정보
| 부스 | K2476 |
| 웹사이트 | www.kctech.com/eng |
회사 소개
KC Tech Co., Ltd.는 반도체, 디스플레이 및 소재 시장을 지원하는 한국 공급업체이며 회사 정보는 경기도 안성시와 연결되어 있습니다. KC Tech는 Semiconductor Equipment, Display Equipment, Materials의 세 가지 주요 사업 영역을 제시하여 생산 장비와 관련 공정 소재를 연결한 사업 구조를 갖습니다. 기업 메시지는 customer satisfaction과 technological development를 ceaseless R&D와 연결하며 Knowledge, Creativity & Technology라는 표현을 사용합니다. 또한 사회와 함께 행복한 미래를 만들고 sustainable management를 통해 사회에 기여한다고 밝히며 장비와 소재 사업을 더 넓은 경영 메시지 안에 둡니다. KC Tech는 1987년에 설립되어 semiconductor와 flat-panel-display equipment 분야에서 활동합니다. 반도체 고객용 사업은 wafer-surface processing과 cleaning equipment에 중심을 두며 display와 materials 사업은 wet-process, plasma, coating-track, consumable-material 공급을 추가합니다.
전시 제품
Semiconductor Equipment 제품군에는 CMP/Wet Cleaning System이 포함되어 반도체 공정용 CMP systems와 wet cleaning systems를 제공합니다. KC Tech의 Display Equipment 제품군은 Wet Station/APP/CO2 Cleaner/Coater&Track System으로 제시되며 wet stations, atmospheric pressure plasma, CO2 cleaners, coater-and-track equipment를 디스플레이용 장비 범주로 묶습니다. Materials 제품군은 CMP Slurry/Nano Dispersion으로 장비 사업과 함께 CMP slurry 및 nano-dispersion products를 제공합니다. 반도체 제조에서는 CMP와 wet cleaning equipment의 조합이 wafer surface processing과 cleaning에 대응하고 CMP slurry는 같은 넓은 공정 영역에 관련된 소모성 소재를 공급합니다. 디스플레이 제조에서는 Wet Station, APP, CO2 Cleaner, Coater&Track System이 별도 장비군을 구성하여 회사가 명시한 wet processing, atmospheric-pressure-plasma functions, CO2 cleaning, coating-track operations를 지원합니다. Nano Dispersion은 CMP Slurry와 함께 Materials 사업에 포함되어 소재 제품을 Semiconductor Equipment 및 Display Equipment 범주와 구분합니다. 세 사업군은 반도체 장비의 CMP와 wet cleaning, 디스플레이 장비의 Wet Station/APP/CO2 Cleaner/Coater&Track System, 소재의 CMP Slurry/Nano Dispersion으로 이어지는 공급 범위를 보여줍니다. 이 포트폴리오는 surface processing 및 cleaning equipment, display-process equipment, process materials를 연결하여 KC Tech가 제시한 semiconductor, display, materials 시장 초점과 일치합니다.
역량 및 제품
- CMP 장비
- 반도체 습식 세정 장비
- 디스플레이 Wet Station
- 디스플레이 APP 장비
- CO2 세정 장비
- Coater & Track 시스템
- CMP Slurry 소재
- 나노 분산 소재