基本情報
| ブース | K2476 |
| ウェブサイト | www.kctech.com/eng |
会社概要
KC Tech Co., Ltd.は、半導体、ディスプレイ、材料市場に対応する韓国のサプライヤーで、会社情報は京畿道安城市と関連付けられています。KC TechはSemiconductor Equipment、Display Equipment、Materialsの3つを主要事業として示し、生産装置と関連プロセス材料を結び付けた事業構成を持ちます。企業メッセージではcustomer satisfactionとtechnological developmentをceaseless R&Dに結び付け、Knowledge, Creativity & Technologyという表現を用いています。また、社会とともに幸せな未来を築き、sustainable managementを通じて社会に貢献するとし、装置・材料事業をより広い経営メッセージの中に位置付けています。KC Techは1987年に設立され、semiconductorとflat-panel-display equipmentに携わっています。半導体向けにはwafer-surface processingとcleaning equipmentを中心とし、displayとmaterials事業でwet-process、plasma、coating-track、consumable-materialを加えています。
展示製品
Semiconductor EquipmentにはCMP/Wet Cleaning Systemが含まれ、半導体プロセス向けのCMP systemsとwet cleaning systemsを提供します。KC TechのDisplay EquipmentはWet Station/APP/CO2 Cleaner/Coater&Track Systemとされ、wet stations、atmospheric pressure plasma、CO2 cleaners、coater-and-track equipmentをディスプレイ向け装置群としてまとめています。MaterialsはCMP Slurry/Nano Dispersionで、装置事業に加えてCMP slurryとnano-dispersion productsを提供します。半導体製造ではCMPとwet cleaning equipmentの組み合わせがwafer surface processingとcleaningに対応し、CMP slurryが同じ広い工程領域に関連する消耗材料を供給します。ディスプレイ製造ではWet Station、APP、CO2 Cleaner、Coater&Track Systemが別の装置群を構成し、同社が挙げるwet processing、atmospheric-pressure-plasma functions、CO2 cleaning、coating-track operationsをカバーします。Nano DispersionはCMP SlurryとともにMaterials事業に位置し、Semiconductor EquipmentとDisplay Equipmentから材料製品を区別しています。3つの事業群は、半導体装置のCMPとwet cleaning、ディスプレイ装置のWet Station/APP/CO2 Cleaner/Coater&Track System、材料のCMP Slurry/Nano Dispersionという連続した供給範囲を示します。このポートフォリオはsurface processingとcleaning equipment、display-process equipment、process materialsを結び付け、KC Techが示すsemiconductor、display、materials市場への重点と一致します。
対応領域・製品
- CMP装置
- 半導体ウェット洗浄装置
- ディスプレイ用Wet Station
- ディスプレイ用APP装置
- CO2洗浄装置
- Coater & Trackシステム
- CMP Slurry材料
- ナノ分散材料