基本情報
| ブース | L0500 |
| 国 | TW |
| ウェブサイト | jusung.com/eng/document/semiconductor |
会社概要
JUSUNG ENGINEERING CO., LTD. TAIWAN BRANCH (SOUTH KOREA)は韓国Jusung Engineeringの台湾支店で、半導体生産装置と関連技術支援をつなぐ現地のサービス・販売拠点です。Jusung Engineeringは、前工程の中核技術を通じて韓国の半導体、ディスプレイ、太陽電池製造装置のグローバル化を進めてきたとしています。成長はイノベーションによるものと説明し、1990年代初頭に韓国で半導体製造装置部品の生産能力が限られていた時期からの発展を示しています。事業は半導体、ディスプレイ、太陽電池装置に広がり、半導体では重要な「成膜」工程の装置を製造します。半導体装置ポートフォリオは極限条件下でも均一な膜質を形成し、超微細DRAM、3D NAND、Logicを含む工程で生産性を高めるとしています。ディスプレイでは韓国初のDisplay PE CVDの開発・量産成功とパネル大型化技術をマイルストーンとし、超高精細、フレキシブル、ウェアラブル、透明OLEDを実現するALD/CVD装置を提供します。太陽電池では韓国で初めて薄膜型・結晶型のセルおよびモジュール工程を構築し、SingleとTandem junction向け装置を展開しています。2025年の数値として、R&D人員比率62.4%と特許3,350件を掲載しています。台湾支店はこの親会社の装置・R&D背景を基盤に台湾の半導体顧客との現地接点を担い、独立した台湾製造事業ではありません。半導体事業はメモリ・非メモリ双方の需要に対応し、半導体ALDコア技術をディスプレイおよび太陽光技術分野にもつなげています。
展示製品
半導体製品にはSDP System (ALD & CVD)、Guidance Series (ALD & CVD)、Eurekaがあり、メモリと非メモリの多様な用途に対応します。SDP Systemはzero-damageの概念を用いて生産性を高めるプラズマ装置で、1つのチャンバーで5–6枚のウエハに同時成膜できます。JusungのALD装置は複雑な下部構造にかかわらず300°C以下で、超微細DRAM、200+層3D NAND、sub-10nm Logicに均一で高品質な薄膜を形成できます。Tech-Migrationの加速に伴い狭い空間での精密な薄膜制御が重要となり、ALDコア技術はメモリ・非メモリ双方の要求に対応します。ALDの特性としてDeposition Temperature Free、Particle & Contamination Free、Physical Properties Control、Electrical Properties Control、Interface Control、Step Coverage Control、Selective Deposition、Optical Properties Control、Designable、Grain Condition Controlが挙げられています。Guidance Seriesは幅広いprocess windowに対応する次世代装置で、Step Coverage比率と膜Stressを調整できます。space-time modulationによりRecipeの柔軟性を持たせ、最新Deviceが必要とする条件を効率的に実現します。Eurekaは超高純度の成膜を可能にする次世代装置で、Epiツールとして成膜速度を高め生産効率を向上させます。ポートフォリオはALDとCVDの薄膜成膜装置を含み、メモリ・非メモリ用途に対応します。ALD技術は電気エネルギーを光に変換するディスプレイ技術と、光を電気に変換する太陽光技術にも統合されます。より広い事業では超微細DRAM、3D NAND、Logicの成膜を支え、ALD/CVD装置はフレキシブル、ウェアラブル、透明OLEDなどの表示用途にも対応します。薄膜品質、工程制御、Step Coverage、膜Stress、Recipe柔軟性、成膜速度、生産性が装置群の主要な技術要素です。
対応領域・製品
- 半導体ALD/CVD SDP System
- 半導体ALD/CVD Guidance Series
- EurekaエピタキシャルEpi成膜装置
- メモリ・非メモリ向け薄膜成膜装置