基本資料
| 攤位 | K2476 |
| 網站 | www.kctech.com/eng |
公司簡介
KC Tech Co., Ltd. 是一家位於韓國、服務半導體、顯示器與材料市場的供應商，公司資訊與京畿道安城市相連。KC Tech 呈現三個主要業務領域：Semiconductor Equipment、Display Equipment 與 Materials，使公司以製造設備搭配相關製程材料形成業務架構。其企業訊息把 customer satisfaction 與 technological development 連結到 ceaseless R&D，並使用 Knowledge, Creativity & Technology 作為公司表述。KC Tech 也表示要與社會共同創造幸福未來，並透過 sustainable management 貢獻社會，使設備與材料業務置於這套整體管理理念中。KC Tech 成立於 1987 年，從事 semiconductor 與 flat-panel-display equipment。對半導體使用者而言，公司業務重點在 wafer-surface processing 與 cleaning equipment；display 與 materials 業務則增加 wet-process、plasma、coating-track 與 consumable-material 供應。
展出產品
Semiconductor Equipment 產品線包括 CMP/Wet Cleaning System，涵蓋半導體製程使用的 CMP systems 與 wet cleaning systems。KC Tech 的 Display Equipment 產品線列為 Wet Station/APP/CO2 Cleaner/Coater&Track System，把 wet stations、atmospheric pressure plasma、CO2 cleaners 與 coater-and-track equipment 組成一個顯示器設備類別。Materials 產品線為 CMP Slurry/Nano Dispersion，在設備業務之外提供 CMP slurry 與 nano-dispersion products。對半導體製造而言，CMP 與 wet cleaning equipment 的組合對應 wafer surface processing 與 cleaning，而 CMP slurry 則在相同較大製程領域中提供相關耗材。對顯示器製造而言，Wet Station、APP、CO2 Cleaner 與 Coater&Track System 構成另一組設備，分別涵蓋公司所列的 wet processing、atmospheric-pressure-plasma functions、CO2 cleaning 與 coating-track operations。Nano Dispersion 與 CMP Slurry 同屬 Materials 業務，使 KC Tech 的材料產品與 Semiconductor Equipment、Display Equipment 類別清楚區分。三大業務群因此形成連續的供應範圍：半導體設備為 CMP 與 wet cleaning，顯示設備為 Wet Station/APP/CO2 Cleaner/Coater&Track System，材料則為 CMP Slurry/Nano Dispersion。這套產品組合把 surface processing 與 cleaning equipment、display-process equipment 及 process materials 連結起來，對應 KC Tech 所表述的 semiconductor、display 與 materials 市場重點。
能力與產品項目
- CMP 設備
- 半導體濕式清洗設備
- 顯示器 Wet Station
- 顯示器 APP 設備
- CO2 清洗設備
- Coater & Track 系統
- CMP Slurry 材料
- 奈米分散材料